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大片玻璃及大片玻璃镀膜的制造方法、液晶产品与流程

2022-03-09 02:30:32 来源:中国专利 TAG:

技术特征:
1.一种大片玻璃镀膜的制造方法,其特征在于,包括:s1:对面基板玻璃进行清洗;s2:对双面镀膜的面基板玻璃的第一面的ito层进行感光胶涂布,并依次进行曝光、显影、坚膜、蚀刻、剥膜处理,形成ito图案层;s3:对双面镀膜的面基板玻璃的第二面进行中高温ito镀膜处理,形成ito表面层,得到大片玻璃。2.根据权利要求1所述的大片玻璃镀膜的制造方法,其特征在于,包括:s3中的中高温ito镀膜处理温度为200℃~300℃。3.根据权利要求1所述的大片玻璃镀膜的制造方法,其特征在于:s3中的中高温镀膜为通过磁控溅射设备对双面镀膜的面基板玻璃的第二面进行低功率溅射镀膜。4.根据权利要求3所述的大片玻璃镀膜的制造方法,其特征在于:s3中的磁控溅射设备的工作功率范围为1.2kw~1.8kw。5.根据权利要求1所述的大片玻璃镀膜的制造方法,其特征在于:s4:对已完成s3的双面镀膜的面基板玻璃的ito图案层,在进行pi涂布前,对面基板玻璃进行清洗。6.根据权利要求5所述的大片玻璃镀膜的制造方法,其特征在于:在对双面镀膜的面基板玻璃的ito图案层进行pi涂布,并依次进行预烘、固化、定向处理。7.一种大片玻璃,其特征在于:所述大片玻璃采用权利要求1-6任一项所述的大片玻璃镀膜的制造方法制造而成。8.一种液晶产品,其特征在于,包括权利要求7所述的大片玻璃,还包括底基板玻璃,所述底基板玻璃与所述大片玻璃通过封边胶连接。

技术总结
本发明提供大片玻璃及大片玻璃镀膜的制造方法、液晶产品,该大片玻璃的制造方法包括S1:对面基板玻璃进行清洗;S2:对双面镀膜的面基板玻璃的第一面的ITO层进行感光胶涂布,并依次进行曝光、显影、坚膜、蚀刻、剥膜处理,形成ITO图案层;S3:对双面镀膜的面基板玻璃的第二面进行中高温ITO镀膜处理,形成ITO表面层,得到大片玻璃;创新地对所述面基板玻璃的第一面上的ITO层进行图案加工处理,形成ITO图案层后,再对所述面基板玻璃的第二面进行ITO表面层的中高温镀膜处理,形成ITO表面层,得到具有高致密度和高透过率ITO表面层的大片玻璃,使得使用该大片玻璃制作而成的单粒液晶产品具有高致密度和高透过率,提高用户体验。提高用户体验。提高用户体验。


技术研发人员:冯国雄 杨晓东 牟立昌 吴仕坤
受保护的技术使用者:江门亿都半导体有限公司
技术研发日:2021.11.25
技术公布日:2022/3/8
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