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版图图形的插孔方法、装置、存储介质和仿真方法与流程
本技术涉及图像处理，特别是涉及一种版图图形的插孔方法、装置、存储介质和仿真方法。背景技术：1、cmp（chemical mechanical polishing，化学机械抛光）是现在集成电路制造工艺中......
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一种提高模拟开关耐ESD能力的电路版图
本申请涉及集成电路版图设计领域，特别涉及一种提高模拟开关耐esd能力的电路版图。背景技术：1、对于高压集成电路领域中，高压模拟开关是一项重要的应用，传统的基于高压bcd工艺的高压模拟开关尤其是低导通电......
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掩膜版图确定模型的训练、掩膜版图的确定方法及装置与流程
本技术实施例涉及集成电路，特别涉及一种掩膜版图确定模型的训练、掩膜版图的确定方法及装置。背景技术：1、在集成电路(integrated circuit，ic)技术中，需要先设计出ic版图，然后调用光刻......
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静态随机存取存储器单元及其版图结构的制作方法
本发明涉及半导体，尤其涉及一种静态随机存取存储器单元及其版图结构。背景技术：1、低功耗嵌入式存储器需求的不断增长，推动了新型静态随机存取存储器技术的发展。在亚阈值电压下工作可以实现大幅度的功耗降低，然......
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版图处理方法及系统、设备和存储介质与流程
本发明实施例涉及半导体制造领域，尤其涉及一种版图处理方法及系统、设备和存储介质。背景技术：1、随着半导体技术的发展，关键尺寸(critical dimension，cd)的减少，版图上的图形数量和密度......
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一种耐压MOSFET版图及MOSFET芯片的制作方法
本申请各实施例属半导体，尤其涉及一种耐压mosfet版图及mosfet芯片。背景技术：1、导通电阻是mosfet 重要的电性参数，可通过减小元胞尺寸来降低导通电阻。在沟槽型 mosfet 中，沟槽的尺......
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用于版图的设计规则检查的方法、电子设备及存储介质与流程
本公开的实施例主要涉及集成电路，并且更具体地，涉及版图生成方法、电子设备及存储介质。背景技术：1、集成电路的设计过程中，通常基于规范化的设计规则，将一些基本逻辑单元进行打包，形成标准单元（standa......
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LED驱动电路及其版图结构和恒流驱动芯片的制作方法
本技术涉及集成电路，具体涉及led驱动电路及其版图结构和恒流驱动芯片。背景技术：1、led驱动电路一般包括具有多通道恒流输出架构的输出通道单元和数字电路单元，为便于数字电路单元与输出通道单元进行通信布......
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芯片电源物理版图的缺陷检测方法、装置、设备及介质与流程
本发明涉及集成电路，尤其涉及一种芯片电源物理版图的缺陷检测方法、装置、电子设备及介质。背景技术：1、在先进制程芯片设计中，晶体管密度越来越高，功耗随之增大，为了让电源稳定输送到器件，提高使用效率，芯片......
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一种检查版图中屏蔽线质量的方法及系统与流程
本发明涉及半导体质量检测领域，更具体的，涉及一种检查版图中屏蔽线质量的方法及系统。背景技术：1、在电路版图设计中当两条金属线出现相邻情况时，在其中一根金属线上传播信号将耦合电流到另一根金属线,两条金属......
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纳米CMOS工艺下一种基于DICE版图交织加固单元的SRAM实现方法
本发明涉及版图交织，具体为纳米cmos工艺下一种基于dice版图交织加固单元的sram实现方法。背景技术：1、静态随机存取存储器sram(static random access memory)是一款......
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基于电荷共享的静态存储单元单粒子翻转版图加固方法
本发明涉及静态存储单元单粒子翻转版图加固，具体为基于电荷共享的静态存储单元单粒子翻转版图加固方法。背景技术：1、在宇宙空间中，存在大量高能粒子(质子、电子、重离子)。当高能粒子轰击存储电路中的存储单元......
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静态随机存储器的版图结构的制作方法
本发明涉及半导体，尤其是涉及一种静态随机存储器的版图结构。背景技术：1、随着以电子通讯技术为代表的现代高科技产业的不断发展，世界集成电路产业总产值以每年超过30％的速度发展，静态随机存储器(sram)......
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均衡器版图及存储器版图的制作方法
本公开实施例涉及存储器领域，特别涉及一种均衡器版图及存储器版图。背景技术：1、动态随机存取存储器(dynamic random access memory，dram)通过向存储单元的电容器中存储电荷以......
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一种负压保护的芯片版图结构的制作方法
本发明涉及半导体器件结构设计，尤其是指一种负压保护的芯片版图结构。背景技术：1、在集成电路设计中，负压技术常用于模拟电路设计，通过改变电压的极性或者电压幅度来实现一些特定的功能，如运算放大器、模拟信号......
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测试结构、掩膜版版图、及测试方法与流程
本发明实施例涉及半导体制造领域，尤其涉及一种测试结构、掩膜版版图、及测试方法。背景技术：1、在半导体器件制作过程中，常常需要对器件的可靠性进行测试。特别是随着半导体工艺技术的发展，半导体器件越来越集成......
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一种掩膜版图优化方法与流程
【】本发明涉及光刻，其特别涉及一种掩膜版图优化方法。背景技术0、背景技术：1、在现代光刻技术中，光学临近效应(opti c al pro ximity c o rrec ti o n,op c)是在半......
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在版图中添加辅助图案的方法、光刻版组合及芯片与流程
本申请涉及半导体制造中的光刻版版图设计，特别是涉及一种在版图中添加辅助图案的方法，还涉及一种光刻版组合，以及一种芯片。背景技术：1、在0.18微米以下芯片的制造过程中，有源区、多晶硅以及金属等图案密度......
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