一种耐水洗的彩虹刻字膜的制作方法

本技术涉及彩虹刻字膜，具体涉及一种耐水洗的彩虹刻字膜。

背景技术：

1、刻字膜是指热转印过程中需要经过切割和雕刻的热转印膜，刻字膜种类多样，有tpu弹性刻字膜、金葱刻字膜、镭射刻字膜、仿金属刻字膜、可打印刻字膜、pvc刻字膜、植绒刻字膜、彩虹刻字膜、布料刻字膜和厚板刻字膜等等。其中，彩虹刻字膜被光源照射后能够折射出七彩渐变色，深受消费者的喜爱，市面上常将彩虹刻字膜用于服装和鞋帽等衣物上，使衣物具有强烈的科技时尚感。为了方便衣物的日常清洗，现有的彩虹刻字膜包括依次固接的pet层、彩虹膜层和tpu层，其中，彩虹膜层使彩虹刻字膜在光源照射下能折射出炫彩的彩虹色彩，而pet层和tpu层均具有良好的阻水性能，能够有效防止水接触到二者之间的彩虹膜层，避免彩虹膜层内的材料随着水流流失，从而使该彩虹刻字膜可随衣物一同水洗。然而现有的彩虹刻字膜在实际使用时存在以下技术问题：

2、由于pet本身的弹性和耐磨性能不足，导致pet层经过几次水洗拉伸容易被拉伸裂开，出现裂缝，水可能会从裂缝进入并接触到彩虹膜层，致使彩虹膜层内的材料随着水流流失，进而导致彩虹膜层失效。

技术实现思路

1、(一)解决的技术问题

2、本实用新型提供了一种耐水洗的彩虹刻字膜，至少能够解决的技术问题是：如何防止水接触到彩虹膜层。

3、(二)技术方案

4、为解决上述技术问题，本实用新型提供如下技术方案：一种耐水洗的彩虹刻字膜，包括从上到下依次固定连接的定位层、材质层、接着层和热熔胶层。

5、材质层包括从上到下依次固定连接的第一耐磨层、彩虹膜层和第二耐磨层，第一耐磨层顶部和定位层底部固定连接，第二耐磨层顶部设有若干个用于增强彩虹膜层彩虹效果的连接凸部，第一耐磨层底部设有与连接凸部配合的连接凹部；

6、接着层包括tpu层。

7、进一步设置，前述的所述第二耐磨层底部设有弹性层。

8、如此设置，弹性层用于提高耐水洗的彩虹刻字膜的回弹性和柔韧性，弹性层与第一耐磨层和第二耐磨层配合，进一步解决现有彩虹刻字膜不耐水洗的问题。

9、进一步设置，前述的弹性层为poe弹性体层。

10、如此设置，poe弹性体层使弹性层具有优异的韧性、耐老化性和良好的加工性，能够弹性拉伸，进一步解决现有彩虹刻字膜不耐水洗的问题。

11、进一步设置，前述的定位层包括pet膜层和不干胶层，pet膜层底部和不干胶层顶部固定连接，不干胶层底部和第一耐磨层顶部固定连接。

12、如此设置，定位层用于保护彩虹刻字膜外表面，使彩虹刻字膜外表面干净，无杂质。

13、进一步设置，前述的第一耐磨层和第二耐磨层均为双向拉伸聚丙烯薄膜层。

14、如此设置，双向拉伸聚丙烯薄膜层使第一耐磨层和第二耐磨层均具有透明、坚韧和耐磨的优点。

15、(三)有益效果

16、与现有技术相比，本实用新型提供的一种耐水洗的彩虹刻字膜，具备以下有益效果：

17、1、本实用新型提供的一种耐水洗的彩虹刻字膜通过定位层和接着层能够初步防止水进入材质层，再通过第一耐磨层和第二耐磨层能够进一步防止水接触到彩虹膜层，且第一耐磨层和第二耐磨层具有良好的耐磨性，经过多次水洗拉伸也不易被拉伸裂开，如此，即使定位层或接着层受损，第一耐磨层和第二耐磨层也能始终保护彩虹膜层，防止水接触到彩虹膜层，避免彩虹膜层内的材料随着水流流失导致失效，从而使该彩虹刻字膜具有耐水洗的性能。

18、2、通过第二耐磨层顶部设置的连接凸部和第一耐磨层底部设置的连接凹部配合，可使位于二者之间的彩虹膜层不平整，从而增强彩虹膜层的彩虹效果。

技术特征：

1.一种耐水洗的彩虹刻字膜，其特征在于，包括从上到下依次固定连接的定位层(1)、材质层(2)、接着层(3)和热熔胶层(4)；

2.根据权利要求1所述的耐水洗的彩虹刻字膜，其特征在于，所述第二耐磨层(23)底部设有弹性层(24)。

3.根据权利要求2所述的耐水洗的彩虹刻字膜，其特征在于，所述弹性层(24)为poe弹性体层。

4.根据权利要求1所述的耐水洗的彩虹刻字膜，其特征在于，所述定位层(1)包括pet膜层(11)和不干胶层(12)，pet膜层(11)底部和不干胶层(12)顶部固定连接，不干胶层(12)底部和第一耐磨层(21)顶部固定连接。

5.根据权利要求1所述的耐水洗的彩虹刻字膜，其特征在于，所述第一耐磨层(21)和第二耐磨层(23)均为双向拉伸聚丙烯薄膜层。

技术总结本技术涉及彩虹刻字膜技术领域，公开了一种耐水洗的彩虹刻字膜，包括从上到下依次固定连接的定位层、材质层、接着层和热熔胶层；材质层包括从上到下依次固定连接的第一耐磨层、彩虹膜层和第二耐磨层，第一耐磨层顶部和定位层底部固定连接，第二耐磨层顶部设有若干个用于增强彩虹膜层彩虹效果的连接凸部，第一耐磨层底部设有与连接凸部配合的连接凹部；接着层包括TPU层。本技术具有耐磨的优点，能够解决现有彩虹刻字膜不耐水洗的问题。技术研发人员：王世澎受保护的技术使用者：厦门市奇磊光电科技有限公司技术研发日：20201228技术公布日：2024/1/12