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晶圆的电镀方法和晶圆与流程

2022-04-16 13:53:59 来源:中国专利 TAG:

技术特征:
1.一种晶圆的电镀方法,其特征在于,包括步骤:将晶圆安装于电镀挂具,密封所述晶圆的背面,且使得所述晶圆的背面与所述电镀挂具中的阴极接口连接,并使所述晶圆的正面外露;将所述电镀挂具放入到镀槽中,使所述晶圆的正面浸没在所述镀槽的电镀液中;以及将所述阴极接口连通电源的负极,将所述电镀液连通所述电源的正极;开启所述电源,以在所述晶圆的正面形成电镀金属层。2.如权利要求1所述的晶圆的电镀方法,其特征在于,在所述将晶圆安装于电镀挂具,密封所述晶圆的背面,且使得所述晶圆的背面与所述电镀挂具中的阴极接口连接,并使所述晶圆的正面外露的步骤之前,所述方法还包括:在硅片的正面设置多个焊盘槽,并使得焊盘填充在所述焊盘槽中;对所述硅片的正面进行切割,在相邻所述焊盘之间形成切割槽;在所述焊盘上和所述切割槽中沉积绝缘层材料;以及蚀刻掉与所述焊盘重叠的绝缘层材料,形成位于相邻焊盘之间的绝缘层,得到待电镀的所述晶圆。3.如权利要求2所述的晶圆的电镀方法,其特征在于,所述绝缘层的高度大于所述焊盘与所述电镀金属层的高度之和。4.如权利要求1所述的晶圆的电镀方法,其特征在于,所述电镀金属层包括镍金属层、铜金属层或钛金属层。5.如权利要求1-4任一项所述的晶圆的电镀方法,其特征在于,所述在所述晶圆的正面形成电镀金属层之后,所述方法还包括:断开所述电源,并从所述镀槽中取出所述电镀挂具;以及从所述电镀挂具取出所述晶圆。6.一种晶圆,其特征在于,采用如权利要求1-5任意一项所述的晶圆的电镀方法进行电镀,所述晶圆包括:硅片,所述硅片的正面设有多个焊盘槽和多个切割槽,所述切割槽设置在相邻所述焊盘槽之间;焊盘,设置在所述焊盘槽中;以及绝缘层,设置在所述切割槽中,且所述绝缘层的高度大于所述焊盘的高度。7.如权利要求6所述的晶圆,其特征在于,所述硅片为n型硅片。8.如权利要求6所述的晶圆,其特征在于,所述切割槽的深度大于所述焊盘槽的深度。9.如权利要求6-8任一项所述的晶圆,其特征在于,所述绝缘层包括由环氧树脂构成的塑封膜。10.一种晶圆,其特征在于,采用如权利要求1-5任意一项所述的晶圆的电镀方法制得,所述晶圆包括:硅片,所述硅片的正面设有多个焊盘槽和多个切割槽,所述切割槽设置在相邻所述焊盘槽之间;焊盘,设置在所述焊盘槽中;绝缘层,设置在所述切割槽中;以及电镀金属层,设置在所述焊盘背离所述硅片的一侧。

技术总结
本申请公开了晶圆的电镀方法和晶圆,所述晶圆的电镀方法包括步骤:将晶圆安装于电镀挂具,密封所述晶圆的背面,且使得所述晶圆的背面与所述电镀挂具中的阴极接口连接,并使所述晶圆的正面外露;将所述电镀挂具放入到镀槽中,使所述晶圆的正面浸没在所述镀槽的电镀液中;将所述阴极接口连通电源的负极,将所述电镀液连通所述电源的正极;开启所述电源,以在所述晶圆的正面形成电镀金属层。本申请,通过以上方式,不需要在晶圆的正面溅射种子层就能实现电镀,简化了工艺步骤,降低了成本。降低了成本。降低了成本。


技术研发人员:王东升 王国峰
受保护的技术使用者:青岛惠科微电子有限公司 北海惠科半导体科技有限公司
技术研发日:2021.03.18
技术公布日:2022/4/15
再多了解一些

本文用于企业家、创业者技术爱好者查询,结果仅供参考。

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