一种宽带超低减反射光学薄膜的制作方法

本技术涉及光学薄膜，特别是宽带超低减反射光学薄膜。

背景技术：

1、在光学元件中，由于光波通过光学元件表面的过程是有一种介质进入另一种介质的过程，比如将一束光从窗玻璃穿透过去，那么光是有空气介质进入玻璃介质的过程，由于空气介质的折射率为1.0，玻璃介质的折射率为1.52，光通过了两种折射率不同的介质，就会形成大约4%左右反射光。通过不同介质反射作用而使光能损失，两种介质的折射率差值越大，产生的反射光就会强。为了减少元件表面的反射损失，常在光学元件表面镀层透明介质薄膜,这种薄膜就叫减反膜。

2、光学元件表面的反射，不仅影响光学元件的通光能量，而且这些反射光还会在仪器中形成杂散光，影响光学仪器的成像质量。为了解决这些问题，通常在光学元件的表面镀上一定厚度的单层或多层膜，目的是为了减少元件的表面反射光，可见光波段减反膜有比较普通3层的宽带减反膜，减反效果如图1所示：减反的效果在420-680nm 波段范围内 镀膜后剩余反射率由4%降低至小于0.5%；还有一种镀单层的mgf2减反膜，如图2所示，减反效果是420-680nm波段范围内镀膜后剩余反射率由4%降低至小于1.5%；以往对于一般要求不高普通的光学元件表面镀单层或3层的减反膜能够满足光学系统的要求，但如今光学系统的中包含光学窗口和光学透镜等光学元件越来越多，越来越复杂，系统设计中采用了多种折射率的光学元件，这样以上常规的减反膜所产生的累计反射率还是太多，产出的剩余反射杂光也会对光学仪器中的信号造成不需要的信号噪声，影响整个系统的算法和精确度。

技术实现思路

1、本实用新型目的是要提供一种宽带超低减反射光学薄膜，解决了现有减反膜反射率过高问题。

2、为达到上述目的，本实用新型采用的技术方案是：

3、本实用新型提供了一种宽带超低减反射光学薄膜，所述薄膜包括 ti3o5膜层、sio2膜层和mgf2膜层，所述薄膜包括4层ti3o5膜层和sio2膜层和一层mgf2膜层，多层的所述ti3o5膜层和sio2膜层交替设置、由内层到外层依次设置为sio2膜层、ti3o5膜层、sio2膜层、ti3o5膜层、sio2膜层、ti3o5膜层、sio2膜层、ti3o5膜层，最外层的所述ti3o5膜层外侧设置有所述mgf2膜层。

4、优选地，所述ti3o5膜层的厚度由内层至外层逐渐增加。

5、优选地，所述ti3o5膜层的厚度由内到外依次为10.9 nm、15 nm、24.5 nm、27.9nm。

6、优选地，所述sio2膜层的厚度由内到外依次为196.3 nm、60.4 nm、216 nm、37.9nm。

7、优选地，所述mgf2膜层的厚度是104.9nm。

8、优选地，所述薄膜的基材为玻璃材质，所述基材的温度为260摄氏度。

9、由于上述技术方案运用，本实用新型与现有技术相比具有下列优点：

10、本实用新型的一种宽带超低减反射光学薄膜，包括ti3o5膜层、sio2膜层和mgf2膜层，多层的ti3o5膜层和sio2膜层交替设置、通过多种镀膜材料的优化组合在常规减反膜的基础上能将光学元件表面的剩余反射降低3-5倍；有效解决在光路系统中剩余反射杂光对于系统的干扰丰富光路设计人员的组合光学元件的方案选择，提高光路系统中成像的清晰度。

技术特征：

1.一种宽带超低减反射光学薄膜，其特征在于，所述薄膜包括 ti3o5膜层、sio2膜层和mgf2膜层，所述薄膜包括4层ti3o5膜层和sio2膜层和一层mgf2膜层，多层的所述ti3o5膜层和sio2膜层交替设置、由内层到外层依次设置为sio2膜层、ti3o5膜层、sio2膜层、ti3o5膜层、sio2膜层、ti3o5膜层、sio2膜层、ti3o5膜层，最外层的所述ti3o5膜层外侧设置有所述mgf2膜层。

2.根据权利要求1所述的一种宽带超低减反射光学薄膜，其特征在于：所述ti3o5膜层的厚度由内层至外层逐渐增加。

3.根据权利要求1所述的一种宽带超低减反射光学薄膜，其特征在于：所述ti3o5膜层的厚度由内到外依次为10.9 nm、15 nm、24.5 nm、27.9 nm。

4.根据权利要求1所述的一种宽带超低减反射光学薄膜，其特征在于：所述sio2膜层的厚度由内到外依次为196.3 nm、60.4 nm、216 nm、37.9 nm。

5.根据权利要求1所述的一种宽带超低减反射光学薄膜，其特征在于：所述mgf2膜层的厚度是104.9nm。

6.根据权利要求1所述的一种宽带超低减反射光学薄膜，其特征在于：所述薄膜的基材为玻璃材质，所述基材的温度为260摄氏度。

技术总结本技术涉及一种宽带超低减反射光学薄膜，所述薄膜包括Ti<subgt;3</subgt;O<subgt;5</subgt;膜层、SiO<subgt;2</subgt;膜层和MgF<subgt;2</subgt;膜层，所述薄膜包括4层Ti<subgt;3</subgt;O<subgt;5</subgt;膜层和SiO<subgt;2</subgt;膜层和一层MgF<subgt;2</subgt;膜层，多层的所述Ti<subgt;3</subgt;O<subgt;5</subgt;膜层和SiO<subgt;2</subgt;膜层交替设置、由内层到外层依次设置为SiO<subgt;2</subgt;膜层、Ti<subgt;3</subgt;O<subgt;5</subgt;膜层、SiO<subgt;2</subgt;膜层、Ti<subgt;3</subgt;O<subgt;5</subgt;膜层、SiO<subgt;2</subgt;膜层、Ti<subgt;3</subgt;O<subgt;5</subgt;膜层、SiO<subgt;2</subgt;膜层、Ti<subgt;3</subgt;O<subgt;5</subgt;膜层，最外层的所述Ti<subgt;3</subgt;O<subgt;5</subgt;膜层外侧设置有所述MgF<subgt;2</subgt;膜层；通过多种镀膜材料的优化组合在常规减反膜的基础上能将光学元件表面的剩余反射降低3‑5倍；有效解决在光路系统中剩余反射杂光对于系统的干扰丰富光路设计人员的组合光学元件的方案选择，提高光路系统中成像的清晰度。技术研发人员：陈彪,刘煌受保护的技术使用者：苏州欣恒高科光电科技有限公司技术研发日：20231116技术公布日：2024/6/13