光刻 - 技术新讯

驱动装置、光学系统、与光刻设备的制作方法

本发明有关一种用于驱动及测量光学系统的致动器的驱动装置、一种含有此驱动装置的光学系统、以及一种含有此光学系统的光刻设备。优先权申请de 10 2022 203 255.1的内容全部以引用的方式并入本文......

2024-11-21 80

#光刻#制作方法#装置

一种大厚度光刻胶微结构的制备方法与流程

本发明属于光刻胶领域，尤其涉及一种大厚度光刻胶微结构的制备方法。背景技术：1、随着电子系统朝着微型化、智能化、高可靠等方向发展，传统的机械加工、独立装配方式制造的元器件逐渐暴露出生产周期长、质量一致性......

2024-11-21 15

#微结构#光刻#厚度

一种确定用于控制光刻和/或量测过程的校正的方法和相关联的装置与流程

本发明涉及使用光刻技术制造器件的方法。本发明还涉及用于实施这种方法的计算机程序产品。背景技术：1、光刻设备是一种被构造为将所期望的图案施加到衬底上的机器。例如，光刻设备可以用于集成电路(ic)的制造中......

2024-11-21 95

#光刻#相关联#装置

数字光刻术中用于裸晶位置改正的封装成像的制作方法

本公开内容大体上关于光刻系统。更详细而言，本公开内容描述了用于在用数字光刻术沉积迹线(trace)之前改正封装中裸晶放置的相机系统。背景技术：1、数字光刻技术被广泛用于半导体器件的制造，如半导体器件、......

2024-11-21 19

#光刻#制作方法#位置

半导体芯片光刻胶掩蔽质量检查装置的制作方法

本发明涉及半导体芯片设计制造，具体涉及一种半导体芯片光刻胶掩蔽质量检查装置。背景技术：1、晶闸管半导体芯片从正面看，分别为门极区、阴极区和结终端造形区；从反面看，分别为阳极区和结终端造形区。阴阳极区在......

2024-11-21 70

#光刻#掩蔽#制作方法

光学设备、用于测量光学元件的光学表面的实际倾斜的方法和光刻系统与流程

本发明涉及一种光学设备，特别是用于光刻系统的光学设备，该光学设备具有包括至少一个光学表面的至少一个光学元件，并且具有用于使光学元件的光学表面倾斜的一个或多个致动器，并且具有用于感测光学表面从静止位置的......

2024-11-19 64

#光学#光刻#元件

一种光刻机通风气路装置的制作方法

本申请涉及光刻机通风设备领域，具体而言，涉及一种光刻机通风气路装置。背景技术：1、光刻机是半导体产业中的重要设备，光刻机设备的精度要求极高、其结构非常复杂，产品精度达纳米级。为实现高精度设备的正常运行......

2024-11-19 53

#光刻#制作方法#风气

用于清洁以光刻生成制造工艺制造的部件的方法与流程

本发明涉及一种对粘附有未反应树脂的部件、特别是利用光刻生成制造工艺制造的部件进行清洁的方法，包括：-清洁步骤，其中，将部件放入清洁室中；部件在清洁室中与清洁介质接触，使树脂从部件上脱落；以及将载有脱落......

2024-11-06 23

#光刻#部件#制造工艺

一种用于集成电路的正性光刻胶显影液组合物的制作方法

本发明属于湿电子化学品领域，具体涉及一种用于集成电路芯片代加工及封装过程中使用的正性光刻胶显影液组合物。背景技术：1、芯片制造涉及到国民经济、国家安全的方方面面，属于战略性行业。芯片主要通过光刻、刻蚀......

2024-11-06 85

#显影液#光刻#组合

一种基于最小矩形像素堆叠的光刻掩膜优化方法及系统

本技术涉及光刻掩膜，尤其涉及一种基于最小矩形像素堆叠的光刻掩膜优化方法及系统。背景技术：1、光刻技术是制造超大规模集成电路的关键技术之一。光刻系统通过光源照射掩模，并利用投影物镜将掩模上的集成电路图案......

2024-11-06 51

#光刻#矩形#像素

用于光刻仿真的方法、设备和介质与流程

本公开的示例实施例总体涉及集成电路，并且更具体地，涉及一种用于光刻仿真的方法、设备和介质。背景技术：1、光刻技术是现代集成电路制造中的一项核心工艺，它负责将掩膜上的版图准确地投影到光刻胶上。光刻胶的形......

2024-11-06 15

#光刻#介质#流程

一种厚层光刻胶的涂布烘烤方法与流程

本发明涉及半导体集成电路制造光刻工艺，尤其涉及一种厚层光刻胶的涂布烘烤方法。背景技术：1、在全球半导体产业中，随着物联网如智能驾驶、智慧物流、智能家居的快速兴起，传感器的消费需求与日俱增。mems传感......

2024-10-21 40

#光刻#涂布#流程

一种光刻胶涂覆装置

本发明涉及光栅制造，具体涉及一种光刻胶涂覆装置。背景技术：1、光栅是一种基于衍射原理的光学器件，具有广泛的应用领域，包括光谱学、化学分析、显示器技术、光学测量和光学存储器等。光栅制造通常包括材料准备、......

2024-10-21 92

#光刻#装置#涂覆

光刻机曝光流程控制方法与流程

本申请涉及光刻机，更为具体地说，涉及一种光刻机曝光流程控制方法。背景技术：1、光刻机是半导体制造过程中的重要设备，其作用是将掩膜版中的电路图案按照预定的尺寸和位置通过曝光工艺精准地转移到硅片或其他衬底......

2024-10-21 92

#流程#光刻#方法

正型光刻胶组合物以及制作抗蚀图案的方法与流程

本发明涉及一种集成电路或液晶面板(lcd)制造用的正型光刻胶组合物以及使用该正型光刻胶组合物的抗蚀图案的形成方法。背景技术：1、光刻胶又称光致抗蚀剂，是集成电路或液晶面板(lcd)生产过程中的重要材料......

2024-10-15 91

#光刻#组合#图案

基于金刚烷核心的多丙炔醇型的单分子树脂光刻胶及其制备方法和应用

本发明属于光刻材料，具体涉及一类基于金刚烷核心的多丙炔醇型的单分子树脂光刻胶及其制备方法和应用。背景技术：1、光刻胶又称为光致抗蚀剂，是一类通过光束、电子束、离子束或x射线等能量辐射后，溶解度发生变化......

2024-10-09 29

#光刻#树脂#制备方法

一种紫外窄光谱低畸变双远心投影光刻镜头的制作方法

本发明涉及光刻镜头的，尤其涉及一种紫外窄光谱低畸变双远心投影光刻镜头。背景技术：1、随着半导体行业的快速发展，特别是国内对半导体行业自给自足的迫切需求，光刻技术作为半导体制造中的关键环节，其重要性日益......

2024-10-09 80

#光刻#畸变#光谱

低含量NMF光刻胶剥离液和制备方法与流程

本发明涉及光刻胶剥离液，具体为低含量nmf光刻胶剥离液和制备方法。背景技术：1、光刻工艺是半导体以及显示领域制造中的关键步骤；光刻胶是一种不导电的光敏材料，可以实现将光刻掩膜版上的图形转移到半导体晶圆......

2024-10-09 68

#光刻#含量#制备方法

一种利用超声波优化光刻胶均匀性的涂胶方法

本发明属于光刻工艺，涉及一种利用超声波优化光刻胶均匀性的涂胶方法。背景技术：1、在半导体制造中，光刻工艺是集成电路平面工艺的核心，而作为光刻的子工艺匀胶工艺，其均匀性将影响关键线宽均一性、线宽粗糙度均......

2024-10-09 29

#光刻#涂胶#超声波

激光直写光刻机台框开合机构的制作方法

本发明涉及自动化控制设备，具体说是激光直写光刻机台框开合机构。背景技术：1、激光直写光刻：是指利用激光束的高能量密度和高度聚焦特性，在光刻胶表面进行直接曝光，从而实现对微纳结构的精确刻画。2、作为最接......

2024-10-09 65

#光刻#机台#制作方法

一种具有多工位的光刻机工件台交换装置

本发明属于半导体制造装备，涉及一种交换装置，特别是一种具有多工位的光刻机工件台交换装置。背景技术：1、光刻机工件台与双工件台的研究背景和进展是半导体制造领域中一个非常关键的议题。工件台作为光刻机的核心......

2024-10-09 80

#光刻#机工#有多

具有光刻孔径和静电放电事件保护的VCSEL设备的制作方法

本公开总体上涉及具有esd保护的vcsel。背景技术：1、本公开的方面涉及具有集成esd保护的vcsel。具有esd保护的vcsel的常规解决方案可能存在各种问题。在这方面，用于具有esd保护的vcs......

2024-09-14 38

#光刻#孔径#制作方法

一种光刻剥离方法

本发明涉及半导体，尤其涉及一种光刻剥离方法。背景技术：1、光刻剥离工艺是指一种精细的光刻腐蚀工艺。基片经过涂覆光刻胶、曝光、显影后，以具有一定图形的光刻胶膜为掩模，带胶蒸发所需的金属，然后在去除光刻胶......

2024-09-14 37

#光刻#方法

一种基于聚羟基苯乙烯的双光子光刻胶及其图案化方法与流程

本发明属于激光微纳加工制造领域。更具体地，涉及一种基于聚羟基苯乙烯的双光子光刻胶及其图案化方法。背景技术：1、飞秒激光的高能脉冲使其光与物质间的相互作用与连续激光的情形截然不同，具体表现为所作用材料对......

2024-09-14 55

#光刻#羟基#苯乙烯

极紫外辐射发生装置及光刻设备的制作方法

本发明涉及半导体，特别涉及一种极紫外辐射发生装置及光刻设备。背景技术：1、光刻设备是半导体制造中的关键设备。2、极紫外光刻是面向7nm及以下节点的主流光刻技术，极紫外光刻采用13.5nm波长的极紫外光......

2024-09-14 66