技术特征：
1.光电保护膜生产线，包括涂胶装置和搅拌装置，其特征在于：还包括与所述搅拌装置连接且用于对搅拌装置进行抽真空处理的抽真空装置和用于将来自搅拌装置的胶液输送至所述涂胶装置的胶液输送装置，胶液输送装置与涂胶装置和搅拌装置连接。2.根据权利要求1所述的光电保护膜生产线，其特征在于：所述胶液输送装置包括与所述搅拌装置连接的第一输送管、与第一输送管连接的输送泵、与输送泵连接的第二输送管、分配器和与分配器连接的进胶管，进胶管设置多个，进胶管与所述涂胶装置的胶槽连接，各个进胶管分布在不同位置处。3.根据权利要求2所述的光电保护膜生产线，其特征在于：所述分配器具有多个出胶口，各个所述进胶管的进胶口通过第三输送管与分配器的一个出胶口连接，进胶管的进胶口的高度大于进胶管的出胶口的高度，进胶管的出胶口与所述胶槽连接。4.根据权利要求2或3所述的光电保护膜生产线，其特征在于：所述进胶管设置所述胶槽的四个侧壁上。5.根据权利要求1至4任一所述的光电保护膜生产线制备得到的防静电偏光片光电保护膜。6.根据权利要求5所述的防静电偏光片光电保护膜，其特征在于，所述防静电偏光片光电保护膜由下至上依次包括抗静电层、耐磨层、缓冲层、基膜层、粘胶层、离型膜层。7.根据权利要求6所述的防静电偏光片光电保护膜，其特征在于，所述基膜层为pet基膜层、pp基膜层、pvc基膜层、poe基膜层的任意一种。8.根据权利要求6所述的防静电偏光片光电保护膜，其特征在于，所述基膜层的厚度为10～100μm。9.根据权利要求6所述的防静电偏光片光电保护膜，其特征在于，所述抗静电层、耐磨层、缓冲层的厚度分别为5～10μm。10.根据权利要求6所述的防静电偏光片光电保护膜，其特征在于，所述粘胶层的厚度为2～5μm。
技术总结
本发明公开了一种光电保护膜生产线，包括涂胶装置、搅拌装置、与搅拌装置连接且用于对搅拌装置进行抽真空处理的抽真空装置和用于将来自搅拌装置的胶液输送至所述涂胶装置的胶液输送装置，胶液输送装置与涂胶装置和搅拌装置连接。本发明的光电保护膜生产线，通过设置抽真空装置对搅拌装置进行抽真空处理，去除胶液中的气泡，提高防静电偏光片光电保护膜的良率。本发明还公开了一种防静电偏光片光电保护膜。护膜。护膜。
技术研发人员：费志豪 贾良久
受保护的技术使用者：芜湖夏鑫新型材料科技有限公司
技术研发日：2021.07.08
技术公布日：2021/10/26
再多了解一些
本文用于企业家、创业者技术爱好者查询，结果仅供参考。
