光学邻近校正方法、电子设备及存储介质与流程

本公开的实施例主要涉及半导体领域，并且更具体地，涉及光学邻近校正方法、电子设备及存储介质。

背景技术：

1、集成电路芯片中通常会有较大面积的存储结构。存储结构的图形密度一般是集成电路中最高的。随着工艺节点持续的进步，存储结构的密度也是上升最快的。由于芯片设计版图中存储结构的特殊性，即使在采用了光源掩模联合优化（source mask optimization,简称smo）等技术之后，仍然需要花费大量的运算时间进行光学邻近效应校正（opticalproximity correction，简称opc）。

2、已知的传统方案中，对存储结构进行opc校正存在校正时间长、校正结果一致性差，产品良率低等缺陷。

技术实现思路

1、根据本公开的示例实施例，提供了一种光学邻近校正方案，以至少部分克服上述或者其他潜在缺陷。

2、在本公开的第一方面，提供一种光学邻近校正方法。该方法包括：确定版图中具有重复图案结构的多个基本单元的位置分布特征；基于所确定的位置分布特征，从多个基本单元中选取代表单元，所选取的代表单元分别代表具有不同位置分布特征的基本单元，其中具有不同位置分布特征的基本单元具有不同的光学邻近校正结果；基于多个基本单元之间的位置关系，排列各个代表单元以构成简化矩阵；对简化矩阵中的各个代表单元分别进行光学邻近校正，以生成多个校正单元；以及将多个校正单元分别复制到各自所代表的相应基本单元的位置处，以生成经校正的版图。

3、在本公开的第二方面，提供了一种电子设备。该电子设备包括处理器以及与处理器耦合的存储器，存储器具有存储于其中的指令，指令在被处理器执行时使设备执行动作。该动作包括：确定版图中具有重复图案结构的多个基本单元的位置分布特征；基于所确定的位置分布特征，从多个基本单元中选取代表单元，所选取的代表单元分别代表具有不同位置分布特征的基本单元，其中具有不同位置分布特征的基本单元具有不同的光学邻近校正结果；基于以矩阵形式排列的多个基本单元之间的位置关系，排列各个代表单元以构成简化矩阵；对简化矩阵中的各个代表单元分别进行光学邻近校正，以生成多个校正单元；以及将多个校正单元分别复制到各自所代表的相应基本单元的位置处，以生成经校正的版图。

4、在一些实施例中，多个基本单元以二维矩阵的形式排列，并且其中多个基本单元以二维矩阵的形式排列，基于所确定的位置分布特征从多个基本单元中选取代表单元包括：选取代表二维矩阵的非边缘位置的基本单元作为简化矩阵中的第一基本单元；选取代表二维矩阵的顶角位置的基本单元作为简化矩阵中的第二基本单元；选取代表二维矩阵的边缘位置中非顶角位置的基本单元作为简化矩阵中的第三基本单元；以及基于多个基本单元之间的位置关系，排列各个代表单元以构成简化矩阵，包括：将第一基本单元、第二基本单元和第三基本单元按照与各自所代表的二维矩阵中相应的基本单元之间的位置关系对应地拼接，以构成简化矩阵。

5、在一些实施例中，简化矩阵以第一基本单元为中心，第二基本单元和第三基本单元围绕第一基本单元排布。

6、在一些实施例中，该方法还包括：确定用于光刻的光源的对称性；确定基本单元的对称性；以及基于光源的对称性以及基本单元的对称性，去除简化矩阵中的将具有对称的光学邻近校正结果的部分代表单元以进一步简化该简化矩阵。

7、在一些实施例中，去除简化矩阵中的将具有对称的光学邻近校正结果的部分代表单元以进一步简化该简化矩阵包括：响应于确定光源与基本单元在第一方向或者与第一方向垂直的第二方向上具有一致的对称性，去除简化矩阵中的将具有对称的光学邻近校正结果的两列代表单元中的一列或者两行代表单元中的一行，以生成更新的简化矩阵。

8、在一些实施例中，该方法还包括：对与所去除的一列或者一行代表单元相对应的经校正的另一列或者另一行代表单元进行复制；以及对所复制的代表单元进行翻转以填充到所去除的一列或者一行代表单元的位置，以作为所去除的一列或者一行代表单元的校正单元。

9、在一些实施例中，去除简化矩阵中的将具有对称的光学邻近校正结果的部分代表单元以进一步简化该简化矩阵包括：响应于确定光源与基本单元在第一方向以及与第一方向垂直的第二方向上均具有一致的对称性，去除简化矩阵中的将具有对称的光学邻近校正结果的两列代表单元中的一列以及两行代表单元中的一行，以生成更新的简化矩阵。

10、在一些实施例中，该方法还包括：对两列代表单元和两行代表单元中的与所去除的一列和一行代表单元分别相对应的经校正的另一列和另一行代表单元进行复制；以及对所复制的代表单元分别进行翻转以分别填充到所去除的一列和一行代表单元的位置，以作为所去除的代表单元的校正单元。

11、在一些实施例中，版图中还包括至少一条引线，至少一条引线与矩阵的边缘处的至少一个基本单元相连，方法还包括：对引线单独进行光学邻近校正以获得校正后引线；将校正后引线与引线所连接的校正单元进行拼接；以及对所拼接的区域进行工艺热点修复，以获得工艺热点校正后区域。

12、在一些实施例中，确定光源的对称性包括确定光源属于以下之一：非对称光源；第一方向对称光源；与第一方向垂直的第二方向对称光源；以及第一方向和第二方向均对称的光源。

13、在一些实施例中，确定基本单元的对称性包括确定基本单元的对称性属于以下之一：沿第一方向对称；沿与第一方向垂直的第二方向对称；以及沿第一方向和第二方向均对称。

14、在本公开的第三方面中，提供了一种计算机可读存储介质，其上存储有计算机程序，该程序被处理器执行时实现根据本公开的第一方面的方法。

15、本公开实施例的方案，能够实现工艺优化、提升良率、并极大改善校正效率。

16、应当理解，技术实现要素：部分中所描述的内容并非旨在限定本公开的实施例的关键或重要特征，亦非用于限制本公开的范围。本公开的其它特征将通过以下的描述变得容易理解。

技术特征：

1.一种光学邻近校正方法，包括：

2.根据权利要求1所述的方法，其中所述多个基本单元以二维矩阵的形式排列：

3.根据权利要求2所述的方法，其中所述简化矩阵以所述第一基本单元为中心，所述第二基本单元和所述第三基本单元围绕所述第一基本单元排布。

4.根据权利要求2所述的方法，其中还包括：

5.根据权利要求4所述的方法，其中去除所述简化矩阵中的将具有对称的光学邻近校正结果的部分所述代表单元以进一步简化所述简化矩阵包括：

6. 根据权利要求5所述的方法，其中还包括：

7.根据权利要求4所述的方法，其中去除所述简化矩阵中的将具有对称的光学邻近校正结果的部分所述代表单元以进一步简化所述简化矩阵包括：

8. 根据权利要求7所述的方法，其中还包括：

9.根据权利要求1所述的方法，其中所述版图中还包括至少一条引线，所述至少一条引线与所述矩阵的边缘处的至少一个所述基本单元相连，所述方法还包括：

10.根据权利要求4至8中任一项所述的方法，其中确定光源的对称性包括确定所述光源属于以下之一：

11.根据权利要求4至8中任一项所述的方法，其中确定所述基本单元的对称性包括确定所述基本单元的对称性属于以下之一：

12. 一种电子设备，包括：

13.一种计算机可读存储介质，其上存储有计算机程序，程序被处理器执行时实现根据权利要求1-11中任一项所述的方法。

技术总结本公开的示例实施例涉及光学邻近校正方法、电子设备及存储介质。该方法包括：确定版图中具有重复图案结构的多个基本单元的位置分布特征；基于所确定的位置分布特征，从多个基本单元中选取代表单元，所选取的代表单元分别代表具有不同的位置分布特征的基本单元，其中所述具有不同位置分布特征的基本单元具有不同的光学邻近校正结果；基于多个基本单元之间的位置关系，排列各个代表单元以构成简化矩阵；对简化矩阵中的各个代表单元分别进行光学邻近校正，以生成多个校正单元；将多个校正单元分别复制到各自所代表的相应基本单元的位置处，以生成经校正的版图。本公开的实施例能够实现工艺优化、提升良率、并极大改善校正效率。技术研发人员：请求不公布姓名,请求不公布姓名,请求不公布姓名受保护的技术使用者：全芯智造技术有限公司技术研发日：技术公布日：2024/6/5