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一种轴承套圈的清洗支架的制作方法

  • 国知局
  • 2024-07-29 13:11:32

本技术涉及轴承加工,具体为一种轴承套圈的清洗支架。

背景技术:

1、轴承套圈在加工完成后,需要进行彻底的清洗后才能够进行装配工作。目前最常用的方式为喷淋清洗,利用高压水泵将清洗液喷射到工件表面,将粘附在工件表面的油污、铁屑剥离下来的倾斜方法完成清洗工作。

2、传统的喷淋清洗方式是将轴承套圈放在清洗篮内进行冲洗,但是,由于轴承套圈相互叠放在篮子内,导致位于底部的轴承套圈清洗不彻底。为此,专利cn214052826u公开了一种轴承套圈的清洗支架,将轴承套圈并排悬空放置,在冲洗过程中能够防止轴承套圈上下遮挡导致冲洗不彻底的问题,提高了清洗效果。在使用时,需要将轴承套圈逐个放在穿杆的隔离槽内,清洗完毕后,需要将轴承套圈逐个取下,使得轴承套圈在上、下料时比较慢,影响了清洗效率。

技术实现思路

1、本实用新型就是针对现有技术存在的上述不足,提供一种轴承套圈的清洗支架,通过定位块对轴承套圈进行支撑与定位,从而方便了轴承套圈与悬挂杆配合与分离的便利性,提高了轴承套圈上、下料的速度,节省了时间,提高了效率。

2、为实现上述目的,本实用新型提供如下技术方案:

3、一种轴承套圈的清洗支架,包括悬挂杆,所述悬挂杆的两端通过支撑架进行支撑,所述支撑架安装在底板上,所述底板的底部设有支撑腿,悬挂杆上套有定位轴承套圈的挡环,所述挡环成对布置,每一对挡环之间设有间距,所述支撑架的一侧设有与支撑架连接的托板,所述托板的上端定位块,所述定位块的上端设有固定轴承套圈的定位槽,相邻定位槽之间的间距与成对挡环之间的间距相同。

4、优选的,所述底板上设有落水孔。

5、优选的,所述支撑架包括与底板连接的支撑杆,所述支撑杆的上端设有支撑槽,所述悬挂杆的两端设有与支撑槽配合的卡槽。

6、优选的,所述托板的两端通过托杆与支撑杆连接,托杆的下端通过顶杆与底板连接。

7、优选的,所述定位槽为v型结构,定位槽的宽度不大于两个挡环之间的距离。

8、优选的,所述定位槽的底部设有漏水孔。

9、优选的,所述定位块的高度不高于支撑杆高度的一半。

10、与现有技术相比,本实用新型的有益效果是:

11、1、本实用新型通过定位块对轴承套圈进行支撑与定位,从而方便了轴承套圈与悬挂杆配合与分离的便利性,提高了轴承套圈上、下料的速度,节省了时间,提高了效率。

12、2、本实用新型在定位槽的底部设置漏水孔,能够防止定位槽内存留清洗液,防止对轴承套圈造成二次污染。

13、3、本实用新型通过支撑架对悬挂杆进行支撑,能够防止轴承套圈被遮挡,提高清洗的效果。

技术特征:

1.一种轴承套圈的清洗支架,包括悬挂杆,其特征在于:所述悬挂杆的两端通过支撑架进行支撑,所述支撑架安装在底板上,所述底板的底部设有支撑腿,悬挂杆上套有定位轴承套圈的挡环,所述挡环成对布置,每一对挡环之间设有间距,所述支撑架的一侧设有与支撑架连接的托板,所述托板的上端定位块,所述定位块的上端设有固定轴承套圈的定位槽,相邻定位槽之间的间距与成对挡环之间的间距相同。

2.如权利要求1所述的一种轴承套圈的清洗支架,其特征在于:所述底板上设有落水孔。

3.如权利要求1所述的一种轴承套圈的清洗支架,其特征在于:所述支撑架包括与底板连接的支撑杆,所述支撑杆的上端设有支撑槽,所述悬挂杆的两端设有与支撑槽配合的卡槽。

4.如权利要求3所述的一种轴承套圈的清洗支架,其特征在于:所述托板的两端通过托杆与支撑杆连接,托杆的下端通过顶杆与底板连接。

5.如权利要求1所述的一种轴承套圈的清洗支架,其特征在于:所述定位槽为v型结构,定位槽的宽度不大于两个挡环之间的距离。

6.如权利要求5所述的一种轴承套圈的清洗支架,其特征在于:所述定位槽的底部设有漏水孔。

7.如权利要求3所述的一种轴承套圈的清洗支架,其特征在于:所述定位块的高度不高于支撑杆高度的一半。

技术总结本技术涉及轴承加工技术领域,具体公开了一种轴承套圈的清洗支架,包括悬挂杆,所述悬挂杆的两端通过支撑架进行支撑,所述支撑架安装在底板上,所述底板的底部设有支撑腿,悬挂杆上套有定位轴承套圈的挡环,所述挡环成对布置,每一对挡环之间设有间距,所述支撑架的一侧设有与支撑架连接的托板,所述托板的上端定位块,所述定位块的上端设有固定轴承套圈的定位槽,相邻定位槽之间的间距与成对挡环之间的间距相同;通过定位块对轴承套圈进行支撑与定位,从而方便了轴承套圈与悬挂杆配合与分离的便利性,提高了轴承套圈上、下料的速度,节省了时间,提高了效率。技术研发人员:刘宗凯受保护的技术使用者:山东恩威轴承有限公司技术研发日:20231117技术公布日:2024/7/18

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