加热结构及包括加热结构的气溶胶生成装置的制作方法

本公开涉及一种加热结构及包括该加热结构的气溶胶生成装置。

背景技术：

1、目前，正在开发一种通过产生热来加热对象的技术。例如，可以通过向电阻元件供电来产生热。作为另一示例，可以通过线圈和感受器之间的电磁耦合来产生热。上述背景技术的内容是发明人在开发本公开的过程中掌握或习得的内容，不应被理解为必须是提交本申请前公开的一般公知技术。

技术实现思路

1、要解决的技术问题

2、本公开的一方面可提供一种利用表面等离子体共振(surface plasmonresonance，spr)产生热的加热结构以及包括该加热结构的气溶胶生成装置。

3、解决问题的技术方法

4、一种加热结构，其包括基板，包括第一面以及与所述第一面相反的第二面；表面等离子体共振(spr)结构，位于所述第一面；以及第一反射层，其位于所述第一面以及所述spr结构上，并包括光线穿过的透光区域和向spr结构反射光线的反射区域。

5、所述反射区域可以沿着所述第一面延伸并且至少部分地包裹所述基板。

6、所述反射区域可以是实质上连续的面。

7、所述反射区域可以与所述基板和/或所述spr结构间隔开。

8、所述透光区域可以包括开口。

9、所述第二面可以形成中空部分。

10、所述加热结构还可以包括位于所述第二面上的第二反射层。

11、所述第二反射层可以至少部分接触所述第二面。

12、所述加热结构还可以包括位于所述第二反射层上的吸收层。

13、所述吸收层的辐射率可以约为1。

14、所述spr结构可以包括在第一面上至少部分地形成空隙区域的第一金属棱柱。

15、所述spr结构还可以包括第二金属棱柱以与第一金属棱柱一起在所述第一面上至少部分地形成空隙区域，其中所述第一金属棱柱和所述第二金属棱柱可以沿着所述空隙区域的周缘彼此间隔开。

16、所述第一金属棱柱可以限定所述空隙区域的整个周缘。

17、所述spr结构可以与波长范围在约380nm至约780nm之间的光共振。

18、气溶胶生成装置包括光源和从所述光源接收光线的加热结构，所述加热结构可以包括基板，包括第一面以及与第一面相反的第二面；表面等离子体共振(spr)结构，位于所述第一面上；以及第一反射层，其位于所述第一面与所述spr结构上，并包括使光线穿过而至第一面的透光区域和向spr结构反射光线的反射区域。

19、一种加热结构，包括：基板，包括第一面以及与所述第一面相反的第二面；表面等离子体共振(spr)结构，位于所述第一面上；以及反射层，包括面向所述第二面的第三面，以及与所述第三面相反的第四面，所述反射层可以包括面向所述第二面并形成在所述第三面的漫反射特征。

20、所述基板还可以包括面向所述第三面并形成在所述第二面上的漫反射特征。

21、所述基板的漫反射特征可以与所述第二反射层的漫反射特征具有实质上相同的形状。

22、所述基板的漫反射特征可以与所述第二反射层的漫反射特征至少部分地彼此接触。

23、所述漫反射特征可以形成在面向所述第二面的第三面上。

24、所述反射层可以由金属材料形成。

25、所述第三面和所述第四面之间的距离可以大于0nm并小于或等于约15nm。

26、所述加热体还可包括吸收层，所述吸收层包括面向所述第四面的第五面和与所述第五面相反的第六面。

27、所述吸收层的辐射率可以约为1。

28、所述spr结构可以包括在第一面上形成空隙区域的第一金属棱柱。

29、所述spr结构还可以包括第二金属棱柱，以与所述第一金属棱柱一起在第一面上形成孔隙区域，其中所述第一金属棱柱和所述第二金属棱柱可以沿着所述空隙区域的周缘彼此间隔开。

30、所述第一金属棱柱可以限定所述空隙区域的整个周缘。

31、所述空隙区域的直径范围可以是约300nm至约600nm。

32、气溶胶生成装置包括光源和配置成从所述光源接收光线的加热结构，其中所述加热结构可以包括基板，包括第一面以及与第一面相反的第二面；表面等离子体共振(spr)结构，位于所述第一面上；以及反射层，其包括面向所述第二面的第三面，以及与所述第三面相反的第四面，所述反射层可以包括面向所述第二面并形成在所述第三面的漫反射特征。

33、发明的有益效果

34、根据一实施例，可以通过激发(excitation)自由电子至实质相同的程度而从加热结构均匀地产生热。根据一实施例，当用加热结构对一个或更多个对象进行加热时，对象可以被局部地加热或者多个对象中的至少一部分对象被加热。根据一实施例，可以增加加热结构的加热面积。根据一实施例的加热结构和包括该加热结构的气溶胶生成装置的效果并不受限于上述效果，未言及的其他效果将通过下面的记载由本领域普通技术人员明确理解。

技术特征：

1.一种加热结构，包括：

2.根据权利要求1所述的加热结构，其中，

3.根据权利要求1所述的加热结构，其中，

4.根据权利要求1所述的加热结构，其中，

5.根据权利要求1所述的加热结构，其中，

6.根据权利要求1所述的加热结构，其中，

7.根据权利要求1所述的加热结构，还包括：

8.根据权利要求7所述的加热结构，其中，

9.根据权利要求8所述的加热结构，其中，

10.根据权利要求8所述的加热结构，其中，

11.根据权利要求8所述的加热结构，其中，

12.根据权利要求7所述的加热结构，其中，

13.根据权利要求7所述的加热结构，还包括：

14.根据权利要求13所述的加热结构，其中，

15.一种气溶胶生成装置，包括：

技术总结加热结构包括反射层，所述反射层配置成将光反射至基板和/或表面等离子体共振(SPR)结构。技术研发人员：李源暻,朱城扈,鲜于准受保护的技术使用者：韩国烟草人参公社技术研发日：技术公布日：2024/2/25