一种监控光罩粒子参数的异常处理方法、设备及存储介质与流程

本申请涉及半导体，尤其涉及一种监控光罩粒子参数的异常处理方法、设备及存储介质。

背景技术：

1、晶圆制造厂负责将硅片转化为芯片，一颗芯片需要在一根头发不到的线宽中，将所有电路元件通通塞进晶圆里面，经过薄膜沉积、光刻胶涂敷、光刻显影、刻蚀、量测、清洗、离子注入等千道繁琐的制程过程。而光刻，刻蚀和薄膜沉积，作为半导体制造的三大核心工艺其中最重要的一环就是：在晶圆表面均匀涂上光刻胶，采用光刻和显影工艺使射强激光通过含有电路设计的光掩膜版(即光罩)，将其设计图形刻制到晶圆表面光刻胶。再通过刻蚀工艺把光刻胶上图形转移到薄膜形成3d图形，去除光刻胶后，即完成图形从光罩到晶圆的转移。因此在光刻过程中，对光罩上的光罩粒子相关数据监控是保证整个前道工序良率的关键所在。

2、光罩粒子相关参数异常直接会导致光刻曝光异常，蚀刻不净等缺点。然后当这些异常发生时，需要通过人工之间的流转，查操作手册等效率较低的方式才能去排查解决，无疑会影响整个产品的产出和交付，产生的报废还会增加生产制造的成本。

3、然而，现有技术中还存在如下技术问题：对于光罩的相关参数超标异常时，现有的技术方案需要频繁的人工之间的流转，较为依赖人力，异常处理的效率较低，极大影响了设备oee，产品的良率及交付。

技术实现思路

1、本申请的一个目的是提供一种监控光罩粒子参数的异常处理方法、设备及存储介质，至少用以解决上述背景技术中的缺陷。

2、为实现上述目的，本申请的一些实施例提供了以下几个方面：

3、第一方面，本申请的一些实施例还提供了一种监控光罩粒子参数的异常处理方法，包括如下步骤：

4、在目标系统中设计光刻时光照参数异常时的异常处理流程；

5、接收设备自动化系统的异常通知；

6、获取设备的设定参数及实际光照参数；

7、复核判定参数是否异常超标；

8、目标系统执行异常处理流程处理异常。

9、可选的，所述接收设备自动化系统的异常通知中，判断获取的设备基本信息及光罩粒子参数是否异常。

10、可选的，所述设备自动化系统的异常通知根据机台的设定参数和实际参数的差异与预设差异阈值获得，当机台参数异常时，向第三方系统上报异常。

11、可选的，所述复核判定参数是否异常中，对于复核判定参数为正常参数的情况，记录数据并上报进行人工处理。

12、可选的，所述记录数据并上报进行人工处理的同时重新接收设备自动化方案上报通知。

13、可选的，所述设计光刻时光照参数异常时的异常处理流程步骤中，在目标系统配置各参数异常场景的异常处理流程及相关子流程。

14、可选的，经过异常处理流程后，判断机台运行是否正常，若运行正常则上报通知至eap系统，由人工进行核验；若运行不正常则通知人工处理。

15、第二方面，本申请的一些实施例还提供了一种计算机设备，所述设备包括：一个或多个处理器；以及存储有计算机程序指令的存储器，所述计算机程序指令在被执行时使所述处理器执行如上所述的方法。

16、第三方面，本申请的一些实施例还提供了一种存储介质，其上存储有计算机程序指令，所述计算机程序指令可被处理器执行以实现如上所述的方法。

17、相较于现有技术，本申请实施例提供的方案中，本申请将光罩的相关参数的监控及异常处理结合ffs实现流程规范化，当机台的设定参数超过阈值而告警时，设备会将异常上报eap系统，eap系统会调用ffs的异常处理流程执行异常处理，在此过程中ffs系统主要负责对光罩参数的异常复核，及异常处理的流程执行。相较于传统的异常处理方式，将依赖人工的处理方式转为自动的，规范的异常处理将极大提高异常的处理效率，实现更高效、快速和精确的生产过程。

技术特征：

1.一种监控光罩粒子参数的异常处理方法，其特征在于，包括如下步骤：

2.根据权利要求1所述的监控光罩粒子参数的异常处理方法，其特征在于，所述接收设备自动化系统的异常通知中，判断获取的设备基本信息及光罩粒子参数是否异常。

3.根据权利要求1所述的监控光罩粒子参数的异常处理方法，其特征在于，所述设备自动化系统的异常通知根据机台的设定参数和实际参数的差异与预设差异阈值获得，当机台参数异常时，向第三方系统上报异常。

4.根据权利要求1所述的监控光罩粒子参数的异常处理方法，其特征在于，所述复核判定参数是否异常，对于复核判定参数为正常参数的情况，记录数据并上报进行人工处理。

5.根据权利要求4所述的监控光罩粒子参数的异常处理方法，其特征在于，所述记录数据并上报进行人工处理的同时重新接收设备自动化方案上报通知。

6.根据权利要求1所述的监控光罩粒子参数的异常处理方法，其特征在于，所述设计光刻时光照参数异常时的异常处理流程步骤中，在目标系统配置各参数异常场景的异常处理流程及相关子流程。

7.根据权利要求1所述的监控光罩粒子参数的异常处理方法，其特征在于，经过异常处理流程后，判断机台运行是否正常，若运行正常则上报通知至eap系统，由人工进行核验；若运行不正常则通知人工处理。

8.一种计算机设备，其特征在于，所述设备包括：

9.一种存储介质，其上存储有计算机程序指令，所述计算机程序指令可被处理器执行以实现如权利要求1-7任意一项所述的方法。

技术总结本申请提供了一种监控光罩粒子参数的异常处理方法、设备及存储介质，包括如下步骤：接收设备自动化系统的异常通知；获取设备的设定参数及实际光照参数；复核判定参数是否异常超标；设计光刻时光照参数异常时的异常处理流程；目标系统执行异常处理流程处理异常。可以至少用以解决现有的技术方案需要频繁的人工之间的流转，较为依赖人力，异常处理的效率较低，极大影响了设备OEE，产品的良率及交付的技术问题。技术研发人员：张旺,阙士芯,蒋越,林盼受保护的技术使用者：上海朋熙半导体有限公司技术研发日：技术公布日：2024/5/19