显示装置及其制作方法与流程

本发明涉及一种显示装置及其制作方法，尤其涉及一种可增加侧向阻水效果的显示装置及其制作方法。

背景技术：

1、在现有的电子纸显示器中，显示介质层是位于保护层与驱动基板之间，其中在上述构件组装完成后，通过涂胶封装制程(edged sealing)形成胶层在保护层与显示介质层之间并延伸覆盖保护层的周围表面，来作为电子纸显示器的侧向水气阻隔结构。然而，涂胶封装制程会形成较宽的水气穿透路径(即从保护层至驱动基板之间的间距)，且目前的胶层的水气穿透率(water vapor transmission rate，wvtr)无法通过环境测试，若要提升胶层的水气穿透率，则势必会增加其黏度(viscosity)并牺牲掉制程的可操作性。另一种以贴合封装制程(pinched sealing)，虽然可以有效的减少水气穿透路径的宽度，但却会产生无可避免的气条(air gap)而牺牲了窄边框的设计。

技术实现思路

1、本发明是针对一种显示装置及其制作方法，其可增加侧向阻水效果，可具有较佳的结构可靠度。

2、根据本发明的实施例，显示装置包括驱动基板、显示介质层、阻水气层、保护层以及胶层。显示介质层配置于驱动基板上。阻水气层配置显示介质层上且覆盖显示介质层的周围。保护层配置于阻水气层上。胶层覆盖阻水气层的周围及至少部分保护层的周围。阻水气层的水气穿透率小于胶层的水气穿透率。

3、在根据本发明的实施例的显示装置中，上述的阻水气层的光穿透率大于85％。

4、在根据本发明的实施例的显示装置中，上述的驱动基板具有表面，显示介质层位于表面上暴露出部分表面。阻水气层还延伸覆盖显示介质层所暴露出的表面。

5、在根据本发明的实施例的显示装置中，上述的阻水气层与显示介质层的周围具有空气间隙。

6、在根据本发明的实施例的显示装置中，上述的阻水气层的材质包括聚合物衍生陶瓷材料或有机聚合物。

7、在根据本发明的实施例的显示装置中，上述的保护层包括盖板以及阻挡层。阻挡层覆盖盖板的一侧表面，且部分阻挡层位于盖板与阻水气层之间。

8、在根据本发明的实施例的显示装置中，上述的显示装置还包括光学胶层，配置于阻水气层与保护层之间或阻水气层与显示介质层，用以将保护层固定于显示介质层上。

9、根据本发明的实施例，显示装置的制作方法，其包括以下步骤。提供驱动基板。配置显示介质层于驱动基板上。形成阻水气层于显示介质层上且覆盖显示介质层的周围。配置保护层于阻水气层上。形成胶层于阻水气层的周围及至少部分保护层的周围，其中阻水气层的水气穿透率小于胶层的水气穿透率。

10、在根据本发明的实施例的显示装置的制作方法中，上述形成阻水气层的方法包括喷涂法或狭缝式涂布法。

11、在根据本发明的实施例的显示装置的制作方法中，上述形成胶层的方法包括点胶法。

12、基于上述，在本发明的显示装置的设计中，阻水气层覆盖显示介质层的周围，而胶层覆盖于阻水气层的周围，其中阻水气层的水气穿透率小于胶层的水气穿透率。借此，除了可提高显示介质层在侧向的水气阻隔效果，以防止显示介质层因侧向水气造成的损坏外，亦可有效地减少阻水通道的宽度。因此，本发明的显示装置可具有较佳的结构可靠度，且可达到窄边框的效果。

技术特征：

1.一种显示装置，其特征在于，包括：

2.根据权利要求1所述的显示装置，其特征在于，所述阻水气层的光穿透率大于85％。

3.根据权利要求1所述的显示装置，其特征在于，所述驱动基板具有表面，所述显示介质层位于所述表面上暴露出部分所述表面，而所述阻水气层还延伸覆盖所述显示介质层所暴露出的所述表面。

4.根据权利要求3所述的显示装置，其特征在于，所述阻水气层与所述显示介质层的周围具有空气间隙。

5.根据权利要求1所述的显示装置，其特征在于，所述阻水气层的材质包括聚合物衍生陶瓷材料或有机聚合物。

6.根据权利要求1所述的显示装置，其特征在于，所述保护层包括盖板以及阻挡层，所述阻挡层覆盖所述盖板的一侧表面，且部分所述阻挡层位于所述盖板与所述阻水气层之间。

7.根据权利要求1所述的显示装置，其特征在于，还包括：

8.一种显示装置的制作方法，其特征在于，包括：

9.根据权利要求8所述的显示装置的制作方法，其特征在于，形成所述阻水气层的方法包括喷涂法或狭缝式涂布法。

10.根据权利要求8所述的显示装置的制作方法，其特征在于，形成所述胶层的方法包括点胶法。

技术总结本发明提供一种显示装置及其制作方法。显示装置包括驱动基板、显示介质层、阻水气层、保护层以及胶层。显示介质层配置于驱动基板上。阻水气层配置显示介质层上且覆盖显示介质层的周围。保护层配置于阻水气层上。胶层覆盖阻水气层的周围及至少部分保护层的周围。阻水气层的水气穿透率小于胶层的水气穿透率。本发明的显示装置可增加侧向阻水效果，且可具有较佳的结构可靠度。技术研发人员：程翊峰,黄彦泽,黄振勛,朱菱强,黄信道受保护的技术使用者：川奇光电科技(扬州)有限公司技术研发日：技术公布日：2024/6/13