一种高强度防水透气膜的制备方法与流程

本发明属于纺织材料，具体涉及一种高强度防水透气膜的制备方法。

背景技术：

1、功能性面料是指通过改变面料性质，添加功能性材料，在生产过程中或后整理时添加各种助剂，使面料本身具有了一般服装面料所不具备的特殊作用，如防水、抗撕裂等，其中，防水性功能面料大多采用高密机织工艺配合涂层工艺，但涂层工艺虽能够很好的保证面料具备防水性，但同时降低了服装面料原有的舒适性，面料的透气性能随之降低。

2、随着纺织技术的不断发展，防水透气膜在服装面料领域应用使得面料兼顾轻质及防水透气功能，防水透气膜是以纺丝溶液为原料经静电纺丝制备的膜状材料，目前防水透气膜机械性能有待提升，为此，本发明提出了一种高强度防水透气膜的制备方法。

技术实现思路

1、本发明的目的就在于为了解决上述问题而提供一种高强度防水透气膜的制备方法。

2、本发明通过以下技术方案来实现上述目的：

3、本发明提供了一种高强度防水透气膜的制备方法，具体包括以下步骤：

4、(1)在溶剂中加入聚乳酸，搅拌均匀再加入占溶剂体积百分比0.1-1％的表面活性剂，搅拌均匀，得到聚乳酸溶液；

5、(2)将交联聚乙烯醇与步骤(1)获得的聚乳酸溶液混合，搅拌均匀得到纺丝溶液；

6、(3)设定静电纺丝仪器的参数，将步骤(3)获得的纺丝溶液加入静电纺丝仪器中进行静电纺丝处理，得到薄膜；

7、(4)后处理，收卷薄膜的同时对薄膜进行热风吹扫处理。

8、作为本发明的进一步优化方案，所述溶剂为n-二甲基甲酰胺和甲醇按照1-2:8-9体积比混合的混合溶剂。

9、作为本发明的进一步优化方案，所述聚乳酸溶液的质量浓度为10-15％。

10、作为本发明的进一步优化方案，所述交联聚乙烯醇的用量为聚乳酸用量的4-8％。

11、作为本发明的进一步优化方案，所述表面活性剂为聚氧乙烯山梨糖醇酐三油酸酯或双硬脂酸乙酯基羟乙基甲基硫酸甲酯铵。

12、作为本发明的进一步优化方案，所述聚乳酸的相对分子量为1×105。

13、作为本发明的进一步优化方案，所述步骤(3)中静电纺丝的工艺具体为，静电纺丝电压10-20kv，纺丝口与接收装置之间的纺丝距离为8-15cm，进样流速为0.1-0.2ml/h，纺丝温度为25-40℃，相对湿度为20-50％。

14、作为本发明的进一步优化方案，所述步骤(4)中，热风吹扫处理的工艺参数为热风温度为110-160℃，热风流速为5-8m/s，处理时间为30-90s。

15、本发明的有益效果在于：

16、本发明是先将聚乳酸溶液与交联聚乙烯醇混合获得的纺丝溶液加入静电纺丝仪器中进行静电纺丝处理，得到薄膜，再对薄膜进行收卷同时对薄膜进行热风吹扫处理。制得的膜样能够兼顾高强度及透气防水性，膜样的综合性能强，在服装面料领域具有较好的应用前景。

技术特征：

1.一种高强度防水透气膜的制备方法，其特征在于：具体包括以下步骤：

2.根据权利要求1所述的一种高强度防水透气膜的制备方法，其特征在于：所述溶剂为n-二甲基甲酰胺和甲醇按照1-2:8-9体积比混合的混合溶剂。

3.根据权利要求1所述的一种高强度防水透气膜的制备方法，其特征在于：所述聚乳酸溶液的质量浓度为10-15％。

4.根据权利要求1所述的一种高强度防水透气膜的制备方法，其特征在于：所述交联聚乙烯醇的用量为聚乳酸用量的4-8％。

5.根据权利要求1所述的一种高强度防水透气膜的制备方法，其特征在于：所述表面活性剂为聚氧乙烯山梨糖醇酐三油酸酯或双硬脂酸乙酯基羟乙基甲基硫酸甲酯铵。

6.根据权利要求1所述的一种高强度防水透气膜的制备方法，其特征在于：所述聚乳酸的相对分子量为1×105。

7.根据权利要求1所述的一种高强度防水透气膜的制备方法，其特征在于：所述步骤(3)中静电纺丝的工艺具体为，静电纺丝电压10-20kv，纺丝口与接收装置之间的纺丝距离为8-15cm，进样流速为0.1-0.2ml/h，纺丝温度为25-40℃，相对湿度为20-50％。

8.根据权利要求1所述的一种高强度防水透气膜的制备方法，其特征在于：所述所述步骤(4)中热风吹扫处理的工艺参数为热风温度为110-160℃，热风流速为5-8m/s，处理时间为30-90s。

技术总结本发明涉及一种高强度防水透气膜的制备方法，涉及纺织材料技术领域，制备方法具体包括以下步骤：(1)在溶剂中加入聚乳酸，搅拌均匀再加入占溶剂体积百分比0.1‑1％的表面活性剂，搅拌均匀，得到聚乳酸溶液；(2)将交联聚乙烯醇与步骤(1)获得的聚乳酸溶液混合，搅拌均匀得到纺丝溶液；(3)设定静电纺丝仪器的参数，将步骤(2)获得的纺丝溶液加入静电纺丝仪器中进行静电纺丝处理，得到薄膜；(4)后处理，收卷薄膜的同时对薄膜进行热风吹扫处理。本发明制得的膜样能够兼顾高强度及透气防水性，膜样的综合性能强，在服装面料领域具有较好的应用前景。技术研发人员：张传贵,吴昆明,李伟受保护的技术使用者：高梵（浙江）信息技术有限公司技术研发日：技术公布日：2024/6/13