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一种用于集成电路的正性光刻胶显影液组合物的制作方法
本发明属于湿电子化学品领域，具体涉及一种用于集成电路芯片代加工及封装过程中使用的正性光刻胶显影液组合物。背景技术：1、芯片制造涉及到国民经济、国家安全的方方面面，属于战略性行业。芯片主要通过光刻、刻蚀......
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一种低泡型显影液及其制备方法与流程
本发明属于显影液，具体涉及一种低泡型显影液及其制备方法。背景技术：1、在彩色滤光片(colorfilter，cf)制作工艺中，为获得所需的精细模式(pattern)图形，需要使用感光材料光刻胶，光刻胶......
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一种自热平衡型处理显影液废水的方法和设备与流程
本发明一般涉及废水处理。更具体地，本发明涉及一种自热平衡型处理显影液废水的方法和设备。背景技术：1、四甲基氢氧化铵(tmah)是一种具有强碱性、腐蚀性及生物毒性的有机氮化合物，其cod和tn的浓度高。......
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一种显影液过滤装置的制作方法
本技术涉及显影液加工，具体为一种显影液过滤装置。背景技术：1、无论是在传统的制版还是主流的ctp制版，显影环节中，都需要消耗大量的显影液，且在制版过程中喷出的显影液由于无法做到全面的利用，从而导致一部......
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一种用于OLED面板制程的显影液及其制备方法与流程
本技术涉及显影技术的领域，尤其是涉及一种用于oled面板制程的显影液及其制备方法。背景技术：1、oled面板制程常使用tmah作为光刻线路显影液，tmah是一种有机碱，具备强碱性，并具备独特的特性；与......
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显影液中胶体监控方法、化垢组合物以及监控系统与流程
本发明涉及显影槽制程监控，具体而言，涉及显影液中胶体监控方法、化垢组合物以及监控系统。背景技术：1、光阻材料常用作为用于微影制程的屏蔽，并应用于印刷电路板、显示面板及集成电路基板的制造。光阻材料一般由......
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一种计算干膜显影液添加量的方法、装置、设备及介质与流程
本申请属于pcb，尤其涉及一种计算干膜显影液添加量的方法、装置、设备及介质。背景技术：1、当前行业内计算干膜显影液添加量的方法通常基于显影液的浓度、消耗速度、目标浓度和ph等因素，通过传感器和控制系统......
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具有优异显影液分散性的感光材料组合物、感光干膜及其制备方法与流程
本发明涉及感光干膜材料领域，特别涉及一种具有优异显影液分散性的感光材料组合物、感光干膜及其制备方法。背景技术：1、感光干膜系列产品作为一种干膜光刻胶在图形转移上得到广泛应用，尤其在pcb、fpc领域。......
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2024-11-06精选技术
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