烹饪器具及其制备方法与流程

技术特征：
1.一种烹饪器具，其特征在于，所述烹饪器具包括锅体及形成于所述锅体表面的导磁层，所述导磁层的材质包括高熵合金，所述高熵合金包括必要元素及其他元素，所述必要元素选自fe、co和ni中的至少一种，所述其他元素选自mg、al、ti、v、cr、mn、cu、zn、zr、nb、mo、sn、hf、ta、w、pb、si和b中的至少三种。2.根据权利要求1所述的烹饪器具，其特征在于，所述必要元素在所有组成元素中的摩尔占比为35％～95％。3.根据权利要求1所述的烹饪器具，其特征在于，所述导磁层中各元素的摩尔含量为5％～35％。4.根据权利要求1所述的烹饪器具，其特征在于，所述烹饪器具包括如下特征a～d中的至少一种：a.所述导磁层的厚度为50um～500um。b.所述锅体表面的粗糙度ra为2um～10um；c.所述锅体的材质包括陶瓷、玻璃、石材、铝、铝合金、钛、钛合金和不锈钢中的任意一种；d.所述烹饪炊具还包括形成于所述导磁层外表面上的防护层，所述防护层的材质为耐高温有机涂料。5.根据权利要求1～4任一项所述的烹饪器具，其特征在于，所述导磁层采用热喷涂工艺、冷喷涂工艺和固相烧结工艺中的任意一种工艺形成，其中，所述热喷涂工艺包括等离子喷涂、超音速火焰喷涂、氧乙炔火焰喷涂、电弧喷涂和爆炸喷涂中的至少一种。6.一种烹饪器具的制备方法，其特征在于，包括以下步骤：利用金属粉末在锅体表面形成导磁层，其中，所述金属粉末包括含必要元素的金属粉末及含其他元素的金属粉末，所述必要元素选自fe、co和ni中的至少一种，所述其他元素选自mg、al、ti、v、cr、mn、cu、zn、zr、nb、mo、sn、hf、ta、w、pb、si和b中的至少三种；对所述锅体表面的导磁层进行激光重熔，使得所述导磁层的至少部分转变为高熵合金。7.根据权利要求6所述的制备方法，所述金属粉末包括如下特征a～c中的至少一种：a.所述金属粉末为金属单质粉末和/或合金粉末；b.所述必要元素在所述导磁层中的所有组成元素中的摩尔占比为35％～95％；c.所述导磁层中的各元素的摩尔含量控制在5％～35％。8.根据权利要求6所述的制备方法，其特征在于，所述方法具有如下特征a～d中的至少一种：a.所述金属粉末的平均粒径为200目～2000目；b.所述导磁层的厚度为50um～500um。c.所述锅体表面的粗糙度ra为2um～10um；d.所述锅体的材质包括陶瓷、玻璃、石材、铝、铝合金、钛、钛合金和不锈钢中的任意一种。9.根据权利要求6所述的制备方法，其特征在于，所述导磁层采用热喷涂工艺、冷喷涂工艺和固相烧结工艺中的任意一种工艺形成，其中，所述热喷涂工艺包括等离子喷涂、超音速火焰喷涂、氧乙炔火焰喷涂、电弧喷涂和爆炸喷涂中的至少一种。
10.根据权利要求9所述的制备方法，其特征在于，所述等离子喷涂工艺包括如下特征a～f中的至少一种：a.所述金属粉末的平均粒径为300目～500目；b.所述喷涂距离为140mm～160mmc.所述喷涂电流为450a～550a；d.所述金属粉末的送粉速度为20g/min～40g/min；e.在喷涂过程中，所需的等离子工作气体包括氩气和氢气，其中，所述氩气的气体流量为40l/min～70l/min，所述氢气的气体流量为6l/min～10l/min；f.在喷涂过程中，采用多次喷涂法，单次喷涂的层厚度为0.05mm。11.根据权利要求6所述的制备方法，其特征在于，所述激光重熔处理包括如下特征a～f中的至少一种：a.激光功率0.5kw～2kw；b.扫描速度10m/min～15m/min；c.激光光斑的直径为3mm～10mm；d.搭接率为50％～70％；e.所述激光重熔处理的处理温度为所述导磁层中熔点最高的金属的熔点温度；f.在激光重熔处理时使用氩气沿激光加工方向吹气保护所述锅体。12.根据权利要求6所述的制备方法，其特征在于，所述方法还包括：在所述导磁层的外表面形成一层防护层，所述防护层的材质为耐高温有机涂料。

技术总结
本发明提供了烹饪器具及其制备方法，其中，所述烹饪器具包括锅体及形成于所述锅体表面的导磁层，所述导磁层的材质包括高熵合金，所述高熵合金包括必要元素及其他元素，所述必要元素选自Fe、Co和Ni中的至少一种，所述其他元素选自Mg、Al、Ti、V、Cr、Mn、Cu、Zn、Zr、Nb、Mo、Sn、Hf、Ta、W、Pb、Si和B中的至少三种。本申请提供的烹饪器具及其制备方法，由于导磁层包括高熵合金，可以提高导磁层的强度与硬度，提高导磁层的耐腐蚀性。磁层的耐腐蚀性。磁层的耐腐蚀性。


技术研发人员：袁华庭 李超 瞿义生 张明
受保护的技术使用者：武汉苏泊尔炊具有限公司
技术研发日：2020.12.21
技术公布日：2022/6/21