一种高增益抗光投影幕布及其制作方法与流程

本发明涉及投影显示，具体涉及一种高增益抗光投影幕布及其制作方法。

背景技术：

1、由于投影成像的环境中有灯光或太阳光等环境光，导致投影光的背景亮度增加，降低了投影图像的视觉效果。如何提高投影系统的抗光性能是该领域的痛点。现有技术中常规的方法是采用选择性吸收的方案，该方案将投影光和环境光分离后，吸收环境光，保留投影光，达到抗光投影效果。虽然该技术具有一定的效果，但是其存在的缺陷为：需要制备周期性排列的吸收层和反射层，需要使用套刻工艺，显著增加了制造成本和技术难度。

2、此外，常见的反射增强层采用金属铝和银等实现高反射率，增强幕布亮度，但是金属铝的反射率在90％左右，银的反射率约91％，反射损失较大。如何实现有效吸收环境光，反射投影光是投影幕布的关键因素。基于此，本发明提出了一种高增益抗光投影幕布及其制作方法。

技术实现思路

1、基于上述表述，本发明提供了一种高增益抗光投影幕布及其制作方法，以解决现有技术中存在的投影幕布反射光损失较大的技术问题。

2、本发明解决上述技术问题的技术方案如下：

3、第一方面，本发明提供一种高增益抗光投影幕布，包括：

4、衬底、微透镜阵列、布拉格反射镜及吸光层；

5、所述微透镜阵列设于所述衬底上；所述衬底位于投影光线的入射侧；

6、所述布拉格反射镜设于所述微透镜阵列背离所述衬底的一侧；

7、所述吸光层设于所述所述布拉格反射镜上。

8、在上述技术方案的基础上，本发明还可以做如下改进。

9、进一步的，所述布拉格反射镜由多层半导体薄膜交替沉积得到。

10、进一步的，所述布拉格反射镜由5～10组高折射率半导体薄膜和低折射率半导体薄膜交替层叠组成。

11、进一步的，所述吸光层用于吸收可见光。

12、进一步的，所述吸光层对可见光的光通量为1000～1400流明。

13、第二方面，本发明还提供一种如第一方面所述的高增益抗光投影幕布的制作方法，包括如下步骤：

14、步骤一、在衬底上制备出微透镜阵列；

15、步骤二、在所述微透镜阵列表面交替沉积折射率不同的两种半导体薄膜5～10个周期，形成布拉格反射镜；

16、步骤三、在所述布拉格反射镜表面沉积一层所述吸光层。

17、在上述技术方案的基础上，本发明还可以做如下改进。

18、进一步的，所述步骤一，具体包括：

19、准备pet薄膜作为所述衬底；

20、在所述pet薄膜上涂一层uv胶；

21、将微透镜图案压印到所述uv胶上，即得微透镜阵列。

22、进一步的，所述步骤二，具体包括：

23、在所述微透镜阵列上沉积一层sio2薄膜；

24、在所述sio2薄膜上沉积一层tio2薄膜；

25、重复交替沉积4～9个周期，即得布拉格反射镜。。

26、与现有技术相比，本申请的技术方案具有以下有益技术效果：

27、本发明提供的高增益抗光投影幕布设置有衬底、微透镜阵列、布拉格反射镜和吸光层，其中的布拉格反射镜相较于现有技术中的传统金属反射镜，能够有效增强微结构层的光反射率，从而实现投影幕布的高增益效果；此外，使用吸光层，能够整体减弱环境光，产生抗光功能。

28、因此，本发明提供的高增益抗光投影幕布可有效在增强光反射率的同时减弱环境光，具有高增益抗光效果。

技术特征：

1.一种高增益抗光投影幕布，其特征在于，包括：衬底、微透镜阵列、布拉格反射镜及吸光层；

2.根据权利要求1所述的高增益抗光投影幕布，其特征在于，所述布拉格反射镜由多层半导体薄膜交替沉积得到。

3.根据权利要求2所述的高增益抗光投影幕布，其特征在于，所述布拉格反射镜由5～10组高折射率半导体薄膜和低折射率半导体薄膜交替层叠组成。

4.根据权利要求1所述的高增益抗光投影幕布，其特征在于，所述吸光层用于吸收可见光。

5.根据权利要求4所述的高增益抗光投影幕布，其特征在于，所述吸光层对可见光的光通量为1000～1400流明。

6.一种如权利要求1至5任一所述的高增益抗光投影幕布的制作方法，其特征在于，包括如下步骤：

7.根据权利要求6所述的制作方法，其特征在于，所述步骤一，具体包括：

8.根据权利要求7所述的制作方法，其特征在于，所述步骤二，具体包括：

技术总结本发明提供一种高增益抗光投影幕布及其制作方法，上述高增益抗光投影幕布包括：衬底、微透镜阵列、布拉格反射镜及吸光层；微透镜阵列设于衬底上；衬底位于投影光线的入射侧；布拉格反射镜设于微透镜阵列背离衬底的一侧；吸光层设于布拉格反射镜上。该投影幕布能够有效增强微结构层的光反射率，且能够整体减弱环境光，即能够有效的在增强光反射率的同时减弱环境光，具有高增益抗光效果。技术研发人员：李春阳,万辉,李华容,王德铭,桂成群,黄昭利,华宇受保护的技术使用者：湖北宜美特全息科技有限公司技术研发日：技术公布日：2024/5/27