版图处理方法及系统、设备和存储介质与流程

本发明实施例涉及半导体制造领域，尤其涉及一种版图处理方法及系统、设备和存储介质。

背景技术：

1、随着半导体技术的发展，关键尺寸(critical dimension，cd)的减少，版图上的图形数量和密度急剧增大，且容易出现在水平方向和垂直方向同时包含大小尺寸图形以及头对头(head to head，hth)的图形，而光刻工艺的工艺窗口与图形的面积息息相关，面积大的图形工艺窗口大，而面积小的图形工艺窗口小，小尺寸图形曝光到晶圆上后，容易出现模糊、倒塌(peeling)或者缺失(missing)问题，从而导致光刻工艺窗口不足(processwindow)不足，给光刻曝光带来了极大的挑战。

2、因此，在受限于图形布局的情况下，如何提升小尺寸图形的工艺窗口至关重要。

技术实现思路

1、本发明实施例解决的问题是提供一种版图处理方法及系统、设备和存储介质，在增大光刻工艺窗口的同时，使得芯片性能得到保障。

2、为解决上述问题，本发明实施例提供一种版图处理方法，包括：获取待处理版图层，所述待处理版图层包括多个版图图形；在所述版图层中获取任意两个相邻设置且满足预设条件的版图图形以构成图形组，所述预设条件包括：两个相邻设置的版图图形的面积不同，至少其中一者满足曝光最小面积要求，且两者的关键尺寸方向相同；其中，在所述图形组中，面积更大的版图图形作为第一图形，另一者作为第二图形；对所述图形组进行图形处理，以使图形处理后的第一图形和第二图形均满足曝光最小面积要求，所述图形处理包括：沿非关键尺寸方向，对所述第一图形进行图形收缩处理、以及对所述第二图形进行图形扩张处理。

3、相应的，本发明实施例还提供一种版图处理系统，包括：待处理版图层获取模块，用于获取待处理版图层，所述待处理版图层包括多个版图图形；图形组获取模块，用于在所述版图层中获取任意两个相邻设置且满足预设条件的版图图形以构成图形组，所述预设条件包括：两个相邻设置的版图图形的面积不同，至少其中一者满足曝光最小面积要求，且两者的关键尺寸方向相同；其中，在所述图形组中，面积更大的版图图形作为第一图形，另一者作为第二图形；图形处理模块，用于对所述图形组进行图形处理，以使图形处理后的第一图形和第二图形均满足曝光最小面积要求，所述图形处理包括：沿非关键尺寸方向，对所述第一图形进行图形收缩处理、以及对所述第二图形进行图形扩张处理。

4、相应地，本发明实施例还提供了一种设备，包括至少一个存储器和至少一个处理器，存储器存储有一条或多条计算机指令，其中，一条或多条计算机指令被处理器执行以实现如上述任一项的版图处理方法。

5、相应地，本发明实施例还提供了一种存储介质，存储介质存储有一条或多条计算机指令，一条或多条计算机指令用于实现如上述任一项的版图处理方法。

6、与现有技术相比，本发明实施例的技术方案具有以下优点：

7、本发明实施例提供的版图处理方法中，在获取相邻设置且满足预设条件的第一图形和第二图形后，对所述图形组进行图形处理，以使图形处理后的第一图形和第二图形均满足曝光最小面积要求，所述图形处理包括：沿非关键尺寸方向，对所述第一图形进行图形收缩处理、以及对所述第二图形进行图形扩张处理；通过对第一图形进行图形收缩处理，以释放出第二图形实现图形扩张所需要的空间，对第二图形进行尺寸扩张处理，以增大第二图形的面积，从而达到增大所述第二图形的光刻工艺窗口的目的；此外，在非关键尺寸方向进行图形的缩放，从而在增大光刻工艺窗口的同时，使得芯片性能得到保障。

技术特征：

1.一种版图处理方法，其特征在于，包括：

2.如权利要求1所述的版图处理方法，其特征在于，在所述版图层中获取任意两个相邻设置且满足预设条件的版图图形以构成图形组的步骤中，所述预设条件还包括：其中一者不满足曝光最小面积要求，另一者满足曝光最小面积要求。

3.如权利要求2所述的版图处理方法，其特征在于，在所述版图层中获取任意两个相邻设置且满足预设条件的版图图形以构成图形组的步骤中，在所述版图层中获取不满足曝光最小面积要求的版图图形作为第二图形之后，按照所述预设条件在所述第二图形周围进行图形搜索，用于获取所述第一图形；

4.如权利要求1所述的版图处理方法，其特征在于，沿非关键尺寸方向，对所述第一图形进行图形收缩处理的步骤中，使所述第一图形两侧对称缩进。

5.如权利要求1所述的版图处理方法，其特征在于，对所述第一图形进行图形收缩处理的步骤中，所述图形收缩处理后的第一图形沿非关键尺寸方向的尺寸大于工艺制造需要的最小尺寸。

6.如权利要求1～5中任一项所述的版图处理方法，其特征在于，基于所述第一图形和第二图形所对应的尺寸调整参数，对所述图形组进行图形处理；所述尺寸调整参数包括对所述第一图形进行图形收缩处理、以及对所述第二图形进行图形扩张处理时，所述第一图形的单侧尺寸变化量以及所述第二图形的单侧尺寸变化量。

7.如权利要求6所述的版图处理方法，其特征在于，沿非关键尺寸方向，对所述第一图形进行图形收缩处理、以及对所述第二图形进行图形扩张处理的步骤中，所述第一图形和所述第二图形的单侧尺寸变化量相等。

8.如权利要求6所述的版图处理方法，其特征在于，基于所述第一图形和第二图形所对应的尺寸调整参数，对所述图形组进行图形处理还包括：沿关键尺寸方向，将所述第一图形拆分为多个均满足曝光最小面积要求的子图形，同一个第一图形所对应的相邻子图形适于被分配至不同的掩膜版中，且同一个第一图形所对应的相邻子图形在所述关键尺寸方向上部分交叠；

9.如权利要求6所述的版图处理方法，其特征在于，基于所述第一图形和第二图形所对应的尺寸调整参数，对所述图形组进行图形处理之前，所述版图处理方法还包括：获取所述第一图形和第二图形所对应的尺寸调整参数，其中，获取所述尺寸调整参数包括：根据所述第一图形周围预设区域范围内的其余版图图形或者根据所述第二图形周围预设区域范围内的其余版图图形，确定所述尺寸调整参数。

10.如权利要求9所述的版图处理方法，其特征在于，根据所述第一图形周围预设区域范围内的其余版图图形或者根据所述第二图形周围预设区域范围内的其余版图图形，确定所述尺寸调整参数，包括：获取完成训练的参数预测模型；

11.如权利要求10所述的版图处理方法，其特征在于，所述评价参数包括聚焦深度、光罩误差增强因子、工艺变化带宽或图像归一化对数斜率。

12.如权利要求10所述的版图处理方法，其特征在于，获取完成训练的参数预测模型，包括：将关键特征向量输入至预设的神经网络模型中，并基于所述评价参数对所述预设的神经网络模型进行训练，得到参数预测模型；

13.如权利要求1所述的版图处理方法，其特征在于，获取所述待处理版图层的步骤包括：获取原始版图层，包括多个原始图形；

14.一种版图处理系统，其特征在于，包括：

15.如权利要求14所述的版图处理系统，其特征在于，在所述图形组获取模块中，所述预设条件还包括：其中一者不满足曝光最小面积要求，另一者满足曝光最小面积要求。

16.如权利要求14或15所述的版图处理系统，其特征在于，所述图形处理模块用于基于所述第一图形和第二图形所对应的尺寸调整参数，对所述图形组进行图形处理；所述尺寸调整参数包括对所述第一图形进行图形收缩处理、以及对所述第二图形进行图形扩张处理时，所述第一图形的单侧尺寸变化量以及所述第二图形的单侧尺寸变化量。

17.如权利要求16所述的版图处理系统，其特征在于，在所述图形处理模块中，对所述图形组进行图形处理还包括：沿关键尺寸方向，将所述第一图形拆分为多个均满足曝光最小面积要求的子图形，同一个第一图形所对应的相邻子图形适于被分配至不同的掩膜版中，且同一个第一图形所对应的相邻子图形在所述关键尺寸方向上部分交叠；所述尺寸调整参数还包括相邻子图形在所述关键尺寸方向上的交叠尺寸。

18.如权利要求16所述的版图处理系统，其特征在于，所述版图处理系统还包括：尺寸调整参数获取模块，用于获取所述第一图形和第二图形所对应的尺寸调整参数，其中，获取所述尺寸调整参数包括：根据所述第一图形周围预设区域范围内的其余版图图形或者根据所述第二图形周围预设区域范围内的其余版图图形，确定所述尺寸调整参数；

19.一种设备，其特征在于，包括至少一个存储器和至少一个处理器，所述存储器存储有一条或多条计算机指令，其中，所述一条或多条计算机指令被所述处理器执行以实现如权利要求1-13任一项所述的版图处理方法。

20.一种存储介质，其特征在于，所述存储介质存储有一条或多条计算机指令，所述一条或多条计算机指令用于实现如权利要求1-13任一项所述的版图处理方法。

技术总结一种版图处理方法及系统、设备和存储介质，版图处理方法包括：获取待处理版图层，待处理版图层包括多个版图图形；在版图层中获取任意两个相邻设置且满足预设条件的版图图形以构成图形组，预设条件包括：两个相邻设置的版图图形的面积不同，至少其中一者满足曝光最小面积要求，且两者的关键尺寸方向相同，图形组中面积更大的版图图形作为第一图形，另一者作为第二图形；对图形组进行图形处理，以使图形处理后的第一图形和第二图形均满足曝光最小面积要求，图形处理包括：沿非关键尺寸方向，对第一图形进行图形收缩处理、以及对第二图形进行图形扩张处理。本发明在增大第二图形的光刻工艺窗口的目的的同时，使得芯片性能得到保障。技术研发人员：林海笑,余啸,刘玄,朱皖骄,刘庆炜受保护的技术使用者：中芯国际集成电路制造（上海）有限公司技术研发日：技术公布日：2024/8/27