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一种光刻胶涂覆装置的制作方法

  • 国知局
  • 2024-06-21 12:24:42

本技术涉及光刻胶涂覆装置的,特别是涉及一种光刻胶涂覆装置。

背景技术:

1、光刻胶(photoresist)又称光致抗蚀剂,是指通过紫外光、电子束、离子束、x射线等的照射或辐射,其溶解度发生变化的耐蚀剂刻薄膜材料,在光刻工艺过程中,用作抗腐蚀涂层材料,目前在将光刻胶涂覆在芯片上时,如现有技术如授权公告号为cn218383655u的实用新型专利中,该装置包括底座,所述底座的外侧壁安装有罩体,所述罩体的顶端安装有安装座,且安装座的内部安装有电热板,所述底座的内部设置有转动机构,所述转动机构的顶端设置有真空吸盘机构,且真空吸盘机构的顶端设置有芯片,所述芯片的一侧设置有毛刷。

2、但该装置使用中发现,该装置需要人员手动涂覆操作,并且芯片涂覆之前不便于对其表面清洁处理,芯片上附着灰尘异物后,容易导致涂覆光刻胶后表面不平整的情况,降低了涂覆质量。

技术实现思路

1、为解决上述技术问题,本实用新型提供一种提高芯片涂胶前清理的便利性,减少人员手动涂覆操作的劳动强度,提高涂覆质量的光刻胶涂覆装置。

2、本实用新型的一种光刻胶涂覆装置,包括吸气箱和工作台,工作台安装在吸气箱顶端,并且工作台顶端中部设置有吸气孔;还包括排料装置、吸气装置、进气装置、第一电缸、吹气箱和吹气管,第一电缸的固定端安装在排料装置上,排料装置用于对光刻胶排放,吹气箱安装在第一电缸的移动端上,吹气箱与外部气源连通,多组吹气管均连通设置在吹气箱底端,工作台外侧壁上连通设置有进气装置,吸气箱安装在吸气装置上,吸气装置用于对吸气箱内吸气,并且吸气装置用于带动吸气箱旋转;将需要涂胶的芯片放置在工作台顶端,使芯片将吸气孔覆盖,之后通过控制第一电缸移动端伸缩长度,使第一电缸带动吹气箱和多组吹气管移动至芯片上方,之后打开吸气装置对吸气箱内吸气,使吸气箱内形成负压后通过吸气孔将芯片吸附固定,通过外部气源将空气输送至吹气箱内部,使多组吹气管对芯片表面吹气清理,之后涂胶装置将光刻胶排放至芯片顶端中部,同时吸气装置带动吸气箱旋转,吸气箱带动芯片旋转,通过离心作用使光刻胶涂覆在芯片表面上,提高装置对芯片涂胶前清理的便利性,减少人员手动涂覆操作的劳动强度,提高涂覆质量。

3、优选的,所述进气装置包括筒体、限位环、活塞、拉杆、弹簧和限位杆,筒体连通设置在工作台外侧壁上,筒体外侧壁周向设置有通孔,限位环安装在筒体内侧壁上,活塞滑动设置在筒体内部,拉杆后端与活塞外侧壁旋转连接,拉杆前端伸出筒体外部,弹簧配合安装在筒体内侧壁上,限位杆安装在筒体外侧壁上;由于弹簧对活塞提供推动力,使活塞将筒体的多组通孔封堵,提高吸气箱内吸气形成负压状态的便利性,当需要将工作台顶端涂覆完成后的芯片取下时,抓取拉杆向外拉动,使拉杆带动活塞向外滑动,此时吸气箱内通过筒体的多组通孔与室外相通,从而使室外空气进入吸气箱内部,便于人员将工作台顶端的芯片收取,提高操作的便利性,通过将拉杆旋转调节使限位杆对拉杆的移动限位,减少吸气箱旋转时活塞向外移动的情况。

4、优选的,所述吸气装置包括底座、套筒、吸气管和真空泵,套筒旋转安装在底座顶端,吸气箱底端与套筒顶端连接,吸气管顶端与吸气箱内连通,吸气管底端旋转安装在底座顶端,真空泵安装在底座内侧壁上,并且真空泵输入端与吸气管底端连通;打开真空泵通过吸气管对0内吸气,从而使吸气箱内形成负压,提高芯片在工作台顶端固定的便利性。

5、优选的,所述排料装置包括架体、排料管和排料管,架体安装在底座顶端,第一电缸的固定端安装在架体外侧壁上,第二电缸的固定端安装在架体顶端,排料管安装在第二电缸的移动端上;通过排料管将光刻胶排放至芯片上,提高装置使用的便利性。

6、优选的,还包括齿环和电机,齿环安装在套筒内侧壁上,电机安装在底座内侧壁上,电机输出端设置有齿轮,齿轮与齿环啮合;电机带动齿轮旋转,齿轮旋转后通过与齿环的啮合带动套筒旋转,提高工作台带动芯片旋转的便利性。

7、优选的,所述工作台吸气孔底端设置有过滤网;减少室外灰尘污垢进入吸气箱内部。

8、优选的,还包括多组支脚,多组支脚均设置在底座底端;通过设置多组支脚,提高装置使用的平稳性。

9、与现有技术相比本实用新型的有益效果为:将需要涂胶的芯片放置在工作台顶端,使芯片将吸气孔覆盖,之后通过控制第一电缸移动端伸缩长度,使第一电缸带动吹气箱和多组吹气管移动至芯片上方,之后打开吸气装置对吸气箱内吸气,使吸气箱内形成负压后通过吸气孔将芯片吸附固定,通过外部气源将空气输送至吹气箱内部,使多组吹气管对芯片表面吹气清理,之后涂胶装置将光刻胶排放至芯片顶端中部,同时吸气装置带动吸气箱旋转,吸气箱带动芯片旋转,通过离心作用使光刻胶涂覆在芯片表面上,提高装置对芯片涂胶前清理的便利性,减少人员手动涂覆操作的劳动强度,提高涂覆质量。

技术特征:

1.一种光刻胶涂覆装置,包括吸气箱(1)和工作台(2),工作台(2)安装在吸气箱(1)顶端,并且工作台(2)顶端中部设置有吸气孔;其特征在于,还包括排料装置、吸气装置、进气装置、第一电缸(3)、吹气箱(4)和吹气管(5),第一电缸(3)的固定端安装在排料装置上,排料装置用于对光刻胶排放,吹气箱(4)安装在第一电缸(3)的移动端上,吹气箱(4)与外部气源连通,多组吹气管(5)均连通设置在吹气箱(4)底端,工作台(2)外侧壁上连通设置有进气装置,吸气箱(1)安装在吸气装置上,吸气装置用于对吸气箱(1)内吸气,并且吸气装置用于带动吸气箱(1)旋转。

2.如权利要求1所述的一种光刻胶涂覆装置,其特征在于,所述进气装置包括筒体(6)、限位环(7)、活塞(8)、拉杆(9)、弹簧(10)和限位杆(11),筒体(6)连通设置在工作台(2)外侧壁上,筒体(6)外侧壁周向设置有通孔,限位环(7)安装在筒体(6)内侧壁上,活塞(8)滑动设置在筒体(6)内部,拉杆(9)后端与活塞(8)外侧壁旋转连接,拉杆(9)前端伸出筒体(6)外部,弹簧(10)配合安装在筒体(6)内侧壁上,限位杆(11)安装在筒体(6)外侧壁上。

3.如权利要求1所述的一种光刻胶涂覆装置,其特征在于,所述吸气装置包括底座(12)、套筒(13)、吸气管(14)和真空泵(15),套筒(13)旋转安装在底座(12)顶端,吸气箱(1)底端与套筒(13)顶端连接,吸气管(14)顶端与吸气箱(1)内连通,吸气管(14)底端旋转安装在底座(12)顶端,真空泵(15)安装在底座(12)内侧壁上,并且真空泵(15)输入端与吸气管(14)底端连通。

4.如权利要求1所述的一种光刻胶涂覆装置,其特征在于,所述排料装置包括架体(16)、排料管(18)和排料管(18),架体(16)安装在底座(12)顶端,第一电缸(3)的固定端安装在架体(16)外侧壁上,第二电缸(17)的固定端安装在架体(16)顶端,排料管(18)安装在第二电缸(17)的移动端上。

5.如权利要求3所述的一种光刻胶涂覆装置,其特征在于,还包括齿环(19)和电机(20),齿环(19)安装在套筒(13)内侧壁上,电机(20)安装在底座(12)内侧壁上,电机(20)输出端设置有齿轮(21),齿轮(21)与齿环(19)啮合。

6.如权利要求1所述的一种光刻胶涂覆装置,其特征在于,所述工作台(2)吸气孔底端设置有过滤网。

7.如权利要求3所述的一种光刻胶涂覆装置,其特征在于,还包括多组支脚(22),多组支脚(22)均设置在底座(12)底端。

技术总结本技术涉及光刻胶涂覆装置的技术领域,特别是涉及一种光刻胶涂覆装置,其提高芯片涂胶前清理的便利性,减少人员手动涂覆操作的劳动强度,提高涂覆质量;包括吸气箱和工作台,工作台安装在吸气箱顶端,并且工作台顶端中部设置有吸气孔;还包括排料装置、吸气装置、进气装置、第一电缸、吹气箱和吹气管,第一电缸的固定端安装在排料装置上,排料装置用于对光刻胶排放,吹气箱安装在第一电缸的移动端上,吹气箱与外部气源连通,多组吹气管均连通设置在吹气箱底端,工作台外侧壁上连通设置有进气装置,吸气箱安装在吸气装置上,吸气装置用于对吸气箱内吸气,并且吸气装置用于带动吸气箱旋转。技术研发人员:陈晓光,康小文,于深受保护的技术使用者:住晶新材料科技(烟台)有限公司技术研发日:20231024技术公布日:2024/6/2

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