带宽增加的测量方法和装置与流程

本发明涉及可用于例如通过光刻技术在器件的制造中使用的光刻方法和装置，并且涉及使用光刻技术来制造器件的方法。

背景技术：

1、光刻装置是一种将期望图案施加到衬底上、通常是施加到衬底的目标部分上的机器。光刻装置可以用于例如集成电路(ic)的制造。在这种情况下，可以将图案形成装置(其替代地称为掩模或掩模版)用于生成要形成在ic的单个层上的电路图案。该图案可以被转印到衬底(例如，硅晶片)上的目标部分(例如，包括一个或若干管芯的一部分)上。图案的转印通常是经由成像到设置在衬底上的辐射敏感材料(抗蚀剂)层上来进行的。通常，单个衬底将包含连续地被图案化的相邻目标部分的网络。在光刻工艺中，经常需要对所产生的结构进行测量，例如用于工艺控制和验证。用于进行这种测量的各种工具是已知的，包括：通常用于测量临界尺寸(cd)的扫描电子显微镜；以及用于测量覆盖(即，器件中的两层的对准的准确性的度量)的专用工具。覆盖可以根据两层之间的未对准程度来描述，例如，参考所测量的1nm的覆盖可以描述其中两层以1nm未对准的情况。

2、近来，已经开发出各种形式的散射仪以用于光刻领域。这些器件将辐射束引导到目标上，并且测量散射辐射的一个或多个特性(例如，单个反射角下的强度与波长的关系；一个或多个波长下的强度与反射角的关系；或者偏振与反射角的关系)以获取“光谱”，从所获取的“光谱”可以确定目标的感兴趣特性。感兴趣特性的确定可以通过多种技术来执行：例如，通过诸如严格耦合波分析或有限元方法等迭代方法来进行的目标重构；库搜索；以及主成分分析。

3、由于各种原因，例如，为了使晶片上的空间最大化，目标变得越来越小。随着目标缩小，确保足够的照射(例如，每次测量的光子数)以确保良好的测量质量和信噪比特性变得越来越困难。目标越小，每秒入射在目标上的光子就越少，并且因此测量时间会增加。期望减少该测量时间和/或解决上述问题之一。

技术实现思路

1、在第一方面，本发明提供一种针对测量应用来优化测量照射的带宽的方法，上述方法包括：利用具有参考带宽的参考测量照射来执行参考测量；执行一个或多个优化测量，上述一个或多个优化测量中的每个是利用具有变化的候选带宽的测量照射来执行的；将上述一个或多个优化测量与上述参考测量进行比较；以及基于上述比较来为测量应用选择最佳带宽。

2、在第二方面，本发明提供了一种在测量应用中使用测量照射来执行测量的方法，上述方法包括针对上述测量应用来优化测量照射的带宽。

3、本发明还提供了一种量测装置，该量测装置包括：可操作以提供测量照射的照射源；以及可操作以针对每个测量应用来优化测量照射的带宽的处理器。

4、本发明还提供了一种用于执行第一方面的方法的量测装置和非暂态计算机程序产品。

5、下面参考附图详细描述本发明的其他特征和优点、以及本发明的各种实施例的结构和操作。注意，本发明不限于本文中描述的特定实施例。本文中提出这样的实施例仅用于说明性目的。基于本文中包含的教导，其他实施例对相关领域的技术人员将是很清楚的。

技术特征：

1.一种用在半导体制造工艺中的量测装置，所述量测装置包括：

2.根据权利要求1所述的量测装置，其中所述性能指标包括拒绝阈值，使得所述最佳带宽与如下的所述最宽候选带宽相对应，针对所述最宽候选带宽的所述带宽影响值低于所述拒绝阈值。

3.根据权利要求2所述的量测装置，其中在所述一个或多个优化测量期间所述变化的候选带宽被增加，直到所述带宽影响值超过所述拒绝阈值。

4.根据权利要求1至3中任一项所述的量测装置，其中每个带宽影响值包括优化测量与所述参考测量之间的差值。

5.根据权利要求1至3中任一项所述的量测装置，其中所述变化的候选带宽中的每个候选带宽比所述参考带宽宽。

6.根据权利要求1至3中任一项所述的量测装置，其中所述比较步骤包括：将从所述一个或多个优化测量中的每个优化测量获取的检测图像与在所述参考测量期间获取的检测图像进行比较。

7.根据权利要求1至3中任一项所述的量测装置，其中所述比较步骤包括：将根据所述一个或多个优化测量中的每个优化测量而计算的参数值与根据所述参考测量而计算的参数值进行比较。

8.根据权利要求1至3中任一项所述的量测装置，其中所述量测装置还包括:

9.根据权利要求8所述的量测装置，其中所述多个不同位置分布在衬底场或衬底区域之上。

10.根据权利要求8所述的量测装置，其中所述比较包括：对变化量度的比较，所述变化量度的比较对被比较的每组测量中的变化量进行比较。

11.根据权利要求8所述的量测装置，其中所述光学系统还被配置为：利用具有所述最佳带宽的最佳带宽测量照射，执行测量。

12.根据权利要求11所述的量测装置，所述处理器还被配置为：

13.根据权利要求12所述的量测装置，其中所述处理器还被配置为：根据与所述最佳带宽相对应的测量数据和与所述参考带宽相对应的参考数据之间的确定的关系，确定对所述参数值的校正。

14.一种非暂态计算机程序产品，所述非暂态计算机程序产品包括机器可读指令，所述机器可读指令当被处理器执行时使所述处理器：

技术总结公开了一种针对测量应用(335；340；345)优化(300)测量照射的带宽的方法、以及一种相关联的量测装置。该方法包括：利用具有参考带宽的参考测量照射，执行(305)参考测量；以及执行(310；325)一个或多个优化测量，上述一个或多个优化测量中的每个优化测量是利用具有变化的候选带宽的测量照射来执行的。将一个或多个优化测量与参考测量进行比较(320)；并且基于比较，为测量应用选择(330)最佳带宽。技术研发人员：H·A·J·克拉默,S·I·莫萨瓦特,P·C·欣南受保护的技术使用者：ASML荷兰有限公司技术研发日：技术公布日：2024/5/27