一种加压水洗机构的制作方法

本技术涉及半导体制造，具体为一种加压水洗机构。

背景技术：

1、在半导体制造行业中，随着功率半导体的快速发展，在第三代半导体碳化硅芯片具有禁带宽度带、热导率高等特点，市场上两种主流陶瓷铜基板加工方法：dbc和amb，我国的高速铁路、城市轨道交通、新能源汽车、智能电网和风能发电等项目成为未来几年的“绿色经济”的热点，amb技术能更适应高难度、高热、高载流能力的要求。amb产品的铜和陶瓷是用活性金属钎料钎焊的，需要额外的丝印工艺， 钎焊进行将活性金属均匀地置于陶瓷基板上，对于带有额外金属钎焊层的amb产品则需要进行额外的蚀刻工艺去除钎料。

2、在amb产品的生产过程中需要对齐进行对此多次清洗，而现有的水洗机构一般适配采用垂直连续蚀刻方法进行蚀刻加工的amb生产线，通过使用滚轮传送amb产品的生产线不适用。

3、为此，我们提出一种加压水洗机构。

技术实现思路

1、本实用新型的目的在于提供一种加压水洗机构，以解决上述背景技术中提出的问题。

2、为实现上述目的，本实用新型提供如下技术方案：一种加压水洗机构，包括固定架，所述固定架的内部固定安装有清洗箱，所述固定架的内部转动连接有贯穿清洗箱中部的传输滚轮，所述固定架的后侧固定安装有设备架，所述清洗箱的内部固定安装有位于传输滚轮上下两侧的安装管，两排所述安装管的相对面固定安装有清洗喷嘴，所述设备架的顶部固定安装有加压水泵，所述加压水泵的出水口固定安装有连接管，所述连接管的中部设置有电控阀，所述连接管的另一端与安装管连通设置。

3、可选的，所述固定架底部的四角螺纹连接有螺纹柱，所述螺纹柱的底部一体连接有支撑地脚，所述支撑地脚的底部设置有防滑垫。

4、可选的，所述清洗箱内部的顶部固定安装有防溅架，两个所述防溅架位于上层清洗喷嘴的两侧，所述防溅架的底部与传输滚轮顶部的距离小于清洗喷嘴至传输滚轮的距离。

5、可选的，上小两排所述清洗喷嘴对称设置，所述清洗喷嘴的喷水轴线为垂线，所述清洗喷嘴的中线与相邻两根传输滚轮的对称轴重合。

6、可选的，位于所述清洗喷嘴朝向方向的两个相邻传输滚轮的水平距离大于其他传输滚轮之间的水平距离。

7、可选的，述防溅架下半部分的宽度大于上半部分的宽度，所述清洗喷嘴的底部低于防溅架中部的高度。

8、可选的，所述清洗箱的底部一体设置有与排污管连接的排水管，所述传输滚轮为水平设置的双排滚轮，上下两排所述传输滚轮对称设置。

9、与现有技术相比，本实用新型的有益效果是：

10、该加压水洗机构，通过设置清洗箱对amb产品进行清洗，通过两排的传输滚轮对amb产品进行水平传输，通过传输滚轮将amb产品传输进清洗箱内部，同时加压水泵将供水设备提供的清洗水进行加压，再通过连接管输送进安装管，再由清洗喷嘴喷出，清洗水柱从两个相邻的传输滚轮之间喷在amb产品的上下两面进行清洗，使得水洗机构能够对amb产品的两面同时进行清洗，并且适用于水平传输的amb产品生产线。

11、该加压水洗机构，通过设置清洗箱与防溅架，当上方的清洗喷嘴喷出清洗水柱至amb产品的上表面时，溅出的水通过防溅架进行防护，防止溅出的水再滴落在amb产品上，同时设置的清洗箱对清洗后的清洗液进行收集并排出。

技术特征：

1.一种加压水洗机构，包括固定架（1），其特征在于，所述固定架（1）的内部固定安装有清洗箱（2），所述固定架（1）的内部转动连接有贯穿清洗箱（2）中部的传输滚轮（3），所述固定架（1）的后侧固定安装有设备架（7），所述清洗箱（2）的内部固定安装有位于传输滚轮（3）上下两侧的安装管（4），两排所述安装管（4）的相对面固定安装有清洗喷嘴（5），所述设备架（7）的顶部固定安装有加压水泵（8），所述加压水泵（8）的出水口固定安装有连接管（9），所述连接管（9）的中部设置有电控阀（10），所述连接管（9）的另一端与安装管（4）连通设置。

2.根据权利要求1所述的一种加压水洗机构，其特征在于，所述固定架（1）底部的四角螺纹连接有螺纹柱（11），所述螺纹柱（11）的底部一体连接有支撑地脚（12），所述支撑地脚（12）的底部设置有防滑垫。

3.根据权利要求1所述的一种加压水洗机构，其特征在于，所述清洗箱（2）内部的顶部固定安装有防溅架（6），两个所述防溅架（6）位于上层清洗喷嘴（5）的两侧，所述防溅架（6）的底部与传输滚轮（3）顶部的距离小于清洗喷嘴（5）至传输滚轮（3）的距离。

4.根据权利要求3所述的一种加压水洗机构，其特征在于，上小两排所述清洗喷嘴（5）对称设置，所述清洗喷嘴（5）的喷水轴线为垂线，所述清洗喷嘴（5）的中线与相邻两根传输滚轮（3）的对称轴重合。

5.根据权利要求4所述的一种加压水洗机构，其特征在于，位于所述清洗喷嘴（5）朝向方向的两个相邻传输滚轮（3）的水平距离大于其他传输滚轮（3）之间的水平距离。

6.根据权利要求3所述的一种加压水洗机构，其特征在于，所述防溅架（6）下半部分的宽度大于上半部分的宽度，所述清洗喷嘴（5）的底部低于防溅架（6）中部的高度。

7.根据权利要求1所述的一种加压水洗机构，其特征在于，所述清洗箱（2）的底部一体设置有与排污管连接的排水管，所述传输滚轮（3）为水平设置的双排滚轮，上下两排所述传输滚轮（3）对称设置。

技术总结本技术公开了一种加压水洗机构，包括固定架，所述固定架的内部固定安装有清洗箱，所述固定架的内部转动连接有贯穿清洗箱中部的传输滚轮，所述固定架的后侧固定安装有设备架，所述清洗箱的内部固定安装有位于传输滚轮上下两侧的安装管，两排所述安装管的相对面固定安装有清洗喷嘴，所述设备架的顶部固定安装有加压水泵，所述加压水泵的出水口固定安装有连接管，所述连接管的中部设置有电控阀，所述连接管的另一端与安装管连通设置。通过设置清洗箱对AMB产品进行清洗，由清洗喷嘴喷出的清洗水柱从两个相邻的传输滚轮之间喷在AMB产品的上下两面同时进行清洗，并且适用于水平传输的AMB产品生产线。技术研发人员：郑鹏征受保护的技术使用者：深圳市荣华安骏机电设备有限公司技术研发日：20230831技术公布日：2024/7/11