激光转移膜的制作方法

激光转移膜
1.本技术要求于2020年12月08日提交的韩国专利申请no.10-2020-0170750的优先权和权益，其通过引用合并于此用于所有目的，如同在此完全阐述一样。
技术领域
2.涉及一种激光转移膜。


背景技术：

3.一般使用高分子薄膜作为用于激光热转移膜的基材，并且对于光吸收剂，使用炭黑、染料、颜料或金属材料等作为在激光热转移膜中使用的用于光热转换的光吸收剂。
4.所述高分子薄膜基材容易因卷曲而导致局部厚度不均，因此在表面平坦度存在问题。
5.在所述用于光热转换的光吸收剂中，染料可广泛地选择在700nm至1500nm范围(其为用于激光热转移的典型激光波长范围)的近红外线区中具有最大吸光度(absorbance)峰并在700nm或以下的可见光区中具有相对地低的吸光度的材料，其在可见光区的透光率可以是高的。
6.但作为广泛使用的染料，普鲁士蓝(prussian blue)、金属二硫烯和聚甲川染料、花青染料、吲哚盐(indolium salts)或苯并吲哚鎓内盐(benz[e]indolium salts)等在可见光区中的透过率不足，因此制造的转移膜的质量检查或与接收器元件的对准方面存在困难。
[0007]
因此，需要转移特性优异的激光转移膜，其中，基材表面的平坦度优异、可见光区的透光率优异、粘着层的粘着力得到改善。


技术实现要素：

[0008]
一方面提供一种转移特性优异的激光转移膜，其中，基材表面的平坦度优异、可见光区的透光率优异、粘着层的粘着力得到改善。
[0009]
根据一方面，提供一种激光转移膜，其依次包括：
[0010]
基材层；
[0011]
热膨胀性光吸收层；以及
[0012]
粘着层；
[0013]
其中，在所述基材层和所述热膨胀性光吸收层之间包括有机缓冲层，
[0014]
所述有机缓冲层具有0.1w/mk至0.3w/mk的热导率。
[0015]
所述基材层可为玻璃。
[0016]
所述有机缓冲层的厚度可为0.1μm至50μm。
[0017]
所述有机缓冲层可包括酯基聚合物、丙烯酸基聚合物、烯烃基聚合物或其组合。
[0018]
所述基材层和所述有机缓冲层可为单片(monolithic)结构。
[0019]
所述基材层和所述有机缓冲层的总厚度可为10μm至2000μm。
[0020]
所述热膨胀性光吸收层的厚度可为0.1μm至20μm。
[0021]
所述热膨胀性光吸收层可包括光吸收剂和粘结剂。
[0022]
所述光吸收剂可包括其中最大吸收波长为780nm至1,500nm的近红外线吸收染料、金属颗粒或其组合。
[0023]
基于100重量份的所述热膨胀性光吸收层，所述光吸收剂的含量可为1重量份至15重量份。
[0024]
所述粘着层的厚度可为1μm至30μm。
[0025]
所述粘着层的粘着力可为0.5gf/in至500gf/in。
[0026]
所述激光转移膜可进一步包括转移体，其粘附在所述粘着层的表面上。
[0027]
所述转移体可包括半导体芯片。
附图说明
[0028]
图1为根据一实施例的激光转移膜的截面图。
[0029]
图2为用于说明图1的激光转移膜的作用和效果的图。
具体实施方式
[0030]
将参考本发明的实施例和附图详细描述激光转移膜。这些实施例仅被示例性地呈现以更详细地解释本发明，并且对于本领域的普通技术人员显而易见的是，本发明的范围不受这些实施例的限制。
[0031]
除非定义，否则本说明书中使用的所有技术和科学术语具有与本发明所属领域的普通技术人员通常所理解的相同含义。在发生冲突的情况下，以包括定义的本说明书为优先。
[0032]
尽管与本说明书描述的那些类似或等同的方法和材料可以用于本发明的实施或试验中，但是合适的方法和材料描述于本说明书中。
[0033]
在本说明书中，在元件件前的表述“至少一表面”是指皆包括组件的“一表面”或“两表面”。在本说明书中，在组件前的表述“至少一种”、“一种或多种”或“一个或更多个”是指可以对所有元件的目录进行补充并不意味着可以对所述记载的个别元件进行补充。
[0034]
在本说明书中，术语“和/或”旨在包括关于其描述的一个或多个项目的任何和所有组合。在本说明书中，术语“或”表示“和/或”。
[0035]
在本说明书中，术语“包括”是指可以添加和/或插入其他元件而不是排除其他元件，除非另有说明。在本说明书中，术语“其组合”用于表示包括上述两种或更多种元件的混合物、复合物、共混物(blend)、接枝物(graft)共聚物的广义。在本说明书中，术语“～基聚合物(或树脂)”用于表示“～聚合物(或树脂)”和/或包括“～聚合物(或树脂)的衍生物”的广义。
[0036]
除非说明书中另有说明，否则单位“重量份”是指各组分之间的重量比。
[0037]
在本说明书中，当提到一元件被设置在另一元件之“上(表面)”时，一元件可以直接设置在另一元件之上，或者在所述元件之间可以存在中间元件。相反，当提到一元件“直接设置在另一元件之上”时，中间元件可以不存在。
[0038]
在本说明书中，“激光转移膜”是指一种膜，其在照射激光时产生热量，通过产生的
热量膨胀，并将粘附在所述激光转移膜上的转移体转移到接收膜。
[0039]
在本说明书中，“转移体”是指从激光转移膜转移到接收膜的物品。
[0040]
在本说明书中，“热膨胀性”是指受热膨胀的性质。
[0041]
图1为根据一实施例的激光转移膜10的截面图。
[0042]
参照图1，根据一实施例的激光转移膜10依次包括基材层11、热膨胀性光吸收层12和粘着层13，并且有机缓冲层14位于基材层11和热膨胀性光吸收层12之间。
[0043]
所述基材层11用于(i)制造激光转移膜、(ii)激光转移膜和接收膜的层压，以及(iii)用于支撑在转移完成后从接收膜中除去激光转移膜的一系列过程中具有功能性的其他层，例如，作为构成激光转移膜的其他层的热膨胀性光吸收层12、粘着层13和可选地粘附在所述粘着层13上的转移体(例如发光二极管(led；light-emitting diode)芯片)。
[0044]
所述基材层11可为玻璃。玻璃的例子可以是硅酸盐玻璃。硅酸盐玻璃是以硅砂的形式天然存在的以二氧化硅(silica)为主要成分的玻璃。硅酸盐玻璃的实例包括但不限于硅酸盐玻璃、钾钙玻璃、鈉鈣玻璃、铅玻璃或钡玻璃等。例如，可使用硅酸玻璃或钾钙玻璃作为所述基材层11。所述硅酸盐玻璃也称为石英玻璃，其含有约99.5重量％的硅酸sio2，具有极小的热膨胀率和优异的耐热性和耐酸性。所述钾钙玻璃为其中通过用钾代替钠钙玻璃中的一部分钠，并具有高透明度。
[0045]
有机缓冲层14可包括在所述基材层11和所述热膨胀性光吸收层12之间。所述有机缓冲层14的热导率低于玻璃基材层11。所述有机缓冲层14可防止由于热传递到玻璃基材层11而造成的损失以增加热膨胀率。因此，可改善包括所述有机缓冲层14的激光转移膜10的转移特性。所述有机缓冲层14可具有0.1w/mk至0.3w/mk的热导率。
[0046]
所述有机缓冲层14的厚度可为0.1μm至50μm。例如，所述有机缓冲层14的厚度可为0.1μm至10μm或0.1μm至5μm。所述有机缓冲层14在可见光区中具有优异的透光率，同时在所述厚度范围中具有优异的基材的表面平坦度。
[0047]
所述有机缓冲层14可包括酯基聚合物、丙烯酸基聚合物、烯烃基聚合物或其组合。所述酯基聚合物的实例可包括聚对苯二甲酸乙二醇酯或聚萘二甲酸乙二醇酯等。所述丙烯酸基聚合物的实例可包括纤维素酰化物、聚甲基丙烯酸酯、聚甲基丙烯酸甲酯或聚碳酸酯等。所述烯烃基聚合物的实例可包括聚丙烯或环状聚烯烃等。例如，考虑到光学特性和可加工性，所述有机缓冲层14可以使用酯基聚合物。
[0048]
根据需要，所述有机缓冲层14还可包括其他聚合物，其具有用于特定应用的足够机械/热稳定性和足够的光学性质，例如具有特定波长的光的高透过率。
[0049]
所述基材层11和所述有机缓冲层14可为单片(monolithic)结构。所述有机缓冲层14可涂覆在所述基材层11的一表面上以与所述基材层11形成一体结构。作为所述涂覆方法，可使用浸涂、棒涂、喷涂、旋涂或微型凹版涂布(microgravure)等，但不限于此，并且可以使用本领域中可用的任何涂覆方法。
[0050]
所述基材层11和所述有机缓冲层14的总厚度可为10μm至2000μm。例如，所述基材层11和所述有机缓冲层14的总厚度可为10μm至1000μm、10μm至700μm、10μm至600μm或10μm至500μm。当所述基材层11和所述有机缓冲层14的总厚度在上述范围内时，热导率可保持在低范围内，从而可提高激光转移膜10在转移工艺中的转移特性。
[0051]
此外，根据需要，为了其他目的，除了有机缓冲层14以外，例如，所述基材层11在其
表面上进行底漆处理或粗糙度(roughness)处理以提高与热膨胀性光吸收层12的粘着性，进行拉伸、热处理或防水处理以提高热稳定性，或含有少量微颗粒或填充剂或进行防水处理以控制透光率。
[0052]
在使用激光转移膜10将转移体转移到接收膜时，热膨胀性光吸收层12通过热膨胀性光吸收层12中所含的一种或更多种光吸收剂吸收光(激光)并将其转换为热，从而提供将转移体转移到接收膜的动力。所述动力可以是热或由一些层的热膨胀引起的物理力。
[0053]
所述热膨胀性光吸收层12的厚度可为0.1μm至20μm。所述热膨胀性光吸收层12可在所述厚度范围中吸收局部热，从而为转移制造有利的环境。
[0054]
所述热膨胀性光吸收层12可包括光吸收剂和粘结剂。
[0055]
所述光吸收剂用于吸收电磁波谱的红外线区、可见光区和/或紫外线区的光并将所吸收的光转换为热。所述光吸收剂高度吸收用于转移的波长区或特定波长的光，但可透射或反射不同波长区或特定波长的光以吸收更少光。
[0056]
所述光吸收剂可包括其中最大吸收波长为780nm至1,500nm的近红外线吸收染料、金属颗粒或其组合。
[0057]
例如，其中最大吸收波长为780nm至1,500nm的光吸收剂可包括由以下化学式1表示的二亚铵盐(diimmonium salt)基染料：
[0058]
《化学式1》
[0059][0060]
其中，在所述化学式1中，
[0061]
n为1或2；以及
[0062]
r1至r8各自独立地为c1至c10的取代或未取代的直链或支链烷基。
[0063]
当r1至r8被取代时，取代基为氰基、硝基、羧基、磺基、卤素基、羟基、c1至c8烷氧基、烷氧烷氧基、芳氧基、或烷基氨基；x为由以下化学式2表示的氟代烷基磷酸盐阴离子。
[0064]
《化学式2》
[0065][0066]
其中，在所述化学式2中，
[0067]
x为0或1；
[0068]
y为1、2或3；
[0069]
z为6-y；以及
[0070]
r9至r
13
各自独立地为氢或氟。
[0071]
虽然与其他光吸收剂相比，所述二亚铵盐基染料在近红外线区(具体地，780nm至1,500nm的波长区)中具有优异的吸光度，但在可见光区的吸光度低，因此通过近红外线的光热转换效率高，并同时可将可见光区的透明度保持在较高水平。
[0072]
所述二亚铵盐基染料在有机溶剂中具有优异的溶解性。在溶剂中的溶解性是用于有效分散光吸收剂的必要特性，并且当在溶剂中的溶解性优异时，在粘结剂中的分散性优异，因此可减少在每个位置产生的热的偏差。
[0073]
此外，光吸收剂在粘结剂中的分散性具有可减少厚度为10μm或更薄的热膨胀性光吸收层的每个位置的厚度变化的额外优点。
[0074]
所述光吸收剂可以与所述粘结剂一起使用以调节与基材层11和/或粘着层133的粘着力。
[0075]
所述金属颗粒可以是例如金属纳米颗粒。所述金属纳米颗粒的实例可包括具有约1nm至200nm直径的金、银等，但不限于此，并且可使用本领域中可使用的任何金属纳米颗粒。
[0076]
基于100重量份的热膨胀性光吸收层12，所述光吸收剂的含量可为1重量份至15重量份。当所述光吸收剂的含量在上述范围内时，可提供具有优异转移特性同时提高可见光区的透光率的激光转移膜10。
[0077]
另外，所述热膨胀性光吸收层12在干燥后的涂覆量可为0.5g/m2至9g/m2。例如，所述热膨胀性光吸收层12在干燥后的涂覆量可为1g/m2至9g/m2、2g/m2至9g/m2或3g/m2至9g/m2。
[0078]
所述粘结剂具有-oh、-cooh、-nh2等反应性官能团，因此，当用激光照射时，会产生诸如h2o的气体，导致在激光照射部位选择性地沿厚度方向膨胀，因此可选择性地转移转移体。
[0079]
所述粘结剂与所述光吸收剂表现出良好的相容性，并且可在所述热膨胀性光吸收层中包括更多的光吸收剂，而不会显着降低所述热膨胀性光吸收层与所述基材层的粘着性。
[0080]
所述粘结剂可包括热固性树脂。
[0081]
所述粘结剂可包括聚酯基树脂、丙烯酸基树脂、聚氨酯基树脂、三聚氰胺基树脂或其组合。
[0082]
所述聚酯基树脂可以是磺化的或未磺化的。
[0083]
所述丙烯酸基树脂可包括聚丙烯酸酯、聚甲基丙烯酸酯、聚丙烯酸、上述每个物质与聚烯烃的共聚物，或其组合。
[0084]
例如，所述粘着剂可以是三聚氰胺基树脂。所述三聚氰胺基树脂为具有与上述光吸收剂类似的结构，并且可具有与所述光吸收剂的高相容性。
[0085]
所述热膨胀性光吸收层12通过使用所述光吸收剂和所述粘结剂制备水性涂覆剂或油性涂覆剂，然后将所述涂覆剂涂覆在所述基材层11上而形成。
[0086]
所述涂覆剂中的所述光吸收剂的含量可为5重量％至85重量％。所述涂覆剂还可
包括交联剂、保湿剂、表面活性剂、ph调节剂、粘度调节剂、共溶剂或其组合。
[0087]
所述粘着层13用于将所述转移体粘附在所述激光转移膜10上。
[0088]
当所述激光转移膜10的粘着力(具体地，所述粘着层13的粘着力)低于接收膜的粘着力时，存在当层压两个膜时转移体移动到接收膜侧的问题，相反，当激光转移膜10的粘着力比接收膜的粘着力过大时，则存在即使用激光照射也不会发生转移的问题。
[0089]
所述粘着层13的粘着力可为0.5gf/in至500gf/in。所述粘着力可根据接收膜的粘着力进行调节。
[0090]
所述粘着层13可包括聚丙烯酸酯基树脂、聚甲基丙烯酸酯基树脂、环氧基树脂、聚苯乙烯基树脂、聚氨酯基树脂、聚砜基树脂、聚酯基树脂、聚酰亚胺基树脂、多晶硅基树脂或其组合。
[0091]
所述粘着层13的厚度可大于所述热膨胀性光吸收层12的厚度。例如，所述粘着层13的厚度可为1μm至30μm。
[0092]
所述激光转移膜10还可包括转移体，其粘附在所述粘着层13的表面上。
[0093]
所述转移体可包括有机物、无机物、有机金属或其组合。
[0094]
作为转移体，可选择性地图案化的物质的示例可包括着色剂(包含分散在结合剂中的颜料和/或染料)、偏光剂、液晶物质、颗粒(包括用于液晶显示器的隔离物、磁性颗粒、绝缘颗粒和/或导电颗粒)、发光型物质(包括磷光体和/或有机电致发光物质)、可混入到发光型器件(例如，电致发光器件)中的光接收型物质、疏水性物质(包括用于喷墨接收器(receptor)的隔板(partition bank))、亲水性物质、多层叠堆(例如，诸如有机电致发光器件的多层器件结构)、微结构层、纳米结构层、光刻胶、金属、聚合物、粘着剂、结合剂、生物物质或其组合。
[0095]
所述转移体可包括一种或更多种可用于显示器应用的物质，特别是用于制造滤色器。
[0096]
所述转移体可包括诸如led芯片的半导体芯片。
[0097]
图2为用于说明图1的激光转移膜10的作用和效果的图。
[0098]
参照图2，层压激光转移膜10和接收膜20。led芯片30粘附于激光转移膜10的粘着层13。
[0099]
此外，对激光转移膜10局部照射激光。此时，激光转移膜10的热膨胀性光吸收层12发热并膨胀，从而与其上设置有机缓冲层14的基材层11之间形成空腔(c：cavity)。在此，热膨胀性光吸收层12的膨胀高度(即最大高度)称为“h”，且热膨胀性光吸收层12的平均厚度称为“t”。
[0100]
然后，由于热膨胀性光吸收层12的膨胀，粘附在热膨胀性光吸收层12上的led芯片30朝着接收膜20侧移动，然后紧密接触接收膜20的粘着层23(其设置在电极层22上，所述电极层22设置在接收膜20的基材层21上)。
[0101]
此后，led芯片30在与激光转移膜10的粘着层13分离之后，粘附在接收膜20的粘着层23。
[0102]
结果，进行了led芯片30从激光转移膜10到接收膜20的转移。
[0103]
在下文中，将参考实施例更详细地描述本发明，但本发明不限于这些实施例。
[0104]
[实施例]
[0105]
实施例1：激光转移膜的制造
[0106]
使用涂覆有厚度为5μm的聚对苯二甲酸乙二醇酯(pet：polyethylene terephthalate)缓冲层的玻璃膜(厚度：705μm，nuri corporation)作为基材层。
[0107]
另外，将作为粘结剂的热固性三聚氰胺基树脂(cytec，cymel 303)、作为光吸收剂二亚铵盐基染料a(kyung-in synthetic corporation，nir1000a)和溶剂(重量比为40:100的环己酮和甲乙酮的混合物)混合，从而制造固形分为20重量％的用于形成热膨胀性光吸收层的组合物。此时，基于100重量份的热膨胀性光吸收层，所述二亚铵盐基染料a的含量为1.0重量份。
[0108]
单独地，通过混合热固性丙烯酸基树脂(三和涂料，sa3000)和溶剂(重量比为40:100的环己酮和甲乙酮的混合物)来制造固形分为35重量％的用于形成粘着层的组合物。
[0109]
将所述用于形成热膨胀性光吸收层的组合物以迈耶棒(meyer bar)涂覆在所述基材层上，然后在150℃下热干燥1分钟，从而形成热膨胀性光吸收层，其干燥后的涂覆量为3g/m2，且平均厚度为2.5μm。之后，将所述用于形成粘着层的组合物用涂覆器(applicator)涂覆在所述热膨胀性光吸收层上，然后在110℃的温度下热干燥2分钟以形成平均厚度为1.5μm的粘着层，从而制造激光转移膜。
[0110]
实施例2：激光转移膜的制造
[0111]
以与实施例1相同的方法制造激光转移膜，除了在制造用于形成热膨胀性光吸收层的组合物时，将作为光吸收剂的二亚铵盐基染料a的含量改变为基于100重量份的热膨胀性光吸收层的5.0重量份。
[0112]
实施例3：激光转移膜的制造
[0113]
以与实施例1相同的方法制造激光转移膜，除了在制造用于形成热膨胀性光吸收层的组合物时，将作为光吸收剂的二亚铵盐基染料a的含量改变为基于100重量份的热膨胀性光吸收层的10.0重量份。
[0114]
实施例4：激光转移膜的制造
[0115]
以与实施例1相同的方法制造激光转移膜，除了在制造用于形成热膨胀性光吸收层的组合物时，将作为光吸收剂的二亚铵盐基染料a的含量改变为基于100重量份的热膨胀性光吸收层的15.0重量份。
[0116]
比较例1：激光转移膜的制造
[0117]
以与实施例1相同的方法制造激光转移膜，除了在制造用于形成热膨胀性光吸收层的组合物时，将作为光吸收剂的二亚铵盐基染料a的含量改变为基于100重量份的热膨胀性光吸收层的20.0重量份。
[0118]
比较例2：激光转移膜的制造
[0119]
以与实施例1相同的方法制造激光转移膜，除了在制造用于形成热膨胀性光吸收层的组合物时，不添加作为光吸收剂的二亚铵盐基染料a。
[0120]
比较例3：激光转移膜的制造
[0121]
以与实施例1相同的方法制造激光转移膜，除了使用厚度为100μm的光学pet膜(toray advanced materials co.，ltd.)作为基材层。
[0122]
比较例4：激光转移膜的制造
[0123]
以与实施例1相同的方法制造激光转移膜，除了使用厚度为700μm的玻璃膜作为基
材层。
[0124]
评估例1：激光转移膜的物性评估
[0125]
根据以下方法测量在所述实施例1至4和比较例1至4中制造的激光转移膜的物性，其结果示于下表1中。
[0126]
(1)涂覆有有机缓冲层的基材层的厚度分布测量
[0127]
将所述每个激光转移膜的涂覆有有机缓冲层的基材层的中央部切割成宽度和长度为5cm，使用千分尺(三丰公司，id-c112xbs)或digi千分尺架(尼康公司，ms-5c)在距外周5mm的位置开始间隔1cm的12个位置的厚度，从而将这些厚度的最大值与最小值之差的绝对值用作厚度分布。
[0128]
(2)透光率(可见光透过率)的测量
[0129]
对于所述每个激光转移膜，使用岛津(shimadzu)公司的型号名称为uv-3600的uv-vis-nir分光光度计(spectrophotometer)测量300nm至1200nm区的透过率，然后记录1064nm处的透光率。
[0130]
(3)转移特性评估
[0131]
使用nd:yag 1,064nm的激光装置以0.1w至50w的激光能量照射所述每个激光转移膜，并记录热膨胀性光吸收层的膨胀高度。
[0132]
所述热膨胀性光吸收层的膨胀高度的测量方法是对从同一激光转移膜上得到的多个样品分别照射每个样品的特定的激光能量值(即对个样品的0.1w至50w的任何一个值的激光能量)后，通过扫描电子显微(sem：scanning electron microscope)装备的stage tilt方法对每个样品拍摄sem照片以测量激光照射区的膨胀高度。此后，将从多个样品中膨胀高度最高的特定样品获得的最高膨胀高度记录为“膨胀高度”。
[0133]
根据从所述热膨胀性光吸收层的膨胀高度测量的膨胀高度，通过如下评分来评估价转移特性。
[0134]-膨胀高度为25μm或更高：5分
[0135]-膨胀高度为20μm或更高且小于25μm：4分
[0136]-膨胀高度为15μm或更高且小于20μm：3分
[0137]-膨胀高度为10μm或更高且小于15μm：2分
[0138]-膨胀高度为5μm或更高且小于10μm：1分
[0139]-膨胀高度小于5μm：0分
[0140]
(4)粘着力评估
[0141]
所述每个激光转移膜使用博勒飞(brookfield)公司的ct3纹理分析器(text ure analyzer)，以2mm圆柱形探针在5kg的压缩载荷、60mm/min的压缩速度、10秒的保持时间和60mm/min的剥离速度下进行测量。
[0142]
【表1】
[0143]
[0144][0145]
参照所述表1，在实施例1至4中制造的激光转移膜中，涂覆有有机缓冲层的基材层的厚度分布为0.11或更低，即表现出厚度均匀性，同时示出4分或更高的优异的转移特性，48.837％或更高的透光率(可见光透过率)以及10gf/in范围中的粘着力。相反，在比较例1中制造的激光转移膜中，涂覆有有机缓冲层的基材层的厚度分布为0.15，即示出厚度均匀性，且由于用于形成热膨胀性光吸收层的组合物对溶剂的低溶解性导致染料的分散性差，使转移特性降低。在未添加光吸收剂的比较例2中制造的膜中，光热吸收层没有膨胀，因此未确认转移特性。与在实施例1至4中制造的激光转移膜相比，在比较例3中制造的激光转移膜表现出较低的透光率(可见光透过率)。在比较例4中制造的激光转移膜中，由于向玻璃膜的热传递造成的损失，没有发生光热吸收层的膨胀，因此未确认转移特性。
[0146]
根据一方面的激光转移膜在可见光区中具有优异的透光率，同时具有优异的基材表面平坦度。此外，激光转移膜可具有改进的粘着层的粘着力，从而改进转移特性。
[0147]
[符号说明]
[0148]
10:激光转移膜
ꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀ
11,21:基材层
[0149]
12:热膨胀性光吸收层
ꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀ
13,23:粘着层
[0150]
14:有机缓冲层
ꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀꢀ
20:接收膜
[0151]
22:电极层
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30:led芯片
[0152]
c:空腔
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h:膨胀高度