颗粒粉尘处理装置及可处理颗粒粉尘的化学气相沉积设备的制作方法

1.本实用新型涉及气相沉积设备领域，特别是涉及一种颗粒粉尘处理装置及可处理颗粒粉尘的化学气相沉积设备。


背景技术：

2.化学气相沉积(chemical vapor deposition，cvd)技术是应用气态物质在固态表面发生化学反应并产生固态沉积物的一种工艺，经过数十年的发展，现已经成为半导体生产制程中最重要的薄膜沉积工具，在半导体组件所需要的薄膜都可以通过cvd技术进行制备。现有的用于半导体生产制程的cvd设备长期作业后，腔体内会产生大量聚合物白色粉末颗粒，这些颗粒粉尘会跟随气体通过出气管路从真空泵排出，但是不可避免的会沉积到出气管路内壁和真空泵的螺杆中，导致出气管路堵塞，真空泵寿命减少，而且粉尘颗粒会回灌，影响腔体内的洁净度。
3.鉴于以上，有必要提供一种颗粒粉尘处理装置及可处理颗粒粉尘的cvd设备，以解决出气管路堵塞，真空泵寿命减少，粉尘颗粒回灌，影响腔体内的洁净度的问题。


技术实现要素：

4.鉴于以上所述现有技术的缺点，本实用新型的目的在于提供一种颗粒粉尘处理装置及可处理颗粒粉尘的化学气相沉积设备，用于解决现有技术中cvd设备管路堵塞，真空泵寿命减少，粉尘颗粒回灌，影响腔体内的洁净度的问题。
5.为实现上述目的及其他相关目的，本实用新型提供一种颗粒粉尘处理装置，所述颗粒粉尘处理装置包括：颗粒粉尘处理器，设置于工艺腔室的出气管路上，所述出气管路分别与所述颗粒粉尘处理器的进气口和出气口连通，所述颗粒粉尘处理器包括内置滤芯，用于过滤所述出气管路中气体携带的颗粒粉尘；保温装置，设置于所述工艺腔室至所述颗粒粉尘处理器之间的所述出气管路上，及所述颗粒粉尘处理器与真空泵之间的所述出气管路上，用于对所述出气管路保持恒温设置。
6.可选地，所述颗粒粉尘处理器主体部分为圆柱体；所述内置滤芯为圆柱体，竖直内套于所述颗粒粉尘处理器中。
7.可选地，所述内置滤芯表面为蜂窝状孔洞的镂空圆柱体，外圈的材料为特氟龙，内圈的材料为不锈钢。
8.可选地，所述进气口和所述出气口可在所述颗粒粉尘处理器上相对设置或非相对设置。
9.可选地，当所述进气口和所述出气口在所述颗粒粉尘处理器上相对设置时，在所述颗粒粉尘处理器侧面设置有可打开的门，用于更换所述内置滤芯。
10.可选地，当所述进气口和所述出气口在所述颗粒粉尘处理器上非相对设置时，在所述颗粒粉尘处理器底面设置有可打开的门，用于更换所述内置滤芯。
11.可选地，所述颗粒粉尘处理器与所述真空泵之间的所述出气管路设置为带有90
°
的弯管。
12.可选地，所述保温装置包括保温管路，所述保温管路螺旋缠绕于所述出气管路上。
13.可选地，所述保温装置的保温温度介于80℃-100℃之间，包括端点值。
14.本实用新型还提供一种可处理颗粒粉尘的化学气相沉积设备，所述可处理颗粒粉尘的化学气相沉积设备包括：
15.化学气相沉积炉，所述化学气相沉积炉包括化学气相沉积炉本体、蝶阀，第一出气管路、第二出气管路、真空泵以及控制器；
16.如上任意一项所述的颗粒粉尘处理装置；
17.所述化学气相沉积炉本体与所述第一出气管路连通，所述第一出气管路上连接有所述蝶阀，所述第一出气管路远离化学气相沉积炉本体的一侧与所述颗粒粉尘处理装置的进气口连通，所述颗粒粉尘处理器的出气口与所述第二出气管路的一端连通，所述第二出气管路的另一端与所述真空泵连接；所述控制器用于控制所述化学气相沉积炉和所述保温装置。
18.如上所述，本实用新型的颗粒粉尘处理装置及可处理颗粒粉尘的化学气相沉积设备，具有以下有益效果：对于颗粒粉尘处理装置内置滤芯的更换，方便快捷，定期更换内置滤芯，便可一直保持管路和真空泵的清洁；通过将颗粒粉尘处理装置设置在化学气相沉积设备上，将化学气相沉积炉中产生的颗粒粉尘沉积在颗粒粉尘处理装置内，避免了出气管路堵塞，真空泵寿命减少，粉尘颗粒回灌，影响腔体内的洁净度的问题。
附图说明
19.图1显示为现有技术中化学气相沉积设备的结构示意图。
20.图2显示为本实用新型的可处理颗粒粉尘的化学气相沉积设备的结构示意图。
21.元件标号说明
22.101 颗粒粉尘处理器
23.102
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保温管路
24.201
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化学气相沉积炉本体
25.202
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蝶阀
26.203
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出气管路
27.2031
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第一出气管路
28.2032
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第二出气管路
29.204
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真空泵
具体实施方式
30.以下由特定的具体实施例说明本实用新型的实施方式，熟悉此技术的人士可由本说明书所揭露的内容轻易地了解本实用新型的其他优点及功效。
31.请参阅图1至图2。须知，本说明书所附图式所绘示的结构、比例、大小等，均仅用以配合说明书所揭示的内容，以供熟悉此技术的人士了解与阅读，并非用以限定本实用新型可实施的限定条件，故不具技术上的实质意义，任何结构的修饰、比例关系的改变或大小的调整，在不影响本实用新型所能产生的功效及所能达成的目的下，均应仍落在本实用新型
所揭示的技术内容得能涵盖的范围内。同时，本说明书中所引用的如“上”、“下”、“左”、“右”、“中间”及“一”等的用语，亦仅为便于叙述的明了，而非用以限定本实用新型可实施的范围，其相对关系的改变或调整，在无实质变更技术内容下，当亦视为本实用新型可实施的范畴。
32.如图1所示，为现有技术中cvd设备的主视示意图，cvd设备长期作业，化学气相沉积炉本体的腔体内会产生白色聚合物颗粒粉尘，由于真空泵204不停地向外抽气，携带聚合物白色颗粒粉尘的混合气体会通过出气管路203从所述真空泵204排出，在这个过程中，所述颗粒粉尘可能会沉积到所述出气管路203内壁和所述真空泵204的螺杆上，导致所述出气管路203堵塞，所述真空泵204寿命减少，而且所述粉尘颗粒会回灌，影响腔体内的洁净度。
33.发明人基于以上发现并经过研究分析，提出一种颗粒粉尘处理装置，可作用于cvd设备，制备成一种可处理颗粒粉尘的cvd设备，以解决所述出气管路203堵塞，所述真空泵204寿命减少，所述颗粒粉尘回灌，影响腔体内的洁净度的问题。
34.如图2所示，本实施例提供一种颗粒粉尘处理装置，所述颗粒粉尘处理装置包括：颗粒粉尘处理器101，设置于工艺腔室的出气管路上，所述出气管路分别与所述颗粒粉尘处理器101的进气口和出气口连通，所述颗粒粉尘处理器101包括内置滤芯，用于过滤所述出气管路中气体携带的颗粒粉尘；保温装置，设置于所述工艺腔室至所述颗粒粉尘处理器101之间的所述出气管路203上，及所述颗粒粉尘处理器101与真空泵204之间的所述出气管路203上，用于对所述出气管路203保持恒温设置。
35.所述颗粒粉尘处理装置工作过程为：所述保温管路102用于给所述出气管路203中携带有颗粒粉尘的混合气体保持恒温设置，便于混合气体流通，避免因为所述工艺腔室至所述颗粒粉尘处理器101之间的所述出气管路203温度低而致使颗粒粉尘还未到达所述颗粒粉尘处理器101就沉积在所述出气管路203上，当混合气体到达颗粒粉尘处理器101，始终维持室温的颗粒粉尘处理器101使得混合气体快速降温，混合气体中的颗粒粉尘加速沉积在所述内置滤芯上，冷却的气体在恒温设置的所述颗粒粉尘处理器101与真空泵204之间的所述出气管路203时，新的加热会使携带残余颗粒粉尘的混合气体经过所述颗粒粉尘处理器101与真空泵204之间的所述出气管路203，从所述真空泵204排出，避免残余的颗粒粉尘沉积在所述颗粒粉尘处理器101与所述真空泵204之间的所述出气管路203和所述真空泵204的螺杆上。
36.作为示例，所述颗粒粉尘处理器101主体部分为圆柱体；所述内置滤芯为圆柱体，竖直内套于所述颗粒粉尘处理器101中。较佳地，所述内置滤芯表面为蜂窝状孔洞的镂空圆柱体，外圈的材料为特氟龙，内圈的材料为不锈钢。
37.这里需要说明的是，所述内置滤芯用于过滤从所述出气管路203经过的颗粒粉尘，使得颗粒粉尘沉积于所述内置滤芯上，所述内置滤芯的形状和材料也可根据实际需要进行设置，在此不作限制。
38.作为示例，所述进气口和所述出气口可在所述颗粒粉尘处理器101上相对设置或非相对设置。
39.作为示例，当所述进气口和所述出气口在所述颗粒粉尘处理器101上相对设置时，也即所述出气口与所述进气口呈180
°
，在所述颗粒粉尘处理器101侧面设置有可打开的门，用于更换所述内置滤芯。
40.如图2所示，作为示例，当所述进气口和所述出气口在所述颗粒粉尘处理器101上非相对设置时，也即所述出气口与所述进气口呈90
°
，在所述颗粒粉尘处理器101底面设置有可打开的门，所述内置滤芯可直接从所述颗粒粉尘处理器中滑出，方便换取。
41.如图2所示，作为示例，所述颗粒粉尘处理器101与所述真空泵之间的所述出气管路设置为带有90
°
的弯管。
42.这里需要说明的是，此时所述进气口和所述出气口在所述颗粒粉尘处理器101上非相对设置，也即所述出气口与所述进气口呈90
°
，所述颗粒粉尘处理器101与所述真空泵之间的所述出气管路上设置为带有90
°
的弯管，混合气体流经所述出气管路203共经过180
°
的转弯，有利于控制混合气体的流速，使得混合气体中的颗粒粉尘集中在颗粒粉尘处理器101处沉积。
43.如图2所示，作为示例，所述保温装置包括保温管路102，所述保温管路102螺旋缠绕于所述出气管路上；较佳地，所述保温装置的保温温度介于80℃-100℃之间，包括端点值。
44.如图2所示，基于上述的颗粒粉尘处理装置，本实施例还提供一种可处理颗粒粉尘的cvd设备，所述可处理颗粒粉尘的cvd设备包括：化学气相沉积炉，所述化学气相沉积炉包括化学气相沉积炉本体201、蝶阀202，第一出气管路2031、第二出气管路2032、真空泵204以及控制器；上述所述的颗粒粉尘处理装置；所述化学气相沉积炉本体201与第一出气管路2031连通，所述第一出气管路2031上连接有所述蝶阀202，所述第一出气管路2031远离所述化学气相沉积炉本体201的一侧与所述颗粒粉尘处理器101的进气口连通，所述颗粒粉尘处理器101的出气口与所述第二出气管路2032的一端连通，所述第二出气管路2032的另一端与所述真空泵204连接；所述控制器用于控制所述化学气相沉积炉本体201和所述保温热装置。
45.在本实施例中，化学气相沉积炉本体201在作业时，腔体内部的温度可达到160℃，携带有颗粒粉尘的混合气体从化学气相沉积炉本体201排出，也具有相同的温度从所述第一出气管路2031通过，本实施例优选所述保温装置的保温温度为80℃，但是相对混合气体来说，是一个降温的过程，当混合气体到达颗粒粉尘处理器101，始终维持室温的所述颗粒粉尘处理器101加速了混合气体的降温，使得混合气体中的颗粒粉尘快速沉积在所述内置滤芯上，缓慢的阶梯式降温有助于颗粒粉尘沉积在所述颗粒粉尘处理器101上，冷却的气体在经过80℃的所述第二出气管路2032时，新的加热会使携带残余颗粒粉尘的混合气体经过所述第二出气管路2032，从所述真空泵204排出，避免残余的颗粒粉尘沉积在所述第二出气管路2032和所述真空泵204的螺杆上。
46.在本实施例中，所述颗粒粉尘处理器101相对设置的所述进气口和所述出气口，也即所述进气口和所述出气口呈180
°
，分别与所述第一出气管路2031和所述第二出气管路2032连通，所述第二出气管路2032直接与真空泵204连接，所述颗粒粉尘处理器101一侧面设置有可以打开的门，用于更换所述内置滤芯。
47.如图2所示，在本实施例的另一优选方案中，所述颗粒粉尘处理器101非相对设置的的所述进气口和所述出气口，也即所述进气口和所述出气口呈90
°
，分别与所述第一出气管路2031和所述第二出气管路2032连通，将所述第一出气管路2031与所述第二出气管路2032在所述颗粒粉尘处理器101上形成一个90
°
的连通拐角，所述颗粒粉尘处理器101底面
设置有可打开的门，用于更换所述内置滤芯，因为所述内置滤芯竖直内套于所述颗粒粉尘处理器中，当打开门时，所述内置滤芯可直接从所述颗粒粉尘处理器101中滑出，方便换取。所述第二出气管路2032设置为带有90
°
的弯管，混合气体流经所述第一出气管路2031和所述第二出气管路2032共经过180
°
的转弯，有利于控制混合气体的流速，使得混合气体中的颗粒粉尘集中在颗粒粉尘处理器101处沉积。这里需要说明的是，一个连通的出气管路设置的连通拐角总角度小于360
°
都是被允许的，可根据实际需要进行设置，在此不作限制。
48.作为示例，所述控制器控制化学气相沉积炉的作业，同时控制保温装置，这里需要说明的是，化学气相沉积炉和保温装置需要同时开启和关闭。
49.所述颗粒粉尘处理装置不仅仅可以应用于cvd设备上，也可以应用于其他产生颗粒粉尘的设备上，可根据实际需要进行设置，在此不做限制。
50.综上所述，本实用新型提供一种颗粒粉尘处理装置及可处理颗粒粉尘的化学气相沉积设备，对于颗粒粉尘处理装置内置滤芯的更换，方便快捷，定期更换内置滤芯，便可一直保持管路和真空泵的清洁；通过将颗粒粉尘处理装置设置在cvd设备上，将化学气相沉积炉中产生的颗粒粉尘沉积在颗粒粉尘处理装置内，避免了出气管路堵塞，真空泵寿命减少，粉尘颗粒回灌，影响腔体内的洁净度的问题。所以，本实用新型有效克服了现有技术中的种种缺点而具高度产业利用价值。
51.上述实施例仅例示性说明本实用新型的原理及其功效，而非用于限制本实用新型。任何熟悉此技术的人士皆可在不违背本实用新型的精神及范畴下，对上述实施例进行修饰或改变。因此，举凡所属技术领域中具有通常知识者在未脱离本实用新型所揭示的精神与技术思想下所完成的一切等效修饰或改变，仍应由本实用新型的权利要求所涵盖。