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一种用于团簇束流沉积的超高真空腔体的制作方法

  • 国知局
  • 2024-07-27 12:28:30

本实用新型涉及一种用于团簇束流沉积的超高真空腔体。

背景技术:

在对纳米材料进行团簇束流沉积实验中,必须用到超高真空腔体来构建一个真空密闭的实验空间,现有的超高真空腔体体积大,重量重,移动较为不便,而且法兰接口的布置较为杂乱,导致操作也较为不便,有待于进一步改进。

技术实现要素:

针对上述现有技术的现状,本实用新型所要解决的技术问题在于提供一种体积小,重量轻,便于移动,且利于操作的用于团簇束流沉积的超高真空腔体。

本实用新型解决上述技术问题所采用的技术方案为:一种用于团簇束流沉积的超高真空腔体,包括圆柱形腔体,其特征在于,所述圆柱形腔体的前后两端开口处均设有一个第一法兰接口,两个所述第一法兰接口的外侧均设有一个第二法兰接口,所述圆柱形腔体的上下两侧分别设有互为对角设置的第三法兰接口和第四法兰接口;所述圆柱形腔体的左右两侧均设有一个第五法兰接口和一个第六法兰接口,所述第六法兰接口设于第五法兰接口的后侧;所述圆柱形腔体的上侧还设有第七法兰接口,所述第七法兰接口设于第三法兰接口的后侧;所述圆柱形腔体的左右两侧还分别设有第八法兰接口和第九法兰接口,所述第九法兰接口设于第三法兰接口和右侧的一个第五法兰接口之间,所述第八法兰接口设于第三法兰接口和左侧的一个第五法兰接口之间。

优选地,所述圆柱形腔体采用型号为316l的无缝不锈钢管制成。

优选地,所述第三法兰接口、所述第四法兰接口、所述第七法兰接口、所述第八法兰接口、所述第九法兰接口、两个所述第一法兰接口、两个所述第五法兰接口、两个所述第六法兰接口和两个所述第二法兰接口均采用型号为304的不锈钢管制成。

优选地,还包括连接板;所述连接板横向固定在第四法兰接口的下端开口处外侧。

与现有技术相比,本实用新型的优点在于:本实用新型体积小,重量轻,便于移动,且法兰接口的布置整齐合理,利于操作。

附图说明

图1为本实用新型的右前侧结构图。

具体实施方式

如图1所示,一种用于团簇束流沉积的超高真空腔体,包括圆柱形腔体1,圆柱形腔体1的前后两端开口处均设有一个第一法兰接口2,两个第一法兰接口2的外侧均设有一个第二法兰接口9,圆柱形腔体1的上下两侧分别设有互为对角设置的第三法兰接口10和第四法兰接口3;圆柱形腔体1的左右两侧还均设有一个第五法兰接口8和一个第六法兰接口5,第六法兰接口5设于第五法兰接口8的后侧,圆柱形腔体1的上侧还设有第七法兰接口6,第七法兰接口6设于第三法兰接口10的后侧,圆柱形腔体1的左右两侧还分别设有第八法兰接口7和第九法兰接口4,第九法兰接口4设于第三法兰接口10和右侧的一个第五法兰接口8之间,第八法兰接口7设于第三法兰接口10和左侧的一个第五法兰接口8之间;圆柱形腔体1采用型号为316l的无缝不锈钢管制成,第三法兰接口10、第四法兰接口3、第七法兰接口6、第八法兰接口7、第九法兰接口4、两个第一法兰接口2、两个第五法兰接口8、两个第六法兰接口5和两个第二法兰接口9均采用型号为304的不锈钢管制成。

在本实用新型的一个优选实施例中,一种用于团簇束流沉积的超高真空腔体还包括连接板11;连接板11横向固定在第四法兰接口3的下端开口处外侧。

使用时,将连接板11固定在指定位置处,以通过第四法兰接口3固定住圆柱形腔体1,再将静电透镜固定在前侧的一个第一法兰接口2中并与设在前侧的另一个圆柱形腔体1的后端构成差分结构;将液氮通过后侧的一个第一法兰接口2接入到圆柱形腔体1内,并将低温冷台的二维移动支撑及接电口也引入到后侧的一个第一法兰接口2中;第三法兰接口10和两个第六法兰接口5均正对腔室中心,分别用来作为外部接电口的引入以及加热样品台的二维移动及支撑;第七法兰接口6、第八法兰接口7、第五法兰接口8和第二法兰接口9均正对腔室,分别用来接真空测量设备、膜厚仪和作为在超高真空的环境下对样品进行转移的接入口;第九法兰接口4正对腔室,用来观察内部沉积情况;第四法兰接口3正对腔室,用来安装分子泵;完成上述各项步骤后,开始对圆柱形腔体1内进行抽真空以达到实验所需的条件,之后就能开始实验了。

在对纳米材料进行团簇束流沉积实验中,必须用到超高真空腔体来构建一个真空密闭的实验空间,现有的超高真空腔体体积大,重量重,移动较为不便,而且法兰接口的布置较为杂乱,导致操作也较为不便;本实用新型体积小,重量轻,便于移动,且法兰接口的布置整齐合理,利于操作。

最后应说明的是:以上实施例仅用以说明本实用新型的技术方案,而非对其限制;尽管参照前述实施例对本实用新型进行了详细的说明,本领域的技术人员应当理解,其依然可以对前述各实施例所记载的技术方案进行修改,或者对其中部分技术特征进行同等替换;而这些修改或者替换,并不使相应技术方案的本质脱离本实用新型各实施例技术方案的精神与范围。

技术特征:

1.一种用于团簇束流沉积的超高真空腔体,包括圆柱形腔体,其特征在于,所述圆柱形腔体的前后两端开口处均设有一个第一法兰接口,两个所述第一法兰接口的外侧均设有一个第二法兰接口,所述圆柱形腔体的上下两侧分别设有互为对角设置的第三法兰接口和第四法兰接口;所述圆柱形腔体的左右两侧均设有一个第五法兰接口和一个第六法兰接口,所述第六法兰接口设于第五法兰接口的后侧;所述圆柱形腔体的上侧还设有第七法兰接口,所述第七法兰接口设于第三法兰接口的后侧;所述圆柱形腔体的左右两侧还分别设有第八法兰接口和第九法兰接口,所述第九法兰接口设于第三法兰接口和右侧的一个第五法兰接口之间,所述第八法兰接口设于第三法兰接口和左侧的一个第五法兰接口之间。

2.根据权利要求1所述的一种用于团簇束流沉积的超高真空腔体,其特征在于,所述圆柱形腔体采用型号为316l的无缝不锈钢管制成。

3.根据权利要求1所述的一种用于团簇束流沉积的超高真空腔体,其特征在于,所述第三法兰接口、所述第四法兰接口、所述第七法兰接口、所述第八法兰接口、所述第九法兰接口、两个所述第一法兰接口、两个所述第五法兰接口、两个所述第六法兰接口和两个所述第二法兰接口均采用型号为304的不锈钢管制成。

4.根据权利要求1所述的一种用于团簇束流沉积的超高真空腔体,其特征在于,还包括连接板;所述连接板横向固定在第四法兰接口的下端开口处外侧。

技术总结本实用新型涉及一种用于团簇束流沉积的超高真空腔体,包括圆柱形腔体,圆柱形腔体的前后两端开口处均设有一个第一法兰接口,两个第一法兰接口的外侧均设有一个第二法兰接口,圆柱形腔体的上下两侧分别设有互为对角设置的第三法兰接口和第四法兰接口;圆柱形腔体的左右两侧还均设有一个第五法兰接口和一个第六法兰接口,圆柱形腔体的上侧还设有第七法兰接口,圆柱形腔体的左右两侧还分别设有第八法兰接口和第九法兰接口;本实用新型体积小,重量轻,便于移动,且法兰接口的布置整齐合理,利于操作。技术研发人员:汤忠喜;王协彬受保护的技术使用者:探普(南京)工业科技有限公司技术研发日:2020.01.14技术公布日:2020.10.09

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