一种MEMS晶圆真空贴膜装置的制作方法
- 国知局
- 2024-11-12 14:04:30
本技术涉及晶圆贴膜,特别涉及一种mems晶圆真空贴膜装置。
背景技术:
1、随着半导体芯片技术的发展,ic封装技术也快速发展。mems芯片是一种比较特殊的半导体芯片,其不仅具有常规的ic电路部分,还在芯片上集成了微机械结构,因此相对常规的ic封装,mems芯片对封装的工艺要求更高。
2、由于常规的ic晶圆在切割前的贴膜过程中,可通过在芯片背面滚压的方式进行贴膜;而mems芯片因为有微机械结构(微机械结构不能受力),从而无法直接通过常规的滚压方式进行贴膜,因此mems芯片通常采用手动贴膜或者真空吸附的方式进行贴膜,但是两者均存在不同程度的缺陷,手动贴膜效率较低,人为不可控因素较多;真空吸附会引入不同程度的气泡。
3、因此,需要设计一种改善上述问题的mems晶圆真空贴膜装置。
技术实现思路
1、本实用新型的目的在于克服现有技术的缺陷,提供一种mems晶圆真空贴膜装置。
2、本实用新型提供了一种mems晶圆真空贴膜装置,包括贴膜平台及片环;
3、所述贴膜平台包括基座及吸附盘,所述吸附盘安装在所述基座的上表面;
4、所述片环套设于所述吸附盘的外周壁上,所述片环用于将待贴的膜覆于所述吸附盘上;所述吸附盘上端设置有圆环状第一凸台,所述片环套设于所述第一凸台的外周壁上,用于将待贴的膜覆于所述吸附盘和所述片环上;所述第一凸台内设置有若干与mems晶圆正面的ic电路部分接触的圆柱状第二凸台,用于避开mems晶圆的mems且支撑mems晶圆,以使所述支撑mems晶圆的背面与所述膜的上表面接触;
5、进一步,所述第二凸台的高度为2-3mm,所述第二凸台直径为2-5mm;
6、进一步,所述第一凸台的高度高于所述第二凸台;
7、进一步,所述第二凸台为聚四氟乙烯凸台;
8、进一步,所述第一凸台设置有用于抽真空的气孔;
9、进一步,所述mems晶圆真空贴膜装置还包括抽真空机构,所述抽真空机构包括真空腔和真空泵;
10、所述贴膜平台、所述片环、所述膜和所述mems晶圆均设于所述真空腔内;所述真空泵用于抽取所述真空腔内的空气,以将所述膜与所述mems晶圆之间的空气抽出;
11、进一步,所述mems晶圆真空贴膜装置还包括位于所述真空腔上方的滚轮,所述滚轮为长筒状结构;用于对所述mems晶圆的背面进行滚压;
12、与现有技术相比,本实用新型的有益效果在于:
13、(1)本实用新型贴膜装置设置贴膜平台,贴膜平台包括基座及吸附盘,吸附盘上端若干与mems晶圆正面的ic电路部分接触圆柱状第二凸台,用于避开mems晶圆的mems且支撑mems晶圆,避免了在贴膜时,mems晶圆中部mems受到压力,使所述支撑mems晶圆的背面与所述膜的上表面接触,使贴膜效率高;
14、(2)本实用新型设置抽真空机构,抽真空机构包括真空腔和真空泵,贴膜平台、皮环、膜和mems晶圆均设于真空腔内,真空泵用于抽取真空腔内的空气,以将膜与mems晶圆之间的空气抽出,从而使晶圆的正面与膜紧密贴合,使得贴膜时不会产生气泡。
技术特征:1.一种mems晶圆真空贴膜装置,其特征在于,包括贴膜平台(1)及片环(2);
2.根据权利要求1所述的一种mems晶圆真空贴膜装置,其特征在于,
3.根据权利要求2所述的一种mems晶圆真空贴膜装置,其特征在于,
4.根据权利要求3所述的一种mems晶圆真空贴膜装置,其特征在于,
5.根据权利要求1所述的一种mems晶圆真空贴膜装置,其特征在于,
6.根据权利要求1所述的一种mems晶圆真空贴膜装置,其特征在于,
7.根据权利要求6所述的一种mems晶圆真空贴膜装置,其特征在于,
技术总结本技术涉及晶圆贴膜技术领域,特别涉及一种MEMS晶圆真空贴膜装置,包括贴膜平台及片环;所述贴膜平台包括基座及吸附盘,所述吸附盘安装在所述基座的上表面;所述吸附盘上端设置有圆环状第一凸台,所述片环套设于所述第一凸台的外周壁上,用于将待贴的膜覆于所述吸附盘和所述片环上;所述第一凸台内设置有若干与MEMS晶圆正面的IC电路部分接触的圆柱状第二凸台,用于避开MEMS晶圆的MEMS且支撑MEMS晶圆,以使所述支撑MEMS晶圆的背面与所述膜的上表面接触;本技术贴膜装置设置贴膜平台、片环和抽真空机构,贴膜时MEMS晶圆中部MEMS不会受到压力,贴膜效率高,且贴膜时不会产生气泡。技术研发人员:王莹受保护的技术使用者:西安英孚瑞科技有限公司技术研发日:20240329技术公布日:2024/11/7本文地址:https://www.jishuxx.com/zhuanli/20241112/327184.html
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