电子照相感光构件、处理盒和电子照相设备的制作方法

本公开涉及电子照相感光构件、处理盒和电子照相设备。

背景技术：

1、为了长期使用时的图像品质改善，迄今为止已对电子照相感光构件、处理盒和电子照相设备进行了广泛研究。

2、作为实例，日本专利号04862663公开了在感光层中含有具有特定骨架的聚芳酯和聚碳酸酯的电子照相感光构件(下文中也称为“感光构件”)能够提高针对感光构件上的负荷的耐磨耗性和耐划痕性。然而，在表面上形成了细微的凹凸，推测这是因为两种树脂难以均匀地分散在层中。推测这种结构起到减少与外部物质的接触面积的作用。

技术实现思路

1、然而，作为本发明人在低温低湿环境中长时间使用日本专利号04862663中描述的感光构件的结果，出现了由于划痕导致的条纹状图像缺陷。关于其原因，发现在接触构件与感光构件的表面层的摩擦部分，调色剂中所含有的外部添加剂、纸粉或其它硬异物被接触构件捕获，并以此作为起点产生划痕。作为在低温低湿环境中观察到这种现象的原因，接触构件本身由于低温的影响而变硬被认为是一个原因。

2、因此，本发明人着眼于构成电子照相感光构件的表面层的树脂，结果发现，使用其中已将具有特定结构的聚芳酯和聚碳酸酯混合在一起的表面层提高对外部冲击的耐划痕性，并达成本发明。

3、因此，本发明的目的在于提供电子照相感光构件、处理盒和电子照相设备，其中选择对外部冲击具有高耐划痕性的树脂并抑制图像缺陷。

4、上述目的是通过如下的本发明而实现的。即，本发明的第一方面是一种电子照相感光构件，其具有包含聚芳酯和聚碳酸酯的表面层，其中所述聚芳酯具有选自由下式(1-1)表示的结构单元、下式(1-2)表示的结构单元和下式(1-3)表示的结构单元组成的组中的至少一种结构单元，和所述聚碳酸酯具有下式(2-1)表示的结构单元。

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6、此外，第二方面是一种电子照相感光构件，其具有包含聚芳酯和聚碳酸酯的表面层，其中，在从所述表面层回收的高分子组分的组分分析中，所述聚芳酯具有在tmah共存下的热解气相色谱-质谱中tic具有检测到m/z＝242和m/z＝227的组分的ms谱的峰和具有在使用重氢氯仿的1h-nmr谱中在2.40±0.02ppm和2.35±0.02ppm处的峰，和所述聚碳酸酯具有在tmah共存下的热解气相色谱-质谱中tic具有检测到m/z＝242和m/z＝227的组分的ms谱的峰和具有在使用重氢氯仿的1h-nmr谱中在2.40±0.02ppm处的峰。

7、此外，根据本发明的处理盒是一体化地支承电子照相感光构件和选自由充电单元、显影单元和清洁单元组成的组中的至少一种单元的处理盒，并且所述处理盒可拆卸地安装至电子照相设备的主体。

8、此外，本发明是一种电子照相设备，其具有电子照相感光构件、充电单元、曝光单元、显影单元和转印单元。

9、参照附图，从以下示例性实施方案的描述，本发明的进一步特征将变得显而易见。

技术特征：

1.一种电子照相感光构件，其特征在于，其包括：

2.根据权利要求1所述的电子照相感光构件，其中所述表面层包括5摩尔％以上且40摩尔％以下的式(2-1)表示的结构单元。

3.根据权利要求1所述的电子照相感光构件，其中所述聚碳酸酯包括20摩尔％以上且60摩尔％以下的式(2-1)表示的结构单元。

4.一种电子照相感光构件，其特征在于，其包括：

5.根据权利要求1至4中任一项所述的电子照相感光构件，其中所述表面层包含二氧化硅细颗粒。

6.根据权利要求5所述的电子照相感光构件，其中所述二氧化硅细颗粒的体积平均粒径为0.1μm至0.5μm。

7.一种处理盒，其特征在于，所述处理盒一体化地支承根据权利要求1至6中任一项所述的电子照相感光构件和选自由充电单元、显影单元和清洁单元组成的组中的至少一种单元，并且可拆卸地安装至电子照相设备的主体。

8.一种电子照相设备，其特征在于，其包括根据权利要求1至6中任一项所述的电子照相感光构件、充电单元、曝光单元、显影单元和转印单元。

技术总结本发明涉及电子照相感光构件、处理盒和电子照相设备。提供的是一种电子照相感光构件，其中在低温低湿环境中的长期使用中可以抑制条纹状图像缺陷。一种电子照相感光构件，其具有包含聚芳酯和聚碳酸酯的表面层，其中所述聚芳酯具有选自由下式(1‑1)表示的结构单元、下式(1‑2)表示的结构单元和下式(1‑3)表示的结构单元组成的组中的至少一种结构单元，和所述聚碳酸酯具有下式(2‑1)表示的结构单元。技术研发人员：石塚由香,樋山史幸,榊原彰,西田孟,三浦大祐受保护的技术使用者：佳能株式会社技术研发日：技术公布日：2024/5/29