可调多波段高能量紫外LED曝光机系统及工作方法与流程
- 国知局
- 2024-06-21 12:17:14
本发明属于光学元件,具体涉及一种可调多波段高能量紫外led曝光机系统及工作方法。
背景技术:
1、随着行业的继续发展,技术的飞跃突破,应用的大力推广,led的光效也在不断提高,价格不断走低。新的组合式管芯的出现,也让单个led管(模块)的功率不断提高。通过同业的不断努力研发,新型光学设计的突破,新灯种的开发,产品单一的局面也有望在进一步扭转。不论pcb行业还是lcd行业,紫外曝光机需求高照度、高均匀性、高准直度、波段的需求,并且对寿命有严格要求,因此,led曝光系统逐渐取代汞灯曝光机设计。
2、led曝光系统在使用过程中会产生大量的热量,需要在led曝光系统使用过程中持续保持散热,散热的方式可以采用水冷散热,但是随着散热持续的时间增加,散热水管中可能会积存杂质,导致散热效果的下降,散热水管为了增加散热效率一般的排布方式又是多个u型排布的结合,难以对内壁进行清理。
3、因此,基于上述技术问题需要设计一种新的可调多波段高能量紫外led曝光机系统及工作方法。
技术实现思路
1、本发明的目的是提供一种可调多波段高能量紫外led曝光机系统及工作方法。
2、为了解决上述技术问题,本发明提供了一种可调多波段高能量紫外led曝光机系统,包括:
3、箱体、光源装置、散热装置和清理装置;
4、所述光源装置设置在所述箱体内,所述光源装置适于发出光源,并且光源装置适于调节输出光功率;
5、所述散热装置设置在所述箱体内,所述散热装置适于对箱体内进行散热;
6、所述清理装置设置在所述散热装置内,所述清理装置适于在所述散热装置内移动,以对散热装置进行清理。
7、进一步,所述光源装置包括:若干光源模块和若干准直透镜;
8、所述光源模块与所述准直透镜对应;
9、所述光源模块发出的光线经过准直透镜后射出所述箱体。
10、进一步,所述光源模块独立控制,以调整每个光源模块的输出光功率。
11、进一步,所述光源模块和与光源模块对应的准直透镜的角度适于调节。
12、进一步,所述清理装置包括:上清理机构和下清理机构;
13、所述上清理机构与所述下清理机构连接,并且所述上清理机构与所述下清理机构连通;
14、所述上清理机构与所述下清理机构适于同步转动。
15、进一步,所述下清理机构包括:锥形块;
16、所述锥形块横截面积较小的一端与所述上清理机构连接;
17、所述锥形块横截面积较小的端面上设置有凹槽;
18、所述凹槽内设置有引导块,所述引导块的侧壁与所述凹槽的内壁之间存在间隙;
19、所述锥形块内设置有若干弧形通槽,所述弧形通槽的一端设置在凹槽的内壁上,弧形通槽的另一端设置在锥形块的外壁上;
20、所述弧形通槽等距设置。
21、进一步,所述引导块呈锥形,所述引导块横截面积较小的端面朝向凹槽的开口。
22、进一步,所述锥形块横截面积较大的端面上开设有若干安装槽;
23、所述安装槽内滑动设置有凸块,所述凸块适于从锥形块的侧壁上滑出安装槽;
24、所述凸块与所述安装槽之间通过弹簧连接。
25、进一步,所述上清理机构包括:环形块;
26、所述环形块的内壁变径设置,所述环形块内壁直径较小的一端与所述锥形块的凹槽连通;
27、所述锥形块最长的直径小于环形块的外径;
28、所述环形块的外径与散热装置水管的内径适配。
29、进一步,所述环形块的外壁上开设有若干第一清理槽和若干第二清理槽;
30、所述第一清理槽与所述第二清理槽交错设置;
31、所述第一清理槽与所述环形块远离锥形块的端面连通;
32、所述第二清理槽与所述环形块靠近锥形块的端面连通。
33、进一步,所述散热装置包括:固定架和散热水管;
34、所述散热水管设置在所述固定架和上;
35、所述固定架设置在所述箱体内;
36、所述散热水管的进水口和出水口上均套设有固定套;
37、所述清理装置适于通过散热水管的进水口进入散热水管内。
38、另一方面,本发明还提供一种上述的可调多波段高能量紫外led曝光机系统采用的工作方法,包括:
39、通过光源装置按需求的输出光功率进行照射;
40、通过散热装置对应光源装置进行散热;
41、通过清理装置对散热装置进行清理。
42、本发明的有益效果是,本发明通过箱体、光源装置、散热装置和清理装置;所述光源装置设置在所述箱体内,所述光源装置适于发出光源,并且光源装置适于调节输出光功率;所述散热装置设置在所述箱体内,所述散热装置适于对箱体内进行散热;所述清理装置设置在所述散热装置内,所述清理装置适于在所述散热装置内移动,以对散热装置进行清理;实现了照射的高照度、高均匀、高准直以及多波段需求,并且通过清理装置可以快速高效的对散热装置进行清理,保证散热效果。
43、本发明的其他特征和优点将在随后的说明书中阐述,并且,部分地从说明书中变得显而易见,或者通过实施本发明而了解。本发明的目的和其他优点在说明书以及附图中所特别指出的结构来实现和获得。
44、为使本发明的上述目的、特征和优点能更明显易懂,下文特举较佳实施例,并配合所附附图,作详细说明如下。
技术特征:1.一种可调多波段高能量紫外led曝光机系统,其特征在于,包括:
2.如权利要求1所述的可调多波段高能量紫外led曝光机系统,其特征在于:
3.如权利要求2所述的可调多波段高能量紫外led曝光机系统,其特征在于:
4.如权利要求2所述的可调多波段高能量紫外led曝光机系统,其特征在于:
5.如权利要求1所述的可调多波段高能量紫外led曝光机系统,其特征在于:
6.如权利要求5所述的可调多波段高能量紫外led曝光机系统,其特征在于:
7.如权利要求6所述的可调多波段高能量紫外led曝光机系统,其特征在于:
8.如权利要求6所述的可调多波段高能量紫外led曝光机系统,其特征在于:
9.如权利要求6所述的可调多波段高能量紫外led曝光机系统,其特征在于:
10.如权利要求9所述的可调多波段高能量紫外led曝光机系统,其特征在于:
11.如权利要求1所述的可调多波段高能量紫外led曝光机系统,其特征在于:
12.一种采用如权利要求1-11任一项所述的可调多波段高能量紫外led曝光机系统采用的工作方法,其特征在于,包括:
技术总结本发明属于光学元件技术领域,具体涉及一种可调多波段高能量紫外LED曝光机系统及工作方法,包括:箱体、光源装置、散热装置和清理装置;所述光源装置设置在所述箱体内,所述光源装置适于发出光源,并且光源装置适于调节输出光功率;所述散热装置设置在所述箱体内,所述散热装置适于对箱体内进行散热;所述清理装置设置在所述散热装置内,所述清理装置适于在所述散热装置内移动,以对散热装置进行清理;实现了照射的高照度、高均匀、高准直以及多波段需求,并且通过清理装置可以快速高效的对散热装置进行清理,保证散热效果。技术研发人员:万佳,李治显受保护的技术使用者:苏州汇影光学技术有限公司技术研发日:技术公布日:2024/5/29本文地址:https://www.jishuxx.com/zhuanli/20240618/26470.html
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