一种用于掩膜版手动制程的装置的制作方法

1.本实用新型涉及掩膜版制造技术领域，具体涉及一种用于掩膜版手动制程的装置。


背景技术：

2.掩膜版又称光掩膜版、光罩(photo mask简称mask)，由石英玻璃作为基板衬底。首先在石英玻璃基板上镀上一层金属铬层，然后在铬层上面涂覆光阻(又称光刻胶，一种感光材料，在特定波长光的照射下其化学性质会发生改变)。把已设计好的电路图形通过电子激光设备使光阻曝光，被曝光的区域通过制程(光阻显影、铬层蚀刻)后形成与设计图一样的电路图形，从而成为类似曝光后的底片的光掩模母版。掩膜版是半导体、平板显示等行业生产制造过程中重要的关键材料。作为光刻复制图形的基准和蓝本，掩膜版是连接工业设计和工艺制造的关键，掩膜版的精度和质量水平会直接影响最终下游制品的优品率。
3.小尺寸掩膜版生产线包含光刻机、手动制程槽、手动清洗槽、自动光学检测机及缺陷修补机等多台设备。在小尺寸产线上实现掩膜版的手动制程，目前是通过一只手对产品进行夹持，然后浸入显影液或蚀刻液中进行晃动，同时另一只手拿着计时器计时，到一定时间后完成显影和蚀刻。然而在手夹持产品并晃动时，显影液会减小手与产品的摩擦力，一旦产品出现滑落并与制程槽内壁发生碰撞，会导致产品出现损伤从而报废，给公司带来财产损失。其次，员工在将手浸入制程槽液体内以后，容易将手上的particle或者脏污掉到显影液或者蚀刻液内，容易造成产品污染；最后，由于手的大小有限，每次显影或者蚀刻只能对一个产品单独进行，这对于生产线的生产效率造成了很大的局限性。故急需一种用于掩膜版手动制程的装置以克服上述问题。


技术实现要素：

4.本实用新型所要解决的技术问题是规避在掩膜版手动制程中手与掩膜版的直接接触、实现掩膜版批量蚀刻，目的在于提供一种用于掩膜版手动制程的装置，解决目前手动制程中手与掩膜版直接接触易造成污染且容易滑脱、单次只能对一个产品进行蚀刻、计时不便的问题。
5.本实用新型通过下述技术方案实现：
6.一种用于掩膜版手动制程的装置，包括：计时器，用于蚀刻计时；框架，所述框架具有若干安置槽体，安置槽体内相对的槽壁上分别开设有与掩膜版边沿适配的卡槽；与所述框架连接的助握臂，所述助握臂上设置有通信连接于计时器的传感器；工作状态下，助握臂被手部握持，当手部改变传感器监测状态时，传感器与计时器进行通讯以使计时器开始计时或结束计时。
7.本方案中，通过框架内设置的若干安置槽体实现多个掩膜版同时蚀刻；框架作为掩膜版的临时固定工具，通过设置助握臂，避免人手与掩膜版直接接触，避免了掩膜版的滑脱，同时避免了人手对掩膜版的污染，并且通过助握臂上的传感器与计时器的通讯连接，使
得工作人员不必对计时器进行单独操作，方便了蚀刻计时，保证了蚀刻用时的准确度。
8.优选的，所述若干安置槽体依次连通。
9.优选的，所述安置槽体的槽壁开有液流孔，安置槽体通过所述液流孔与所述框架的外部空间连通。
10.进一步的，所述若干安置槽体沿线性方向排布，相邻的安置槽体的槽壁分别对应平行或重合。
11.优选的，所述传感器为压力传感器。
12.优选的，所述框架为铁氟龙框架。
13.本实用新型与现有技术相比，具有如下的优点和有益效果：
14.1、本实用新型提供的一种用于掩膜版手动制程的装置，通过框架上若干安置槽体的设置，使得工作人员能够在单次蚀刻流程中对多个掩膜版或多类掩膜版进行蚀刻，提高了蚀刻效率。
15.2、本实用新型提供的一种用于掩膜版手动制程的装置，通过框架和助握臂的设置，规避了在掩膜版手动制程中人手与掩膜版的直接接触，避免了掩膜版蚀刻过程中人手与掩膜版可能出现的滑脱，避免了人手对掩膜版的污染。
16.3、本实用新型提供的一种用于掩膜版手动制程的装置，通过助握臂上设置的传感器以及传感器与计时器的配合，使得在掩膜版的手动制程中，不必对计时器单独进行计时操作，避免了蚀刻用时的漏记、延时记录、提前记录等，保证了蚀刻用时的准确度。
附图说明
17.此处所说明的附图用来提供对本实用新型实施例的进一步理解，构成本技术的一部分，并不构成对本实用新型实施例的限定。在附图中：
18.图1为本实用新型所提供的一种实施例的结构示意图；
19.图2为本实用新型所提供的一种实施例的结构示意图；
20.图3为本实用新型所提供的一种实施例的结构示意图。
21.附图中标记及对应的零部件名称：
[0022]1‑
框架，2
‑
卡槽，3
‑
助握臂，4
‑
传感器，5
‑
液流孔。
具体实施方式
[0023]
为使本实用新型的目的、技术方案和优点更加清楚明白，下面结合实施例和附图，对本实用新型作进一步的详细说明，本实用新型的示意性实施方式及其说明仅用于解释本实用新型，并不作为对本实用新型的限定。
[0024]
在以下描述中，为了提供对本实用新型的透彻理解阐述了大量特定细节。然而，对于本领域普通技术人员显而易见的是：不必采用这些特定细节来实行本本实用新型。在其他实施例中，为了避免混淆本本实用新型，未具体描述公知的结构、电路、材料或方法。
[0025]
在整个说明书中，对“一个实施例”、“实施例”、“一个示例”或“示例”的提及意味着：结合该实施例或示例描述的特定特征、结构或特性被包含在本本实用新型至少一个实施例中。因此，在整个说明书的各个地方出现的短语“一个实施例”、“实施例”、“一个示例”或“示例”不一定都指同一实施例或示例。此外，可以以任何适当的组合和、或子组合将特定
的特征、结构或特性组合在一个或多个实施例或示例中。此外，本领域普通技术人员应当理解，在此提供的示图都是为了说明的目的，并且示图不一定是按比例绘制的。这里使用的术语“和/或”包括一个或多个相关列出的项目的任何和所有组合。
[0026]
在本实用新型的描述中，术语“前”、“后”、“左”、“右”、“上”、“下”、“竖直”、“水平”、“高”、“低”“内”、“外”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系，仅是为了便于描述本实用新型和简化描述，而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本实用新型保护范围的限制。
[0027]
实施例
[0028]
本实施例提供一种用于掩膜版手动制程的装置，如图1
‑
图3所示，包括：计时器，用于蚀刻计时；框架1，框架1具有若干安置槽体，安置槽体内相对的槽壁上分别开设有与掩膜版边沿适配的卡槽2；与框架1连接的助握臂3，助握臂3上设置有通信连接于计时器的传感器4；工作状态下，助握臂3被手部握持，当手部改变传感器4监测状态时，传感器4与计时器进行通讯以使计时器开始计时或结束计时。
[0029]
本实施例中，框架1的形状为长方体，从长方体的其中一个平面向内开设安置槽体，可以理解的是，安置槽体内用于临时安装掩膜版，当框架1被置于蚀刻液中时，蚀刻液会充斥安置槽体内，则在开设安置槽体时，应保证掩膜版安装于安置槽体后其板面与安置槽体上对应的槽壁之间应留有间隙，以达到蚀刻的目的，而本实施例中的相对的槽壁显然是指与掩膜版的板面垂直的两个槽壁，当前述相对的槽壁上开设卡槽2后，掩膜版则可通过其相对的边沿卡进卡槽2，从而起到临时固定掩膜版的目的。在本实施例中，卡槽2与掩膜版适配是指卡槽2的槽宽与掩膜版的板厚相当，即卡槽2的形状可以不做限制，例如其截断面可以呈长方形、圆形、多边形等，具体的形状可以视掩膜版的边沿形状而定，即掩膜版的边沿卡进卡槽2后，卡槽2的槽壁与掩膜版的边沿完全贴合时，此时的卡槽2形状为理想形状。本实施例中，助握臂3设置为凵形，助握臂3两端分别与框架1上相对的两个面连接，从而防止工作人员握持助握臂3后形成悬臂结构而不利于框架1的晃动，当然助握臂3与框架1的连接方式优选为铰接，从而使得在框架1晃动到至高点更利于工作人员控制，同时一定程度的使得框架1在蚀刻液中的姿态始终如一，从而保证蚀刻液与掩膜版接触的稳定性。
[0030]
需要说明的是，在本实施例中，如图2所示，各组卡槽2的槽深或槽宽可以不尽相同，从而实现在单次的掩膜版蚀刻流程中对多类掩膜版进行同时蚀刻，从而提高蚀刻效率。
[0031]
工作时，工作人员首先握持助握臂3，并将框架1置于蚀刻液中，当准备开始晃动框架1时，通过手掌动作触发传感器4，传感器4与计时器之间进行通讯以使计时器开始计时；当准备结束晃动框架1时，通过手掌动作触发传感器4，传感器4与计时器之间进行通讯以使计时器结束计时。需要说明的是，将传感器4的检测状态模拟为y和n，y表示传感器4检测到信号，n表示传感器4未检测到信号，当框架1被晃动时，可以通过手掌动作使传感器4保持为y状态，在准备结束框架1晃动时，通过手掌动作使传感器4切换为n状态；还可以是，当框架1开始晃动时，通过手掌动作使传感器4进行一次从n到y再到n的状态切换，在准备结束框架1晃动时，再次通过手掌动作使传感器4进行一次从n到y再到n的状态切换。
[0032]
在一些可能的实施例中，为了加强蚀刻液在框架1内的流动性，若干安置槽体依次连通。使得蚀刻液能够在安置槽体之间进行流动，间接提高框架1内的蚀刻液的吞吐量，有利于提高蚀刻效率。优选的，如图1所示，相邻的安置槽体的槽壁接触，并开设与前述槽壁的
截面等大的缺口作为两个安置槽体的连通口。可以理解的是，在其他实施例中，也可以在前述的槽壁上开设若干较小的连通口来连通两个安置槽体，以提高框架1的结构刚度。
[0033]
为了加强框架1内外的蚀刻液的流通性，进一步优化为，如图3所示，安置槽体的槽壁开有液流孔5，安置槽体通过液流孔5与框架1的外部空间连通。需要说明的是，当两个安置槽体相通时，该两个安置槽体的连通孔即可作为本实施例中的液流孔5，而安置槽体中与框架1外壁相邻的安置槽体则通过在前述的外壁上开设若干与前述相邻的安置槽体相通的液流孔5，需要说明的是，前述的槽壁是在工作状态下与掩膜版的板面形成间隙的槽壁。
[0034]
在一些可能的实施例中，为了保证框架1内的掩膜版的蚀刻进度、状态等基本一致，若干安置槽体沿线性方向排布，相邻的安置槽体的槽壁分别对应平行或重合。
[0035]
可选的，助握臂3上的传感器4为压力传感器。
[0036]
可选的，为了保证整个装置的轻质性，减小工作人员的工作负荷，将框架1设置为铁氟龙框架。
[0037]
以上所述的具体实施方式，对本实用新型的目的、技术方案和有益效果进行了进一步详细说明，所应理解的是，以上所述仅为本实用新型的具体实施方式而已，并不用于限定本实用新型的保护范围，凡在本实用新型的精神和原则之内，所做的任何修改、等同替换、改进等，均应包含在本实用新型的保护范围之内。