-
具有光刻孔径和静电放电事件保护的VCSEL设备的制作方法
本公开总体上涉及具有esd保护的vcsel。背景技术：1、本公开的方面涉及具有集成esd保护的vcsel。具有esd保护的vcsel的常规解决方案可能存在各种问题。在这方面，用于具有esd保护的vcs......
-
一种光刻剥离方法
本发明涉及半导体，尤其涉及一种光刻剥离方法。背景技术：1、光刻剥离工艺是指一种精细的光刻腐蚀工艺。基片经过涂覆光刻胶、曝光、显影后，以具有一定图形的光刻胶膜为掩模，带胶蒸发所需的金属，然后在去除光刻胶......
-
一种基于聚羟基苯乙烯的双光子光刻胶及其图案化方法与流程
本发明属于激光微纳加工制造领域。更具体地，涉及一种基于聚羟基苯乙烯的双光子光刻胶及其图案化方法。背景技术：1、飞秒激光的高能脉冲使其光与物质间的相互作用与连续激光的情形截然不同，具体表现为所作用材料对......
-
极紫外辐射发生装置及光刻设备的制作方法
本发明涉及半导体，特别涉及一种极紫外辐射发生装置及光刻设备。背景技术：1、光刻设备是半导体制造中的关键设备。2、极紫外光刻是面向7nm及以下节点的主流光刻技术，极紫外光刻采用13.5nm波长的极紫外光......
-
降低跑货风险的后段光刻返工方法与流程
本发明涉及半导体，特别是涉及一种降低跑货风险的后段光刻返工方法。背景技术：1、目前后段金属层和通孔层的制备采用双大马士革工艺，当完成了后段金属层的刻蚀后，需要尽快进行via(通孔)的光刻，如果等待时间......
-
一种基于POSS的量子点光刻胶、量子点膜及其应用的制作方法
本技术涉及一种基于poss的量子点光刻胶、量子点膜及其应用，属于光电器件新材料。背景技术：1、micro-led被公认为未来显示发展新趋势，具有色域广，高分辨，能耗低，高集成度等优点。色转换技术通过蓝......
-
位置检测装置、位置检测方法及光刻设备与流程
本发明涉及半导体，特别涉及一种位置检测装置、位置检测方法及光刻设备。背景技术：1、光刻是集成电路制造中的一道关键工艺。在光刻工艺中，为了掩模图形能够准确曝光，需利用光刻设备精确测量基板(待测平面)的垂......
-
一种基于碱去活性机理的环氧树脂正性光刻胶及制备方法与流程
本发明涉及光刻胶，具体涉及一种基于碱去活性机理的环氧树脂正性光刻胶及制备方法。背景技术：1、传统的光刻胶材料主要包括负性光刻胶和正性光刻胶两大类，负性光刻胶在曝光后，曝光区域发生化学反应，溶解度降低，......
-
一种用于提高光刻胶附着性的添加剂及其光刻胶组合物的制作方法
本发明属于光刻胶，尤其涉及一种用于提高光刻胶附着性的添加剂及其光刻胶组合物。背景技术：1、光刻胶技术在微纳制造领域具有重要的应用价值，可用于制备微小尺寸及高精度结构。光刻胶是一种光敏材料，能够通过光照......
-
一种采用负性光刻胶的二极管GPP芯片套刻多重光刻方法与流程
本发明属于半导体芯片制造领域，具体涉及一种采用负性光刻胶的二极管gpp芯片套刻多重光刻方法。背景技术：1、二极管是一种电子电路中常用的半导体元器件，二极管最重要的特性就是单方向导电性。在电路中，电流只......
-
实时光刻胶除气控制系统及方法与流程
本公开的实施例涉及一种用于对由将物质植入到设置在工件上的光刻胶中引起的除气进行控制的系统及方法。背景技术：1、离子植入是一种将杂质引入到工件中以影响此工件的部分的导电性的常用技术。举例来说，可使用包含......
-
用于水平传感器的投射单元、监测衬底的高度的方法、和包括投射单元的光刻系统与流程
本发明涉及投射单元、监测高度的方法和包括投射单元的光刻系统。投射单元可以用于水平传感器中或应用于另一种量测组件。水平传感器可以适于测量例如光刻设备中的晶片、衬底或掩模版的表面的高度。背景技术：1、光刻......
-
一种用于微流控芯片光刻胶模具制备用匀胶机的制作方法
本技术涉及一种匀胶机，特别涉及一种用于微流控芯片光刻胶模具制备用匀胶机。背景技术：1、微流控芯片是一种在微米量级的通道中操控流体的技术，用于实现生物、化学、医学等领域的分析测试，光刻胶模具制备用匀胶机......
-
一种光刻机用防护镜头座的制作方法
本技术涉及光刻机，具体为一种光刻机用防护镜头座。背景技术：1、光刻机是一种将图纸上的零件图通过类似照片冲印的技术印制到硅片上的机器，光刻机由多个部位组成，其中就包括镜头，而镜头在使用时需要通过镜头座进......
-
一种电沉积光刻胶精准补加装置的制作方法
本技术涉及光刻胶涂覆，尤其涉及一种电沉积光刻胶精准补加装置。背景技术：1、光刻胶又称光致抗蚀剂,由感光树脂、增感剂(见光谱增感染料)和溶剂三种主要成分组成的对光敏感的混合液体，光刻胶可以通过光化学反应......
-
压印光刻缺陷减轻方法和经掩模的压印光刻模具与流程
背景技术：1、电子显示器是用于向各种设备和产品的用户传送信息的几乎无处不在的介质。最常见的电子显示器是阴极射线管(crt)、等离子体显示面板(pdp)、液晶显示器(lcd)、电致发光显示器(el)、有......
-
半导体光刻中的光源的模块的维护的制作方法
所公开的主题涉及光源(诸如用于集成电路光刻制造工艺的光源)的维护。背景技术：1、用于半导体光刻的光(其可以是激光辐射)通常由称为光源的系统提供。这些光源以指定的重复率(例如，在大约500hz到大约6k......
-
一种光刻胶墨水用改性炭黑及其制备和应用的制作方法
本发明涉及炭黑的表面改性领域，具体涉及一种光刻胶墨水用改性炭黑及其制备和应用。背景技术：1、随着时代发展，各种各样的液晶显示屏出现在我们生活中的每一个角落，为了获得清楚的显示图像，需要应用黑色光刻胶来......
-
一种用于黑色光刻胶墨水中的改性炭黑及制备方法和应用与流程
本发明涉及炭黑的表面改性领域，具体涉及一种用于黑色光刻胶墨水中的改性炭黑及制备方法和应用。背景技术：1、黑色矩阵可以防止漏光，改善图像对比度，提高液晶显示屏的分辨率，矩阵上涂抹的黑色光刻胶是实现这一功......
-
改善离子注入层光刻胶形貌的方法与流程
本发明涉及半导体，特别是涉及一种改善离子注入层光刻胶形貌的方法。背景技术：1、在22/28纳米技术节点制程工艺流程中，轻掺杂源漏极工艺是被安排在栅极侧墙生长之后的，侧墙是由含氮的化合物组成的，因此在后......
-
一种利用光刻胶制作的透明电路板的制作方法
本技术涉及电路板领域，尤其涉及一种利用光刻胶制作的透明电路板。背景技术：1、现在随着电子行业的快速发展，人们对同尺寸下灯板的亮度和分辨率要求越高，伴随着电路板上线路承载的led灯珠数量越多，这就要求p......
-
液体目标材料供应装置、燃料发射器、辐射源、光刻装置和液体目标材料供应方法与流程
本发明涉及一种用于供应液体目标材料的装置。本发明还涉及一种包括这种液体目标材料供应装置的燃料发射器、包括这种燃料发射器的辐射源、包括这种辐射源的光刻装置、以及用于供应液体目标材料的方法。背景技术：1、......
-
一种光刻胶废液处理装置的制作方法
本技术涉及废液处理，尤其涉及一种光刻胶废液处理装置。背景技术：1、光刻胶又称光致抗蚀剂，是指通过紫外光、电子束、离子束、x射线等的照射或辐射，其溶解度发生变化的耐蚀剂刻薄膜材料。由感光树脂、增感剂和溶......
-
一种光刻胶生产用烘干装置的制作方法
本申请涉及光刻胶烘干的领域，尤其是涉及一种光刻胶生产用烘干装置。背景技术：1、光刻胶烘干是半导体制造过程中的一个重要步骤，通过加热光刻胶，使其在硅片表面形成均匀、平整的薄膜。光刻胶连续烘干是指通过连续......
-
光刻胶干燥设备尾气处理装置的制作方法
本技术涉及换热，尤其涉及一种光刻胶干燥设备尾气处理装置。背景技术：1、在显示面板的制造过程中，需要对显示面板进行光刻处理，包括在显示面板上涂光刻胶、曝光、显影等步骤。在显示面板上涂光刻胶之后，还需采用......
技术新讯 > 光刻 > 列表
2024-09-14精选技术
-
用于T梁转运的装置及方法与流程
2024-08-02 -
一种河道工程用河道清淤搅动装置的制作方法
2024-07-09 -
一种数据丢失情况下无人水面航行器的航向控制方法
2024-08-01 -
一种高低压气瓶组合的氮气推进系统的制作方法
2024-08-01 -
一种基于EPA（EffectiveProjectedArea有效投影面积）的铁塔租赁方案的制作方法
2024-07-31 -
一种低铱含量铱钽钛阳极的制备方法与流程
2024-07-27 -
基于区块链和零知识证明的车载自组织网络匿名认证方法
2024-08-08 -
一种基于VR的互动冥想设备的制作方法
2024-06-21 -
一种发动机分体式整流支撑机匣工艺连接装置和方法与流程
2024-07-27 -
一类用于脂滴免洗成像的荧光染料及其合成和应用
2024-06-20