一种导热均匀且喷射范围可调的蒸发源

1.本发明涉及真空蒸镀技术领域，尤其涉及一种导热均匀且喷射范围可调的蒸发源。


背景技术：

2.真空蒸镀，简称蒸镀，是指在真空条件下，采用一定的加热蒸发方式蒸发镀膜材料(或称膜料)并使之气化，粒子飞至基片表面凝聚成膜的工艺方法。蒸镀是使用较早、用途较广泛的气相沉积技术，具有成膜方法简单、薄膜纯度和致密性高、膜结构和性能独特等优点。
3.经检索，中国专利号cn 110144550 b公开了一种蒸发源及蒸镀设备，该蒸发源包括：支撑体，设置有第一容置腔；坩埚，包括用于容置蒸镀材料的第二容置腔；所述坩埚设置于所述第一容置腔内，且位于所述支撑体的支撑面上，通过所述支撑面，所述支撑体能够支撑所述坩埚；压力传感器，设置于所述支撑面上，且所述坩埚抵压在所述压力传感器上。
4.现有技术中的蒸发源在实际使用时存在如下不足：蒸发源对镀膜材料的加热不均匀，材料蒸发升华速度快，效率低，并且材料的喷射范围固定，在实际使用时，喷射范围无法根据不同尺寸的基片进行调节，因此本发明在此提出一种导热均匀且喷射范围可调的蒸发源。


技术实现要素：

5.本发明的目的是为了解决现有技术中存在的缺陷，而提出的一种导热均匀且喷射范围可调的蒸发源。
6.为了实现上述目的，本发明采用了如下技术方案：
7.一种导热均匀且喷射范围可调的蒸发源，包括底座，所述底座的上侧设有外罩，所述外罩的内侧可拆卸设有坩埚，所述外罩的内壁且对应坩埚的底壁位置处设有称重器，所述坩埚包括外筒和内筒，所述外罩的内部还设有加热器；
8.所述加热器包括设置第一电热圈和第二电热圈，所述第一电热圈设置在外筒的外侧，所述第二电热圈设置在内筒的内侧，所述内筒的内侧和内筒的外侧之间共同形成放置腔，放置腔用于存放镀膜材料；
9.所述坩埚的上侧可拆卸设有齿环，所述齿环的下侧设有处于放置腔内的搅拌轴，所述齿环通过电机和齿轮驱动；
10.所述齿环的上侧滑动设有导流盘，所述导流盘内设有导流腔，所述导流盘的上侧开设有多个喷孔，所述喷孔的底部且位于导流腔的内侧设有开合机构；
11.所述喷孔的上侧可拆卸设有喷嘴。
12.进一步地，所述开合机构包括设置在导流腔且固定在喷孔下侧的滑轴，所述滑轴滑动安装有与喷孔的底部相匹配的密封板，所述滑轴的底部以及密封板的底壁共同安装有弹簧；
13.所述喷嘴包括与喷孔螺纹安装的喷管，所述喷管的顶部安装有旋钮，所述喷管的底部通过多个支柱固定有推环，所述喷管的底部与支柱之间设有多个出料孔。
14.进一步地，所述导流盘的底部开设有环形槽，所述搅拌轴的顶部通过滑块滑动设置在环形槽内；
15.所述搅拌轴上安装有多个搅拌齿。
16.进一步地，所述齿环的底壁与外筒的顶端滑动连接，所述齿环的齿牙与齿轮的齿牙相互啮合，所述电机固定在外罩外壁的顶部。
17.进一步地，所述外筒的外壁固定有滑条，所述外罩的顶部开设有与滑条相匹配的滑孔。
18.进一步地，所述底座的底壁安装有横向座，所述横向座与横向支架安装，所述横向支架的两端与竖向支架安装，所述竖向支架与真空室的内壁安装。
19.进一步地，述横向支架包括横向丝杆，所述横向丝杆与横向座螺纹安装，所述横向丝杆的两端转动安装有竖向座；
20.所述竖向支架包括竖向丝杆，所述竖向座与竖向丝杆螺纹安装。
21.进一步地，所述导流盘的外壁安装有辅助电热圈。
22.相比于现有技术，本发明的有益效果在于：
23.1、本发明中坩埚分为外筒和内筒，利用第一电热圈和第二电热圈可对外筒和内筒分别加热，因此坩埚内的镀膜材料受热更均匀，其蒸发升华效率更高。
24.2、本发明中在喷孔处设置开合机构，并设置喷嘴，根据需要安装不同数量的喷嘴，即可调节镀膜材料喷射的范围，从而方便对不同尺寸的基片进行镀膜。
25.3、本发明中蒸发源利用横向支架和竖向支架安装在真空室内，根据需要调节蒸发源的横向和竖向位置，满足更多的实际蒸镀需求，应用更加广泛。
26.综上所述，本发明对镀膜材料加热更加均匀，提升蒸发速率，可根据不同尺寸的基片调节镀膜材料的喷射范围，另外，蒸发源在真空室内的横向和竖向位置可调节，满足更多的实际蒸镀需求，应用更加广泛。
附图说明
27.附图用来提供对本发明的进一步理解，并且构成说明书的一部分，与本发明的实施例一起用于解释本发明，并不构成对本发明的限制。
28.图1为本发明中蒸发源与横向支架和竖向支架的安装示意图；
29.图2为本发明中蒸发源的结构示意图；
30.图3为本发明中蒸发源的内部剖视图；
31.图4为本发明中外罩和加热器的剖视图；
32.图5为本发明中坩埚的剖视图；
33.图6为本发明中搅拌轴与齿环的安装示意图；
34.图7为图3中a部分结构的放大图；
35.图8为喷嘴的剖视图；
36.图9为图3中b部分结构的放大图；
37.图10为喷孔、喷嘴在导流盘顶面的分布示意图。
38.图中：1底座、2外罩、21滑孔、3坩埚、31外筒、32内筒、33滑条、4加热器、41第一电热圈、42第二电热圈、5导流盘、51导流腔、52环形槽、6喷孔、61密封板、62滑轴、63弹簧、7喷嘴、71喷管、72支柱、73推环、74出料孔、75旋钮、8齿环、9搅拌轴、10齿轮、11电机、12称重器、13横向座、14横向支架、15竖向支架、16竖向座、17方轴、18辅助电热圈。
具体实施方式
39.下面将结合本发明实施例中的附图，对本发明实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述。
40.参照图1-10，一种导热均匀且喷射范围可调的蒸发源，包括底座1，底座1的上侧设有外罩2，外罩2的内侧可拆卸设有坩埚3，外罩2的内壁且对应坩埚3的底壁位置处设有称重器12，坩埚3包括外筒31和内筒32，外罩2的内部还设有加热器4；
41.如图1所示在底座1的底壁安装有横向座13，横向座13与横向支架14安装，横向支架14的两端与竖向支架15安装，竖向支架15与真空室的内壁安装。
42.本实施例中，横向支架14包括横向丝杆，横向丝杆与横向座13螺纹安装，横向丝杆的两端转动安装有竖向座16；竖向支架15包括竖向丝杆，竖向座16与竖向丝杆螺纹安装。
43.通过分别转动横向丝杆和竖向丝杆即可调节控制蒸发源在真空室内的竖向和横向位置，在实际蒸镀过程中更加便于使用，提高蒸发源的应用范围。
44.如图3和图4所示，上述的加热器4包括设置第一电热圈41和第二电热圈42，第一电热圈41设置在外筒31的外侧，第二电热圈42设置在内筒32的内侧，内筒32的内侧和内筒32的外侧之间共同形成放置腔，放置腔用于存放镀膜材料；
45.放置腔内的镀膜材料通过第一电热圈41和第二电热圈42可实现刚打范围的加热，其受热面积大，蒸发升华速率更高。
46.如图3和图6所示，在坩埚3的上侧可拆卸设有齿环8，齿环8的下侧设有处于放置腔内的搅拌轴9，搅拌轴9上安装有多个搅拌齿。
47.齿环8通过电机11和齿轮10驱动。齿环8的上侧滑动设有导流盘5，导流盘5内设有导流腔51，导其中，导流盘5的底部开设有环形槽52，搅拌轴9的顶部通过滑块滑动设置在环形槽52内；
48.电机11驱动齿轮10时，利用齿轮10与齿环8的啮合传动即可控制搅拌轴9在放置腔内以外筒31和内筒32的圆心为中心旋转，从而对放置腔内的镀膜材料进行搅拌，使得镀膜材料受热更加均匀，提高蒸发升华速率。
49.导流盘5的上侧开设有多个喷孔6，喷孔6的上侧可拆卸设有喷嘴7。喷孔6的底部且位于导流腔51的内侧设有开合机构；蒸发升华的镀膜材料进入导流盘5的导流腔51内。
50.如图7和图8所示，开合机构包括设置在导流腔51且固定在喷孔6下侧的滑轴62，滑轴62滑动安装有与喷孔6的底部相匹配的密封板61，滑轴62的底部以及密封板61的底壁共同安装有弹簧63；
51.喷嘴7包括与喷孔6螺纹安装的喷管71，喷管71的顶部安装有旋钮75，喷管71的底部通过多个支柱72固定有推环73，喷管71的底部与支柱72之间设有多个出料孔74。
52.根据需要或者根据基片的尺寸将多个喷嘴7与喷孔6安装，在安装时，利用喷管71与喷孔6螺纹配合，旋转旋钮75，即可使得底部的推环73可推开密封板61，此时导流腔51内
蒸发升华的镀膜材料，即可从喷孔6内安装的喷嘴7处喷向真空室内的基片从而完成镀膜。
53.本实施例中，齿环8的底壁与外筒31的顶端滑动连接，齿环8的齿牙与齿轮10的齿牙相互啮合，电机11固定在外罩2外壁的顶部。
54.本实施例中，外筒31的外壁固定有滑条33，外罩2的顶部开设有与滑条33相匹配的滑孔21。滑条32和滑孔21相互配合，可保证坩埚3的稳定性，避免在搅拌轴9旋转时随意转动。
55.在导流盘5的内壁安装方管，在坩埚3的内筒32上侧安装有方轴17，方轴17的顶部与方管插设配合，避免在搅拌轴9转动时导流盘5随意转动。
56.本实施例中，导流盘5的外壁安装有辅助电热圈18。辅助电热圈18的设置，可避免蒸发镀膜材料在导流盘5的内部边角处堆积堵塞喷孔6和喷嘴7，方便材料彻底的喷出。另外亦可以提高原料利用率、减少蒸发源清洗次数和防止残余原料的二次蒸发。