一种曝光控制方法及装置与流程

本技术涉及曝光领域，具体而言，涉及一种曝光控制方法及装置。

背景技术：

1、在曝光过程中，晶圆表面被划分为多个曝光场区域，掩模图案被透镜缩小后投影曝光在硅片表面上一个曝光场区域内，然后，通过移动硅片到下一个曝光场区域的位置，开始下一次的曝光，直到完成对该硅片表面的所有曝光场区域的曝光。

2、但是在进行曝光过程中，曝光路径通常是静态展示路径规划，并且按照规划后的曝光路径直接进行曝光，没有考虑图形布局较为复杂时无法静态展示具体的曝光路径的情况，也没有考虑曝光路径不正确直接进行曝光操作导致曝光时间和曝光成本增加的问题。

技术实现思路

1、有鉴于此，本技术的目的在于提供一种曝光控制方法及装置，以克服上述至少一种缺陷。

2、第一方面，本技术实施例提供了一种曝光控制方法，所述方法包括：在针对晶圆的路径规划界面的作业区域内显示虚拟晶圆和多个虚拟曝光场，所述作业区域上显示有多个栅格，在与所述虚拟晶圆的显示区域存在重合的每个栅格所在位置处显示一虚拟曝光场；响应于路径规划指令，在所述作业区域内生成并显示一虚拟路径，所述虚拟路径包括场内曝光路线和场间曝光路线，所述场内曝光路线用于指示针对每个虚拟曝光场的曝光方向和曝光场内运行路线，所述场间曝光路线用于指示相邻虚拟曝光场之间的曝光路径；响应于虚拟曝光指令，按照所述场内曝光路线和所述场间曝光路线，在所述作业区域内动态展示针对所述多个虚拟曝光场的虚拟曝光过程。

3、在本技术的一种可选实施例中，所述在针对晶圆的路径规划界面的作业区域内显示虚拟晶圆和多个虚拟曝光场，包括：响应于界面布局指令，获取参数信息，所述参数信息包括虚拟曝光场的尺寸；在所述作业区域内显示虚拟晶圆，并在每个位置处按照所述参数信息显示所述多个虚拟曝光场。

4、在本技术的一种可选实施例中，所述曝光方向包括第一曝光方向和第二曝光方向，所述第一曝光方向和所述第二曝光方向为相反方向，其中，所述响应于路径规划指令，在所述作业区域内生成并显示一虚拟路径，包括：响应于路径规划指令，基于所述多个虚拟曝光场的曝光顺序，确定每个虚拟曝光场的曝光方向，其中，在所述曝光顺序中相邻两个虚拟曝光场的曝光方向是相反的；针对每个虚拟曝光场，基于该虚拟曝光场的曝光方向，确定该虚拟曝光场的曝光场内运行路线，所述曝光场内运行路线为从该虚拟曝光场的入口到出口之间的路线，所述入口指沿曝光方向在该虚拟曝光场内执行虚拟曝光操作的起始位置，所述出口指沿曝光方向在该虚拟曝光场内执行虚拟曝光操作的结束位置；基于每个虚拟曝光场的曝光方向，确定场间曝光路线，所述场间曝光路线为从相邻虚拟曝光场中的当前虚拟曝光场的出口到与下一虚拟曝光场的入口之间的路线；按照所述曝光顺序，依次将各虚拟曝光场的曝光场内运行路线、场间曝光路线连接，形成虚拟路径，并在所述作业区域内进行显示。

5、在本技术的一种可选实施例中，所述响应于虚拟曝光指令，按照所述场内曝光路线和所述场间曝光路线，在所述作业区域内动态展示针对所述多个虚拟曝光场的虚拟曝光过程，包括：响应于虚拟曝光指令，在起始虚拟曝光场的入口处显示虚拟图标，所述起始虚拟曝光场为所述多个虚拟曝光场中开始执行虚拟曝光操作的首个虚拟曝光场，所述虚拟图标用于表征针对所述多个虚拟曝光场执行虚拟曝光过程的虚拟工件台；针对每个虚拟曝光场，调取并播放与该虚拟曝光场对应的动画，以控制所述虚拟图标沿所述虚拟路径进行移动，所述动画包括虚拟图标从该虚拟曝光场的入口经由曝光场内运行路线、场间曝光路线运行到处于曝光顺序的下一虚拟曝光场的入口的过程。

6、在本技术的一种可选实施例中，所述方法还包括：确定每个虚拟曝光场对应的等待曝光时间，其中，通过以下方式调取并播放与每个虚拟曝光场对应的动画：在到达该虚拟曝光场对应的等待曝光时间时，调取并播放对应的虚拟曝光场的动画。

7、在本技术的一种可选实施例中，通过以下公式确定每个虚拟曝光场的等待曝光时间：

8、ti＝(texpo+tinter)×(i-1)

9、其中，ti代表第i个虚拟曝光场的等待曝光时间，texpo代表针对第i-1个虚拟曝光场所需的场内曝光时间，tinter代表从第i-1个虚拟曝光场到第i个虚拟曝光场所需的场间曝光时间。

10、在本技术的一种可选实施例中，通过以下公式确实每个虚拟曝光场所需的场内曝光时间：

11、texpo＝sizey/vy

12、其中，texpo为第i-1个虚拟曝光场所需的场内曝光时间，sizey为第i-1个虚拟曝光场在其曝光方向上的距离值，所述第i-1个虚拟曝光场的曝光方向为路径规划界面的基准坐标系的y轴方向，vy为虚拟工件台执行虚拟曝光过程的第一移动速度。

13、在本技术的一种可选实施例中，所述确定每个虚拟曝光场对应的等待曝光时间，包括：确定该虚拟曝光场所需的场内曝光时间；判断该虚拟曝光场与上一个虚拟曝光场是否处于同一行，所述多个虚拟曝光场在作业区域内按照路径规划界面的基准坐标系呈阵列形式分布；若处于同一行，则根据上一个虚拟曝光场在基准坐标系的x轴方向上的水平距离，确定场间曝光时间；若不处于同一行，则判断该虚拟曝光场和上一个虚拟曝光场在x轴方向上的水平距离是否大于在基准坐标系的y方向上的垂直距离；若水平距离大于垂直距离，则根据所述水平距离，确定所述场间曝光时间；若水平距离不大于垂直距离，则根据所述垂直距离，确定所述场间曝光时间。

14、在本技术的一种可选实施例中，通过以下公式确定每个虚拟曝光场的场间曝光时间：

15、tinter＝dx/vx

16、其中，tinter为从第i-1个虚拟曝光场到第i个虚拟曝光场所需的场间曝光时间，dx为第i-1个虚拟曝光场和第i个虚拟曝光场在x轴方向上的水平距离或者在y轴方向上的垂直距离，vx为虚拟工件台执行虚拟曝光过程的第二移动速度。

17、第二方面，本技术实施例还提供了一种曝光控制装置，所述装置包括：第一显示模块，用于在针对晶圆的路径规划界面的作业区域内显示虚拟晶圆和多个虚拟曝光场，所述作业区域上显示有多个栅格，在与所述虚拟晶圆的显示区域存在重合的每个栅格所在位置处显示一虚拟曝光场；第二显示模块，用于响应于路径规划指令，在所述作业区域内生成并显示一虚拟路径，所述虚拟路径包括场内曝光路线和场间曝光路线，所述场内曝光路线用于指示针对每个虚拟曝光场的曝光方向和曝光场内运行路线，所述场间曝光路线用于指示相邻虚拟曝光场之间的曝光路径；曝光执行模块，用于响应于虚拟曝光指令，按照所述场内曝光路线和所述场间曝光路线，在所述作业区域内动态展示针对所述多个虚拟曝光场的虚拟曝光过程。

18、本技术实施例提供了一种曝光控制方法及装置，通过响应于路径规划指令，在作业区域内生成并显示一虚拟路径，按照虚拟路径动态展示针对多个虚拟曝光场的虚拟曝光过程，通过本技术，能够预先对曝光路径进行动态展示，解决了目前没有考虑图形布局较为复杂时无法静态展示具体的曝光路径的情况，避免了因曝光路径不正确直接进行曝光操作导致曝光时间和曝光成本增加的问题。

19、为使本技术的上述目的、特征和优点能更明显易懂，下文特举较佳实施例，并配合所附附图，作详细说明如下。