滤光基板及其形成方法与流程

本发明涉及显示制造领域，特别涉及一种滤光基板及其形成方法。

背景技术：

1、掩模板(mask)是显示制造领域不可缺少的部分。掩模板是设计所得的掩模板设计(original design)经修正后，转移到掩模板基板上，以参与后续的曝光(litho)、显影(etch)等工艺环节，最终实现设计的图像在光刻胶上成像。掩模板的质量直接决定了光刻工艺的质量。

2、掩模板是通过深紫外(deep ultra-violet，duv)或者电子束将掩模板设计书写至掩模板的基板上。掩模板的制造成本较高，因此掩模板的数量对滤光基板的生产成本影响巨大。

技术实现思路

1、本发明解决的问题是如何以同一掩模板形成不同光阻层以减少掩模板数量、控制成本。

2、为解决上述问题，本发明提供一种滤光基板的形成方法，包括：

3、提供基底和掩模板；在所述基底上形成第一光刻胶层；基于第一线宽，设定第一光强；以所述第一光强，通过掩模板，对所述第一光刻胶层进行曝光以形成第一光阻层；在所述基底上形成第二光刻胶层；基于第二线宽，设定第二光强；以所述第二光强，通过所述掩模板，对所述第二光刻胶层进行曝光以形成第二光阻层。

4、可选的，所述第一光阻层和所述第二光阻层中至少1个为负性光刻胶层。

5、可选的，所述第一光阻层是红色光阻层、蓝色光阻层、绿色光阻层中的1个；所述第二光阻层是红色光阻层、蓝色光阻层、绿色光阻层中的1个。

6、可选的，所述第一光阻层和所述第二光阻层中1个是黑矩阵层。

7、可选的，进行曝光的步骤中，采用可调曝光装置进行曝光，其中所述可调曝光装置包括：用于产生照明光的光源；与所述光源相连的传输单元，用于传输所述照明光，以形成投射光刻胶层的入射光；用于调节所述入射光的光强的调光单元。

8、可选的，所述调光单元包括：具有第一透振方向的第一偏振片，用于使所述照明光形成偏振光；具有第二透振方向的第二偏振片，用于使所述偏振光形成入射光；第一偏振片和第二偏振片中的至少一个为透振方向可调的偏振片；设定第一光强的步骤包括：基于所述第一线宽，获得所述第一光强值；根据所述第一光强值，调节所述第一透振方向和所述第二透振方向之间的夹角以设定所述第一光强；设定第二光强的步骤包括：基于所述第二线宽，获得所述第二光强值；根据所述第二光强值，调节所述第一透振方向和所述第二透振方向之间的夹角以设定所述第二光强。

9、可选的，第一偏振片和第二偏振片中一个为透振方向可调的偏振片。

10、可选的，设定第一光强的步骤还包括：根据所述第一光强值，调节光源以设定所述第一光强；设定第二光强的步骤包括：根据所述第二线宽，调节光源以设定所述第二光强。

11、可选的，设定第一光强的步骤中，调节所述调光单元之后，调节光源；设定第二光强的步骤中，调节所述调光单元之后，调节光源。

12、可选的，所述第一线宽与所述第二线宽不相等。

13、可选的，所述第一线宽和所述第二线宽之间差值在0μm至9μm范围内。

14、可选的，获得所述第一光强值的步骤中，基于所述第一线宽，结合所述第一光刻胶层的线宽损失量获得所述第一光强值；获得所述第二光强值的步骤中，基于所述第二线宽，结合所述第二光刻胶层的线宽损失量获得所述第二光强值。

15、可选的，形成第一光阻层的步骤中，曝光时间为第一曝光时间；形成第二光阻层的步骤中，曝光时间为第二曝光时间；第一曝光时间和第二曝光时间相等。

16、可选的，所述第一曝光时间和所述第二曝光时间均大于1秒。

17、相应的，本发明还提供一种滤光基板，其特征在于，所述滤光基板采用本发明的滤光基板的形成方法所形成的，包括：

18、基底；位于所述基底上的第一光阻层，所述第一光阻层具有第一线宽；位于所述基底上的第二光阻层，所述第二光阻层具有第二线宽。

19、可选的，所述滤光基板为三线宽滤光基板，所述滤光基板包括：绿色光阻层、红色光阻层和蓝色光阻层；所述红色光阻层和所述蓝色光阻层中至少1个的线宽大于所述绿色光阻层的线宽。

20、与现有技术相比，本发明的技术方案具有以下优点：

21、本发明技术方案中，基于光阻层的线宽设定曝光光强，进行曝光的过程中，通过同一掩模板利用不同光强，形成不同光阻层，从而能够有效减小滤光基板制造过程中所需掩模板的数量，能够有效控制制造成本。

22、本发明可选方案中，进行曝光的步骤中，采用可调曝光装置进行曝光，即利用设置于光路中的调光单元调节用以曝光的入射光的光强。利用光路中的可调单元调节光强，避免调节光源，能够有效保证光源运行状态的稳定，有利于保证光场的稳定，有利于光源寿命的延长。

23、本发明可选方案中，获得光强值的过程中，基于光阻层的线宽，结合光刻胶层的线宽损失量，获得所述光强值。通过光强的调节，补充不同光阻层的线宽损失量，有效保证所形成光阻层的线宽精度，有利于提高滤光基板的质量。

技术特征：

1.一种滤光基板的形成方法，其特征在于，包括：

2.如权利要求1所述的形成方法，其特征在于，所述第一光阻层和所述第二光阻层中至少1个为负性光刻胶层。

3.如权利要求1所述的形成方法，其特征在于，所述第一光阻层是红色光阻层、蓝色光阻层、绿色光阻层中的1个；所述第二光阻层是红色光阻层、蓝色光阻层、绿色光阻层中的1个。

4.如权利要求1所述的形成方法，其特征在于，所述第一光阻层和所述第二光阻层中1个是黑矩阵层。

5.如权利要求1所述的形成方法，其特征在于，进行曝光的步骤中，采用可调曝光装置进行曝光，其中所述可调曝光装置包括：

6.如权利要求5所述的形成方法，其特征在于，所述调光单元包括：

7.如权利要求6所述的形成方法，其特征在于，第一偏振片和第二偏振片中一个为透振方向可调的偏振片。

8.如权利要求5所述的形成方法，其特征在于，设定第一光强的步骤还包括：根据所述第一光强值，调节光源以设定所述第一光强；设定第二光强的步骤包括：根据所述第二线宽，调节光源以设定所述第二光强。

9.如权利要求8所述的形成方法，其特征在于，设定第一光强的步骤中，调节所述调光单元之后，调节光源；

10.如权利要求1所述的形成方法，其特征在于，所述第一线宽与所述第二线宽不相等。

11.如权利要求5～10中任一项所述的形成方法，其特征在于，所述第一线宽和所述第二线宽之间差值在0μm至9μm范围内。

12.如权利要求5所述的形成方法，其特征在于，获得所述第一光强值的步骤中，基于所述第一线宽，结合所述第一光刻胶层的线宽损失量获得所述第一光强值；

13.如权利要求1或10所述的形成方法，其特征在于，形成第一光阻层的步骤中，曝光时间为第一曝光时间；

14.如权利要求13所述的形成方法，其特征在于，所述第一曝光时间和所述第二曝光时间均大于1秒。

15.一种滤光基板，其特征在于，所述滤光基板采用如权利要求1～14中任一项权利要求所述的形成方法所形成的，包括：

16.如权利要求15所述的滤光基板，其特征在于，所述滤光基板为三线宽滤光基板，所述滤光基板包括：绿色光阻层、红色光阻层和蓝色光阻层；所述红色光阻层和所述蓝色光阻层中至少1个的线宽大于所述绿色光阻层的线宽。

技术总结一种滤光基板及其形成方法，所述形成方法包括：提供基底和掩模板；在所述基底上形成第一光刻胶层；基于第一线宽，设定第一光强；以所述第一光强，通过掩模板，对所述第一光刻胶层进行曝光以形成第一光阻层；在所述基底上形成第二光刻胶层；基于第二线宽，设定第二光强；以所述第二光强，通过所述掩模板，对所述第二光刻胶层进行曝光以形成第二光阻层。基于光阻层的线宽设定曝光光强，进行曝光的过程中，通过同一掩模板利用不同光强，形成不同光阻层，从而能够有效减小滤光基板制造过程中所需掩模板的数量，能够有效控制制造成本。技术研发人员：曹佳豪,范刚洪,徐广军,唐文静受保护的技术使用者：上海仪电显示材料有限公司技术研发日：技术公布日：2024/6/13