研磨用组合物的制作方法

技术特征：
1.一种研磨用组合物，其为含有水溶性高分子的研磨用组合物，其中，水溶性高分子至少含有在20℃下的4％水溶液粘度为15mpa
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s以上的乙烯醇系树脂。2.根据权利要求1所述的研磨用组合物，其中，水溶性高分子的皂化度为80～99.9摩尔％。3.根据权利要求1或2所述的研磨用组合物，其进一步含有磨料颗粒。4.根据权利要求3所述的研磨用组合物，其中，磨料颗粒含有二氧化硅。5.根据权利要求1～4中任一项所述的组合物，其中，相对于水溶性高分子的单体整体，具有酸基的单体的比例小于0.1摩尔％。6.根据权利要求1～5中任一项所述的研磨用组合物，其进一步含有ph调节剂。7.根据权利要求1～6中任一项所述的研磨用组合物，其为进一步含有磨料颗粒及ph调节剂的研磨用组合物，其中，磨料颗粒含有二氧化硅，ph调节剂含有碱性化合物。8.根据权利要求1～7中任一项所述的研磨用组合物，其进一步含有表面活性剂。9.根据权利要求1～8中任一项所述的研磨用组合物，其为进一步含有表面活性剂的研磨组合物，其中，表面活性剂包含选自具有氧化乙烯-氧化丙烯结构的共聚物及聚氧乙烯烷基醚中的至少一种。10.根据权利要求1～9中任一项所述的研磨用组合物，其为进一步含有表面活性剂的研磨用组合物，其中，以质量比计，水溶性高分子与表面活性剂的比例为1:0.01～1:200。11.根据权利要求1～10中任一项所述的研磨用组合物，其进一步包含至少含有水的溶媒，水溶性高分子的浓度为1ppm以上。12.根据权利要求1～11中任一项所述的研磨用组合物，其进一步包含至少含有水的溶媒，所述研磨用组合物的固体成分浓度为0.01质量％以上。13.一种研磨物的制造方法，其包括使用权利要求1～12中任一项所述的研磨用组合物对研磨对象物的表面进行研磨的工序。14.根据权利要求13所述的研磨物的制造方法，其包括使用至少含有水的溶媒对研磨用组合物进行稀释的稀释工序，在研磨工序中，使用稀释工序中得到的稀释液进行研磨。

技术总结
本发明提供一种新型的研磨用组合物，该研磨用组合物含有水溶性高分子，水溶性高分子至少含有在20℃下的4％水溶液粘度为15mPa


技术研发人员：村上贵志 木村佳弘
受保护的技术使用者：日本瓦姆&珀巴尔株式会社
技术研发日：2021.01.22
技术公布日：2022/9/6