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一种等离子沉积下料设备的制作方法

2022-03-23 15:59:07 来源:中国专利 TAG:


1.本实用新型涉及下料设备技术领域,具体为一种等离子沉积下料设备。


背景技术:

2.等离子指在电离过程中,电子和阳离子的浓度达到一定数值,从而形成的一种物质状态,现有的一种等离子沉积下料设备可以对下料后的设备进行自动清洁,避免人工清洗的麻烦,可以调节等离子下料的量,便于后续对等离子加工的使用。
3.现有的等离子沉积下料设备存在的缺陷是:
4.1.对比文件cn211062683u公开了一种等离子沉积下料设备,保护的权项“包括等离子体沉积室,等离子体沉积室出口连接有下料装置,其包括与等离子体沉积室出口处连接的下料管道,下料管道由延伸有若干子管道,子管道与下料管道之间密封连接有阀门,子管道的弯折处以及出口处的外壁上固定有电磁铁组,电磁铁组包括正极电磁铁和负极电磁铁,子管道出口处还密封连接有一个抽气风机,相比现有技术,本实用新型的优点在于:电磁铁组的设置能够将带有正电的离子和带有负电的离子分开来进行下料,便于分类,可下料至不同的应用场合中,且由于子管道的设置,可以同时进行多个通道下料,增加下料效率,增设的过滤棉机构能够防止外部的微尘颗粒进入,影响沉积效果”,但是其缺少自动清洁机构,下料管道内壁会附着等离子体,不及时清理,会影响设备下次的使用;
5.2.现有的等离子沉积下料设备下料量不可调控,不利于后续的加工使用,下料的等离子量可能过多,会造成不必要的浪费。


技术实现要素:

6.本实用新型的目的在于提供一种等离子沉积下料设备,以解决上述背景技术中提出的缺少清洁机构和下料量不可调控的问题。
7.为实现上述目的,本实用新型提供如下技术方案:一种等离子沉积下料设备,包括主体、储水箱和气泵,所述主体的正面安装有储水箱,所述主体的前面安装有气泵;
8.所述储水箱的前面安装有注水口,所述储水箱的顶部安装有水泵,所述主体的外壁安装有齿轮泵,所述齿轮泵的一端安装有水管,所述水管的一端安装有喷嘴;
9.所述主体的顶部安装有进料管,所述主体的内壁安装有下料腔,所述下料腔的底部安装有折叠管,所述主体的内壁安装有支撑板,且支撑板位于下料腔的上方。
10.优选的,所述气泵的外壁安装有气体管道,气体管道的内壁安装有过滤网,下料腔的内壁安有电动推板。
11.优选的,所述主体的底部安装有支撑腿,主体的内壁安装有等离子沉积室。
12.优选的,所述进料管的顶端安装有密封盖。
13.优选的,所述下料腔的内部底壁开设有下料孔,主体的内部底壁安装有电动升降杆,且电动升降杆的一端与下料腔的底部连接。
14.优选的,所述折叠管的底端安装有下料管,下料管的内壁安装有阀门。
15.优选的,所述支撑板的顶部安装有滑块。
16.与现有技术相比,本实用新型的有益效果是:
17.1.本实用新型通过安装有水泵、齿轮泵和喷嘴来对下料腔进行清洁,电动升降杆带动下料腔下移,折叠管被折叠,滑块带动喷嘴在支撑板上斜向上移动,使得喷嘴对向下料腔的内壁,通过注水口向储水箱内注满水,水泵将储水箱内的水抽向齿轮泵,齿轮泵将水分流压送到喷嘴处,开始喷向下料腔内壁,对内壁进行冲洗,达到自动清洁的效果;
18.2.本实用新型通过安装有气泵和电动推板来控制等离子下料的量,电动推板的移动可挡住下料孔,通过控制下料孔孔径的大小来控制下料量,气泵从下料管内排出空气,使得其内压强减少,下料管内的等离子下料速度增加,也可通过更换气泵对下料管内添加空气,使其压强增大,减缓下料速度,通过控制下料孔孔径的大小以及下料管内的下料速度,从而可以控制下料的等离子量,后续加工使用的等离子量较多,就加大下料速度,相反就减小下料速度,避免下料速度过快,导致下料的等离子量过多,使用不完,造成浪费。
附图说明
19.图1为本实用新型的整体结构示意图;
20.图2为本实用新型的整体内部结构示意图;
21.图3为本实用新型的折叠管部分结构示意图;
22.图4为本实用新型的电动推板部分结构示意图;
23.图5为本实用新型的气泵部分结构示意图。
24.图中:1、主体;101、支撑腿;102、等离子沉积室;2、进料管;201、密封盖;3、下料腔;301、下料孔;302、电动升降杆;4、折叠管;401、下料管;402、阀门;5、储水箱;501、注水口;502、水泵;503、齿轮泵;504、水管;505、喷嘴;6、支撑板;601、滑块;7、气泵;701、气体管道;702、过滤网;703、电动推板。
具体实施方式
25.下面将结合本实用新型实施例中的附图,对本实用新型实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述,显然,所描述的实施例仅仅是本实用新型一部分实施例,而不是全部的实施例。基于本实用新型中的实施例,本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例,都属于本实用新型保护的范围。
26.在本实用新型的描述中,需要说明的是,术语“上”、“下”、“内”、“外”“前端”、“后端”、“两端”、“一端”、“另一端”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系,仅是为了便于描述本发明和简化描述,而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作,因此不能理解为对本发明的限制。此外,术语“第一”、“第二”仅用于描述目的,而不能理解为指示或暗示相对重要性。
27.在本实用新型的描述中,需要说明的是,除非另有明确的规定和限定,术语“安装”、“设置有”、“连接”等,应做广义理解,例如“连接”,可以是固定连接,也可以是可拆卸连接,或一体地连接;可以是机械连接,也可以是电连接;可以是直接相连,也可以通过中间媒介间接相连,可以是两个元件内部的连通。对于本领域的普通技术人员而言,可以具体情况理解上述术语在本发明中的具体含义。
28.实施例1:请参阅图1、图2和图3,一种等离子沉积下料设备,包括主体1、储水箱5和气泵7,主体1的正面安装有储水箱5,主体1的前面安装有气泵7,主体1的顶部安装有进料管2,主体1的内壁安装有下料腔3,下料腔3的底部安装有折叠管4,主体1的内壁安装有支撑板6,且支撑板6位于下料腔3的上方,主体1的底部安装有支撑腿101,主体1的内壁安装有等离子沉积室102,进料管2的顶端安装有密封盖201,下料腔3的内部底壁开设有下料孔301,主体1的内部底壁安装有电动升降杆302,且电动升降杆302的一端与下料腔3的底部连接,折叠管4的底端安装有下料管401,下料管401的内壁安装有阀门402,支撑板6的顶部安装有滑块601,主体1为储水箱5提供安装位置,储水箱5用来储存水,便于后续的清洁使用,主体1为气泵7提供安装位置,气泵7可对下料管401内排出空气或添加空气,从而改变下料速度,主体1为进料管2提供安装位置,等离子通过进料管2内进入流向等离子沉积室102,主体1为下料腔3提供安装位置,沉积后的等离子通过下料腔3内部底壁的下料孔301流向折叠管4,下料腔3为折叠管4提供安装位置,主体1为支撑板6提供安装位置,支撑腿101对主体1起支撑作用,等离子沉积室102对等离子进行沉积处理,密封盖201起密封作用,电动升降杆302带动下料腔3上升至与等离子沉积室102的外壁接触,下降使得喷嘴505可以对向下料腔3的内壁,折叠管4可折叠,下料腔3升降时,折叠管4的一端仍可安装在下料腔3的底部,沉积后的等离子从下料管401流出,阀门402控制下料管401的开闭情况,支撑板6为滑块601提供滑动位置,滑块601带动喷嘴505移动,使得喷嘴505可以对向下料腔3的内壁。
29.实施例2:请参阅图1和图2,储水箱5的前面安装有注水口501,储水箱5的顶部安装有水泵502,主体1的外壁安装有齿轮泵503,齿轮泵503的一端安装有水管504,水管504的一端安装有喷嘴505,通过注水口501向储水箱5内注水,储水箱5为水泵502提供安装位置,主体1为齿轮泵503提供安装位置,水泵502将储水箱5内的水抽向齿轮泵503,齿轮泵503将水分流压送到水管504处最后流向喷嘴505处,开始喷向下料腔3的内壁,对其内壁进行冲洗,达到自动清洁的效果。
30.实施例3:请参阅图4和图5,气泵7的外壁安装有气体管道701,气体管道701的内壁安装有过滤网702,下料腔3的内壁安有电动推板703,气泵7将排出空气或添加空气的经过气体管道701流向下料管401的内壁,过滤网702防止气泵7排出空气时,沉积的等离子被吸附进气体管道701内,电动推板703的移动可挡住下料孔301,通过控制下料孔301孔径的大小来控制下料的量,气泵7从下料管401内排出空气,使得其内压强减少,下料管401内的等离子下料速度增加,也可通过更换气泵7对下料管401内添加空气,使其压强增大,减缓下料速度,通过控制下料管401内的下料速度,从而可以控制下料的等离子量。
31.工作原理,打开密封盖201,通过进料管2注入等离子,等离子入流向等离子沉积室102进行沉积反应,沉积后的等离子通过下料腔3流向下料管401,启动气泵7,可通过控制下料孔301孔径的大小以及下料管401内的下料速度,从而控制下料的等离子量,对下料腔3内壁进行清洁,电动升降杆302带动下料腔3下移,折叠管4被折叠,滑块601带动喷嘴505在支撑板6上斜向上移动,使得喷嘴505对向下料腔3的内壁,通过注水口501向储水箱5内注水,水泵502将储水箱5内的水抽向齿轮泵503,齿轮泵503将水分流压送到喷嘴505处,开始喷向下料腔3的内壁,对其内壁进行冲洗。
32.对于本领域技术人员而言,显然本实用新型不限于上述示范性实施例的细节,而且在不背离本实用新型的精神或基本特征的情况下,能够以其他的具体形式实现本实用新
型。因此,无论从哪一点来看,均应将实施例看作是示范性的,而且是非限制性的,本实用新型的范围由所附权利要求而不是上述说明限定,因此旨在将落在权利要求的等同要件的含义和范围内的所有变化囊括在本实用新型内。不应将权利要求中的任何附图标记视为限制所涉及的权利要求。
再多了解一些

本文用于企业家、创业者技术爱好者查询,结果仅供参考。

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