一种光刻胶涂覆装置

本发明涉及光栅制造，具体涉及一种光刻胶涂覆装置。

背景技术：

1、光栅是一种基于衍射原理的光学器件，具有广泛的应用领域，包括光谱学、化学分析、显示器技术、光学测量和光学存储器等。光栅制造通常包括材料准备、光刻胶涂覆、光刻模板制作、曝光、显影、刻蚀、清洗、检验等步骤。其中，光刻胶涂覆就是将光刻胶均匀地涂覆在基板表面上，常采用的涂覆方法为旋涂法、喷涂法、浸涂法等，针对圆形基材，常采用旋涂法。

2、例如专利号为202121914524.3的中国专利，公开了一种光刻胶涂覆装置，包括工作台，工作台的下端外表面连接有注胶筒；具有吸附固定功能的旋转机构，具有吸附固定功能的旋转机构与工作台连接，具有吸附固定功能的旋转机构包括转动轴杆，工作台的上端外表面转动连接有转动轴杆，转动轴杆的上端通过转盘固定连接有吸盘，转盘的下端外表面固定连接有橡胶包圈，吸盘的外表面固定连接有与其连通的安装筒，安装筒开设有内螺纹，安装筒内螺纹杆的一端固定连接有活塞，安装筒的外表面开设有两个对称设置的出气孔。

3、现有的一种光刻胶涂覆装置大多结构简单，工作人员再将基板固定在吸盘上时，不便于对基板进行定位，容易导致基板与吸盘偏心，从而在吸盘带动基板转动时，基板为偏心转动，进而导致光刻胶在旋转过程中受到的离心力将不再均匀分布，使得胶膜厚度产生较大差异，降低了装置涂覆光刻胶的效果，影响后续的光刻工艺。因此，针对上述技术问题，故提出一种光刻胶涂覆装置。

技术实现思路

1、针对现有技术存在的不足，本发明提出一种光刻胶涂覆装置，便于对基板进行定位使基板与吸盘同轴，确保光刻胶在旋转过程中受到的离心力均匀，提高装置涂覆光刻胶的效果，避免对后续的光刻工艺造成影响。

2、一种光刻胶涂覆装置，包括：

3、操作台，顶端通过立板连接有顶板，所述顶板底端设置有光刻胶滴头；

4、固定机构，包括吸盘和负压组件，所述吸盘设置在所述操作台顶端，且与所述光刻胶滴头同轴，所述吸盘顶端呈敞开状，所述负压组件设置在所述吸盘上，基板能水平置于所述吸盘顶端，且通过所述负压组件固定；

5、转动组件，所述吸盘通过所述转动组件设置在所述操作台上，所述转动组件用于驱动所述吸盘自转；及

6、定位机构，包括安装环、三组夹持杆和第一驱动组件，所述安装环设置在所述操作台顶端，且与所述吸盘同轴，所述吸盘位于所述安装环内，三组所述夹持杆沿所述安装环周向均匀布置，且分别能沿所述安装环径向滑动的设置在所述安装环上，所述基板位于三组所述夹持杆之间，所述第一驱动组件设置在所述安装环上，且与三组所述夹持杆连接，用于驱动三组所述夹持杆靠近或远离所述吸盘轴线移动。

7、上述一种光刻胶涂覆装置的有益效果为：

8、通过将基板放置在吸盘顶端，然后通过驱动第一驱动组件驱动三组夹持杆靠近吸盘轴线移动，三组夹持杆靠近吸盘轴线移动即可与基板周侧接触并推动基板移动，当三组夹持杆均与基板周侧抵接时，基板即可与吸盘同轴，然后驱动负压组件将基板固定在吸盘上，再驱动第一驱动组件驱动三组夹持杆远离吸盘轴线移动与基板分离，最后驱动转动组件带动吸盘自转，吸盘自转即可带动基板自转，便于对基板进行定位使基板与吸盘同轴，确保光刻胶在旋转过程中受到的离心力均匀，提高装置涂覆光刻胶的效果，避免对后续的光刻工艺造成影响。

9、在其中一个实施例中，所述第一驱动组件包括齿轮、导向杆和内齿圈；所述安装环沿其周向均匀的可转动的设置有三组所述齿轮，所述导向杆对应三组所述齿轮设置有三组，且三组所述导向杆均能沿所述安装环径向滑动，三组所述导向杆分别与三组所述夹持杆连接，三组所述齿轮顶端均偏心设置有拨轴，三组所述导向杆上均开设有拨槽，三组所述拨轴滑动设置在三组所述拨槽内，所述内齿圈可转动的设置在所述安装环周侧，且与三组所述齿轮啮合。通过转动内齿圈，内齿圈转动与三组齿轮啮合驱动三组齿轮同步转动，三组齿轮同步转动使三组拨轴偏心转动，三组拨轴偏心转动与三组拨槽配合驱动三组导向杆沿安装环径向滑动，三组导向杆沿安装环径向滑动即可带动三组夹持杆靠近吸盘轴线移动，通过反向转动内齿圈，内齿圈反向转动与三组齿轮啮合驱动三组齿轮同步反向转动，三组齿轮同步反向转动使三组拨轴反向偏心转动，三组拨轴反向偏心转动与三组拨槽配合驱动三组导向杆沿安装环径向反向滑动，三组导向杆沿安装环径向反向滑动即可带动三组夹持杆远离吸盘轴线移动，驱动三组夹持杆靠近或远离吸盘轴线移动方便。

10、在其中一个实施例中，所述安装环顶端沿其周向均匀开设有三组安装槽，三组所述齿轮均可转动的设置在三组所述安装槽底面，三组所述安装槽两侧均开设有导向槽，三组所述导向杆两端均滑动设置在两组所述导向槽内，所述安装环外周侧开设有固定环槽，所述内齿圈内侧设置有固定环，所述固定环可转动的设置在所述固定环槽内。

11、在其中一个实施例中，三组所述夹持杆靠近所述吸盘轴线的端部均可拆卸的设置有防护垫。通过设置防护垫可避免夹持杆靠近吸盘轴线移动与基板抵触时对基板造成磕碰或挤压损伤，提高对基板的保护效果。

12、在其中一个实施例中，还包括防溅机构，所述防溅机构包括防护罩和第二驱动组件，所述防护罩呈两端敞开的筒状，所述防护罩可沿垂直方向滑动的设置在所述操作台顶端，且与所述吸盘同轴，所述吸盘位于所述防护罩内，所述安装环设置在所述防护罩顶端，所述第二驱动组件设置在所述操作台上，且与所述防护罩连接，调节所述第二驱动组件能驱动所述防护罩滑动。通过调节第二驱动组件使防护罩向上滑动，防护罩向上滑动即可使防护罩位于基板周侧，在基板自转将基板上的光刻胶从基板边缘甩出时，防护罩即可甩出的光刻胶进行阻隔，从而防止光刻胶到处飞溅，且防护罩向上移动带动安装环向上移动，安装环向上移动带动三组夹持杆向上移动，此时三组夹持杆位于基板上方，从而避免甩出的光刻胶飞溅到夹持杆上，降低操作人员后续清洁的劳动强度。

13、在其中一个实施例中，所述第二驱动组件包括第一螺杆；所述操作台顶面开设有伸缩环槽，所述伸缩环槽周侧相对开设有两组限位槽，所述防护罩周侧相对设置有两组限位块，所述防护罩底端能沿垂直方向滑动设置在所述伸缩环槽内，且两组所述限位块滑动设置在两组所述限位槽内，所述第一螺杆竖直设置，且能转动的设置在其中一组所述限位槽内，所述第一螺杆顶端与所述限位块螺纹连接。通过设置两组限位块与两组限位槽配合可提高防护罩滑动时的稳定性，避免防护罩产生自转的现象，通过转动第一螺杆与限位块螺纹配合即可驱动限位块带动防护罩向上移动，通过反向转动第一螺杆与限位块螺纹配合即可驱动限位块带动防护罩向下移动，升降防护罩方便，便于上升防护罩对甩出的光刻胶进行阻隔，同时也便于下降防护罩使基板露出，从而便于基板的放置与拿取，且停止转动第一螺杆与限位块螺纹配合即可对限位块进行固定，从而对防护罩进行固定，固定防护罩方便。

14、在其中一个实施例中，所述防护罩内侧开设有收集环槽，所述收集环槽底面开设有导流环槽，所述导流环槽底面呈倾斜设置，所述防护罩周侧设置有带有阀门的排胶管，所述排胶管与所述导流环槽低端连通。通过上升防护罩使收集环槽与基板对应，此时基板上甩出的光刻胶即可落入收集环槽内，落入收集环槽内的光刻胶在重力作用下向下移动至导流环槽内，并沿导流环槽向导流环槽低端移动，此时打开阀门即可使光刻胶从排胶管流出，便于对基板甩出的光刻胶进行收集，以便于后续光刻胶的再次利用，提高装置的实用性。

15、在其中一个实施例中，所述负压组件包括活塞、活塞筒和第二螺杆；所述活塞筒设置在所述吸盘内，所述活塞筒一端开设有活塞腔，所述活塞腔远离开口的端部开设有定位孔和与外界连通的排气孔，所述定位孔周侧相对开设有两组定位槽，所述活塞密封滑动设置在所述活塞腔内，所述活塞远离所述活塞腔开口的端部设置有活塞杆，所述活塞杆周侧相对设置有两组定位块，所述活塞杆穿设在所述定位孔内，且两组所述定位块滑动设置在两组所述定位槽内，所述第二螺杆可转动的设置在所述定位孔内，且一端与所述活塞杆螺纹连接，另一端延伸至所述吸盘外。通过转动第二螺杆与活塞杆螺纹配合即可驱动活塞杆移动，活塞杆移动带动活塞移动，活塞移动即可将吸盘内的空气抽入活塞腔内使吸盘产生负压，吸盘产生负压即可将基板吸附固定在吸盘上，固定基板方便，且反向转动第二螺杆与活塞杆螺纹配合即可驱动活塞杆反向移动，活塞杆反向移动带动活塞反向移动，活塞反向移动即可将活塞腔内的空气输送至吸盘内，从而使吸盘的负压消失，此时即可取消对基板的固定，便于基板从吸盘上取下，基板的固定和拆卸方便。

16、在其中一个实施例中，所述吸盘顶端设置有橡胶垫。通过设置橡胶垫可避免基板放置在吸盘上时产生磕碰损伤，提高对基板的保护效果。

17、在其中一个实施例中，所述转动组件包括转动座和电机；所述转动座可转动的设置在所述操作台上，所述转动座顶端与所述吸盘底端连接，所述电机设置在所述操作台上，且输出端与所述转动座底端连接。通过启动电机带动转动座转动，转动座转动即可带动吸盘转动，驱动吸盘自转方便。