大片玻璃及大片玻璃镀膜的制造方法、液晶产品与流程

1.本发明涉及液晶显示的技术领域，特别涉及一种大片玻璃及大片玻璃镀膜的制造方法、液晶产品。


背景技术：

2.目前行业内液晶产品表面镀膜技术均为液晶产品界为单粒液晶产品后，在贴偏光片之前对单粒液晶产品进行表面低温镀膜工艺。因为单粒液晶产品已经成盒并已经灌液晶，如果再对单粒液晶产品进行高温镀膜处理，就会出现两块基板玻璃之间的封边胶脆化，两基板玻璃剥离，因此只能采用低温对单粒液晶表面进行镀膜，但利用此低温镀膜工艺在单粒液晶表面所形成的ito层的致密度低、透过率低(《70％)，观看效果差。


技术实现要素：

3.本发明的目的是提供大片玻璃及大片玻璃镀膜的制造方法、液晶产品，能够解决单粒液晶表面的ito层透过率低、致密度低的问题。
4.为了实现上述目的，本发明的技术方案有：
5.本发明提供一种大片玻璃的制造方法包括：
6.s1：对面基板玻璃进行清洗；
7.s2：对双面镀膜的面基板玻璃的第一面的ito层进行感光胶涂布，并依次进行曝光、显影、坚膜、蚀刻、剥膜处理，形成ito图案层；
8.s3：对双面镀膜的面基板玻璃的第二面进行中高温ito镀膜处理，形成ito表面层，得到大片玻璃。
9.与现有技术相比，本发明的大片玻璃的制造方法在对所述面基板玻璃的第一面上的ito层进行图案加工处理，形成ito图案层后，再对所述面基板玻璃的第二面进行ito表面层的中高温镀膜处理，形成ito表面层，得到具有高致密度和高透过率ito表面层的大片玻璃，使得使用该大片玻璃制作而成的单粒液晶产品具有高致密度和高透过率，提高用户体验。
10.在一种优选实施例中，s3中的中高温ito镀膜处理温度为200℃～300℃。
11.在一种优选实施例中，s3中的中高温镀膜为通过磁控溅射设备对双面镀膜的面基板玻璃的第二面进行低功率溅射镀膜。
12.在一种优选实施例中，s3中的磁控溅射设备的工作功率范围为1.2kw～1.8kw。
13.在一种优选实施例中，在对双面镀膜的面基板玻璃的ito图案层进行pi涂布前，对面基板玻璃进行清洗。
14.在一种优选实施例中，s4：对已完成s3的双面镀膜的面基板玻璃的ito图案层进行pi涂布，并依次进行预烘、固化、定向处理。
15.本发明还提供一种大片玻璃，所述大片玻璃采用如上所述的大片玻璃的制造方法制造而成。
16.本发明还提供一种液晶产品，包括上述的大片玻璃，还包括底基板玻璃，所述底基板玻璃与所述大片玻璃通过封边胶连接。
附图说明
17.此处所说明的附图用来提供对本发明的进一步理解，构成本技术的一部分，本发明的示意性实施例及其说明用于解释本发明，并不构成对本发明的不当限定。在附图中：
18.图1是大片玻璃的剖面图。
19.附图标记说明：
20.1—ito表面层、2—面基板玻璃、3—ito图案层。
具体实施方式
21.为了更好地阐述本发明，下面参照附图对本发明作进一步的详细描述。
22.应当明确，所描述的实施例仅仅是本技术实施例一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本技术实施例中的实施例，本领域普通技术人员在没有作出创造性劳动前提下所获得的所有其它实施例，都属于本技术实施例保护的范围。
23.在本技术实施例使用的术语是仅仅出于描述特定实施例的目的，而非旨在限制本技术实施例。在本技术实施例和所附权利要求书中所使用的单数形式的“一种”、“所述”和“该”也旨在包括多数形式，除非上下文清楚地表示其他含义。还应当理解，本文中使用的术语“和/或”是指并包含一个或多个相关联的列出项目的任何或所有可能组合。
24.下面的描述涉及附图时，除非另有表示，不同附图中的相同数字表示相同或相似的要素。以下示例性实施例中所描述的实施方式并不代表与本技术相一致的所有实施方式。相反，它们仅是如所附权利要求书中所详述的、本技术的一些方面相一致的装置和方法的例子。在本技术的描述中，需要理解的是，术语“第一”、“第二”、“第三”等仅用于区别类似的对象，而不必用于描述特定的顺序或先后次序，也不能理解为指示或暗示相对重要性。对于本领域的普通技术人员而言，可以根据具体情况理解上述术语在本技术中的具体含义。
25.此外，在本技术的描述中，除非另有说明，“多个”是指两个或两个以上。“和/或”，描述关联对象的关联关系，表示可以存在三种关系，例如，a和/或b，可以表示：单独存在a，同时存在a和b，单独存在b这三种情况。字符“/”一般表示前后关联对象是一种“或”的关系。
26.现有技术中，单粒液晶产品后在贴偏光片之前会进行表面低温镀膜工艺，因为单粒液晶产品已经成盒并已经灌液晶，而利用此低温镀膜工艺在单粒液晶表面所形成的ito层的致密度低、透过率低(《70％)，观看效果差。
27.为了解决上述问题，本发明提供一种大片玻璃及大片玻璃镀膜的制造方法、液晶产品，创新地使用新的制造方法来对大片玻璃进行加工处理，使得利用该大片玻璃所制造而成的液晶产品(即单粒液晶产品)具有高致密度和高透过率，提高用户体验。
28.具体来说，该大片玻璃的制造方法包括：
29.s1：对面基板玻璃2进行清洗，利用纯净水将所述面基板玻璃2的表面进行洗净，防止异物影响后续的工作；
30.s2：对双面镀膜的面基板玻璃2的第一面的ito层进行感光胶涂布，在ito层的表面形成一层均匀的光阻层，并使紫外光通过预先制作好的电极图形模板照射感光胶的表面，
使被照感光胶发生反应，实现选择性曝光；
31.接着使用显影剂将曝光部分的感光胶清洗掉，然后再用纯净水将溶解的感光胶冲走，显影之后对所述面基板玻璃2进行加热烘烤，使未曝光的感光胶更加坚固地依附在ito层上，实现坚膜处理；然后再用适当的酸刻剂将无感光胶覆盖的ito层蚀刻掉，只保留感光胶下方的ito层，再用高浓度的碱液作脱膜液，将余下的感光胶剥离掉，从而使ito层形成与电极图形模板完全一致的ito图案层3，得到相应的拉线电极；
32.s3：对双面镀膜的面基板玻璃2的第二面进行中高温ito镀膜处理，形成ito表面层1，得到大片玻璃。
33.与现有技术相比，本发明的大片玻璃的制造方法在对所述面基板玻璃2的第一面上的ito层进行图案加工处理，形成ito图案层3后，再对所述面基板玻璃2的第二面进行ito表面层1的中高温镀膜处理，形成ito表面层1，得到具有高致密度和高透过率ito表面层1的大片玻璃，使得使用该大片玻璃制作而成的单粒液晶产品具有高致密度和高透过率，提高用户体验。而且，通过在对双面镀膜的面基板玻璃2的第一面进行图案加工处理，得到ito图案层3后再对所述面基板玻璃2的第二面进行中高温镀膜处理，既可以确保致密度和高透过率的同时，也可以代替后续的对单粒液晶产品进行逐一镀膜操作，提高生产效率。
34.优选地，s3中的对面基板玻璃2的第二面所进行镀膜处理所用到的处理温度为200℃～300℃，通过在此温度范围条件下进行ito镀膜，既可以避免温度过高而导致产品原有的ito图案层3电阻值升高，也可以让ito表面层1的致密度更好，透过率更高。
35.优选地，s3中的中高温镀膜为通过磁控溅射设备对双面镀膜的面基板玻璃2的第二面进行低功率溅射镀膜；通过低功率溅射镀膜，避免出现ito绕射到所述面基板玻璃2的第一面的ito图案层3处而导致的ito图案层3短路问题。
36.优选地，s3中的磁控溅射设备的工作功率范围为1.2kw～1.8kw。
37.在一种优选实施例中，s4：对已完成s3的双面镀膜的面基板玻璃2的ito图案层3进行pi涂布，并依次进行预烘、固化、定向处理。即在ito图案层3上适当位置涂布上一层均匀的配向层，并依次进行预烘、固化处理，再利用绒布类材料以特定的方向摩擦配向层的表面，实现定向处理。
38.在一种优选实施例中，在对双面镀膜的面基板玻璃2的ito图案层3进行pi涂布前，对面基板玻璃2进行清洗。
39.本发明还提供一种大片玻璃，所述大片玻璃是由面基板玻璃2采用如上所述的大片玻璃的制造方法制造而成。本发明通过在面基板玻璃2的第一面完成ito图案层3处理后，对所述面基板玻璃2的第二面进行中高温的ito低功率镀膜处理，得到大片玻璃，本发明通过上述的制造方法可以保证大片玻璃具有高致密度和高透过率，而且相对于现有技术的界成多个单粒液晶产品后再进行逐一镀膜的方式，有效提高生产效率。
40.本发明还提供一种液晶产品，包括上述的大片玻璃，还包括底基板玻璃，所述底基板玻璃与所述大片玻璃通过封边胶连接，使得该大片玻璃在与底基板玻璃配合使用后，液晶产品能够具有高致密度和高透过率的特点。
41.具体地，所述液晶产品的制造方法为在底基板玻璃上印刷涂布多个封边胶框，为后续的大片玻璃和底基板玻璃的贴合作准备；所述底基板玻璃与大片玻璃贴合并进行压固处理好变成具有多个液晶盒的大对组合，最后通过界机进行界开操作，即可得到多个单粒
液晶产品，多个所述单粒液晶产品均具有高致密度和高透过率。
42.在本发明的描述中，需要理解的是，术语“竖向”、“横向”、“前”、“后”、“左”、“右”、“垂直”、“水平”、“顶”、“底”、“内”、“外”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系，仅是为便于描述本发明和简化描述，而不是指示或暗指所指的装置或元件必须具有特定的方位、为特定的方位构造和操作，因而不能理解为对本发明保护内容的限制。
43.如果本文中使用了“第一”、“第二”等词语来限定零部件的话，本领域技术人员应该知晓：“第一”、“第二”的使用仅仅是为了便于描述本发明和简化描述，如没有另外声明，上述词语并没有特殊的含义。
44.本发明并不局限于上述实施方式，如果对本发明的各种改动或变形不脱离本发明的精神和范围，倘若这些改动和变形属于本发明的权利要求和等同技术范围之内，则本发明也意图包含这些改动和变形。