一种掩膜版图优化方法与流程

【】本发明涉及光刻，其特别涉及一种掩膜版图优化方法。

背景技术

0、背景技术：

1、在现代光刻技术中，光学临近效应(opti c al pro ximity c o rrec ti o n,op c)是在半导体制造中使用的一种重要技术，主要用于解决光刻制程中的版图形状变形和偏差问题。在现代半导体制造中，芯片的线宽和间距非常小，因此需要非常精确的光刻工艺，以确保芯片的性能和可制造性。光学临近效应的目标是校正由于光学投影系统和化学-物理过程的影响而导致的图案失真和偏移现象。对于光学掩膜如果没有施加任何预处理，可能对后续的光学临近效应效果造成影响。

2、在传统流程中，对光学掩膜的预处理有很多种手段，其中一种手段为c l e an jog，通过遍历掩膜图形文件的所有数据，精确识别某种几何形状的图形，这种图形一般由用户设置并且命名为局部冲突(j o g)，即版图中几何图形上的尖角异常图形，在识别之后通过修改构几何图形的点坐标来填充或取消尖角异常图形，实现c l e an j o g。现有的技术手段是一次遍历处理所有情况，但此种处理无法总揽全局,局部处理后可能总体出现冲突，尖角异常图形之间发生冲突可能会导致未定义的错误。

技术实现思路

0、技术实现要素：

1、为了解决无法总体处理掩膜版图上图形上的尖角异常图形之间互相发生重叠导致未定义的错误的问题，本发明提供一种掩膜版图优化方法。

2、本发明为解决上述技术问题，提供如下的技术方案：一种掩模版图优化方法，提供初始掩模版图上的图形信息，获取初始掩模版图内存在的尖角异常图形，并获取尖角异常图形的预修复图形；基于预修复图形判断相邻的两个预修复图形之间是否存在重叠现象；若是，将对应的所述预修复图形定义为异常冲突图形组；基于所述异常冲突图形组中的尖角异常图形的图形信息，取消对所述异常冲突图形组中至少一预修复图形的修复；将完成对异常冲突图形组的修复的初始掩模版图作为优化掩模版图输出。

3、优选地，基于预修复图形判断相邻的两个预修复图形之间是否存在重叠现象之后还包括：若否，将对应的所述尖角异常图形定义为正常冲突；对所述正常冲突的尖角异常图形进行填充。

4、优选地，基于预修复图形判断相邻的两个预修复图形之间是否存在重叠现象包括：通过记录的预修复图形建立空间树；确定目标预修复图形；在空间树内判断目标预修复图形与其他预修复图形是否重叠。

5、优选地，基于预修复图形判断相邻的两个预修复图形之间是否存在重叠现象包括：根据所述预修复图形在掩模版图上的坐标对所述预修复图形进行排序；确定目标预修复图形；根据所述预修复图形的序列，依次对比目标预修复图形与其他预修复图形，判断对相邻的所述预修复图形进行修复是否会导致重叠。

6、优选地，所述异常冲突图形组包括两侧预修复图形均与图形有重叠/任一侧预修复图形与图形有重叠/两侧预修复图形均不与图形重叠。

7、优选地，基于所述异常冲突图形组中的尖角异常图形的图形信息，取消对所述异常冲突图形组中至少一预修复图形的修复包括：判断所述异常冲突图形组中尖角异常图形的预修复图形与掩模版图上的图形是否有重叠；若所述预修复图形与所述图形有重叠，则取消对异常冲突图形组中至少一侧所述尖角异常图形的修复；若所述预修复图形与图形无重叠，与另一所述尖角异常图形的预修复图形有重叠，比较两所述预修复图形填充面积，取消对所述填充面积更大一侧尖角异常图形的修复。

8、优选地，若所述预修复图形与所述图形有重叠，则取消对异常冲突图形组中至少一侧所述尖角异常图形的修复：判断所述异常冲突图形组中所述尖角异常图形的预修复图形与所述图形是否有重叠；若有，取消对所述预修复图形的修复；若无，对所述预修复图形进行修复。

9、本发明为解决上述技术问题，提供又一技术方案如下：一种掩模版图优化装置，包括：获取模块：提供初始掩模版图上的图形信息，获取初始掩模版图内存在的尖角异常图形的预修复图形；处理模块：基于预修复图形判断相邻的两个预修复图形之间是否存在重叠现象；判断模块：若是，将对应的所述预修复图形定义为异常冲突图形组；修复模块：基于所述异常冲突图形组中的尖角异常图形的图形信息，取消对所述异常冲突图形组中至少一预修复图形的修复。

10、本发明为解决上述技术问题，提供又一技术方案如下：一种计算机装置，包括储存器、处理器及存储在储存器上的计算机程序所述处理器执行所述计算机程序以实现如掩膜版图优化方法的步骤。

11、本发明为解决上述技术问题，提供又一技术方案如下：一种计算机可读存储介质，其上存储有计算机程序，该计算机程序被处理器执行时实现如掩膜版图优化方法的步骤。

12、与现有技术相比，本发明所提供的一种掩膜版图优化方法，具有如下的有益效果：

13、1.本发明所提供的一种掩模版图优化方法，包括提供初始掩模版图上的图形信息，获取初始掩模版图内存在的尖角异常图形，并获取尖角异常图形的预修复图形；基于预修复图形判断相邻的两个预修复图形之间是否存在重叠现象；若是，将对应的所述预修复图形定义为异常冲突图形组；基于所述异常冲突图形组中的尖角异常图形的图形信息，取消对所述异常冲突图形组中至少一预修复图形的修复；将完成对异常冲突图形组的修复的初始掩模版图作为优化掩模版图输出。本发明提供的方案遍历掩膜中图形上全部尖角异常图形，通过总揽全局的方式汇总全部尖角异常图形并避免尖角异常图形的预修复图形之间发生重叠与冲突，以解决版图中的多边形相互重叠后导致未定义的错误的问题。

14、2.本发明所提供的一种掩膜版图优化方法，基于预修复图形判断相邻的两个预修复图形之间是否存在重叠现象之后还包括；若否，将对应的所述尖角异常图形定义为正常冲突；对所述正常冲突的尖角异常图形进行填充。对于没有重叠的尖角异常图形直接进行修复，提高工作效率。

15、3.本发明所提供的一种掩膜版图优化方法，基于预修复图形判断相邻的两个预修复图形之间是否存在重叠现象包括：通过记录的预修复图形建立空间树；确定目标预修复图形；在空间树内判断目标预修复图形与其他预修复图形是否重叠。通过建立空间树实现尖角异常图形之间的对比，并筛选出异常冲突图形组，同时节省运行时间。

16、4.本发明所提供的一种掩膜版图优化方法，基于预修复图形判断相邻的两个预修复图形之间是否存在重叠现象包括：根据所述预修复图形在掩膜版图上的坐标对所述预修复图形进行排序；确定目标预修复图形；根据所述预修复图形的序列，依次对比目标预修复图形与其他预修复图形，判断对相邻的所述预修复图形进行修复是否会导致重叠。另一种筛选相互重叠的尖角异常图形的预修复图形的方式是对全部预修复图形排序后逐个对比。

17、5.本发明所提供的一种掩膜版图优化方法，所述异常冲突图形组包括两侧预修复图形均与图形有重叠/任一侧预修复图形与图形有重叠/两侧预修复图形均不与图形重叠，以分类对比后做出取舍，保留或取消某一侧的修复。

18、6.本发明所提供的一种掩膜版图优化方法，基于所述异常冲突图形组中的尖角异常图形的图形信息，取消对所述异常冲突图形组中至少一预修复图形的修复包括：判断所述异常冲突图形组中尖角异常图形的预修复图形与掩模版图上的图形是否有重叠；若所述预修复图形与所述图形有重叠，则取消对异常冲突图形组中至少一侧所述尖角异常图形的修复；若所述预修复图形与图形无重叠，与另一所述尖角异常图形的预修复图形有重叠，比较两所述预修复图形填充面积，取消对所述填充面积更大一侧尖角异常图形的修复。通过判断和对比相互重叠的预修复图形，保留或取消某一侧对尖角异常图形的修复，以保证掩膜中的多边形不会相互重叠，避免多边形融合产生未定义的错误。

19、7.本发明所提供的一种掩膜版图优化方法，若所述预修复图形与所述图形有重叠，则取消对异常冲突图形组中至少一侧所述尖角异常图形的修复：判断所述异常冲突图形组中所述尖角异常图形的预修复图形与所述图形是否有重叠；若有，取消对所述预修复图形的修复；若无，对所述预修复图形进行修复。避免取消异常冲突图形组中与图形没有冲突的异常尖角图形导致的未定义错误。

20、8.本发明实施例还提供一种掩膜版图优化装置，具有与上述一种掩膜版图优化方法相同的有益效果，在此不做赘述。

21、9.本发明实施例还提供一种计算机装置，具有与上述一种掩膜版图优化方法相同的有益效果，在此不做赘述。

22、10.本发明实施例还提供一种计算机可读存储介质，具有与上述一种掩膜版图优化方法相同的有益效果，在此不做赘述。