一种离子镀陶瓷工艺品的制作方法

本技术涉及一种离子镀陶瓷工艺品，具体为一种离子镀陶瓷工艺品。

背景技术：

1、与其他热喷涂相比等离子喷涂陶瓷涂层加工具有以下特点：由于等离子喷涂时的焰流温度很高，其中心温度可达32000k，几乎能熔化所有高熔点和高硬度的材料，所以很适合陶瓷与高熔点物质的喷涂，这是其他喷涂方法所不能实现的：涂层致密，结合强度高，等离子喷涂能使粉末获得较大的动能，且粉末温度又高，所以喷涂获得的涂层致密度高，结合强度高：涂层厚度可以按需要控制，误差可控制到0.025mm；对工件的热影响小，等离子喷涂对工件的热输入量小，喷涂后基材金相组织不会发生变化，工件几乎不产生变形，在提高耐磨蚀、抗氧化、耐热性能的同时，不影响机体原来的机械性能，同时可对精密工件进行喷涂：喷涂效率高，采用高能等离子设备时，粉末的沉积效率可达8kg/h：喷涂材料与被喷涂材料可以自由选择和组合，同时离子镀陶瓷工艺品更美观，与此同时也会因等离子陶瓷硬度高，导致易碎性增加，在生活发生倾倒或受到外力，极易发生破碎造成经济损失，

2、因此，需要设计一种离子镀陶瓷工艺品来解决上述背景技术中的问题。

技术实现思路

1、本实用新型的目的在于提供一种离子镀陶瓷工艺品，以解决上述背景技术中提出的问题。

2、为实现上述目的，本实用新型提供如下技术方案：

3、一种离子镀陶瓷工艺品，包括离子镀陶瓷工艺品主体、工艺品主体支撑台和透明防护罩，所述离子镀陶瓷工艺品主体放置在工艺品主体支撑台的顶面，且工艺品主体支撑台的顶部嵌入安装有透明防护罩，在工艺品主体支撑台顶面开设有限位凹槽，且工艺品主体支撑台的底部固定安装有基座，同时基座的底部四角处均固定安装有固定吸盘。

4、作为本实用新型优选的方案，所述基座外表面设置有倾斜端面，且倾斜端面靠近透明防护罩处开设有相适配的嵌槽，同时嵌槽内壁一侧开设有伸缩腔体。

5、作为本实用新型优选的方案，所述伸缩腔体的内部靠近嵌槽一端活动安装有锁止块，且锁止块和伸缩腔体内壁远离嵌槽一端之间固定连接有弹簧。

6、作为本实用新型优选的方案，所述锁止块远离弹簧一端设置有弧形滑行端面。

7、作为本实用新型优选的方案，所述透明防护罩采用有机玻璃定制而成，且透明防护罩底端四周固定安装有锥形嵌块，同时锥形嵌块插接在嵌槽的内部。

8、与现有技术相比，本实用新型的有益效果是：

9、1.本实用新型中，通过设置的工艺品主体支撑台以及固定吸盘可对离子镀陶瓷工艺品主体进行支撑固定，达到稳定，避免发生倾倒，同时通过设置的透明防护罩可对离子镀陶瓷工艺品主体进行防护，抵御外力，从而大大降低了发生破碎的风险，避免造成经济损失。

技术特征：

1.一种离子镀陶瓷工艺品，包括离子镀陶瓷工艺品主体(1)、工艺品主体支撑台(2)和透明防护罩(3)，其特征在于：所述离子镀陶瓷工艺品主体(1)放置在工艺品主体支撑台(2)的顶面，且工艺品主体支撑台(2)的顶部嵌入安装有透明防护罩(3)，在工艺品主体支撑台(2)顶面开设有限位凹槽(21)，且工艺品主体支撑台(2)的底部固定安装有基座(22)，同时基座(22)的底部四角处均固定安装有固定吸盘(221)。

2.根据权利要求1所述的一种离子镀陶瓷工艺品，其特征在于：所述基座(22)外表面设置有倾斜端面(222)，且倾斜端面(222)靠近透明防护罩(3)处开设有相适配的嵌槽(223)，同时嵌槽(223)内壁一侧开设有伸缩腔体(224)。

3.根据权利要求2所述的一种离子镀陶瓷工艺品，其特征在于：所述伸缩腔体(224)的内部靠近嵌槽(223)一端活动安装有锁止块(2241)，且锁止块(2241)和伸缩腔体(224)内壁远离嵌槽(223)一端之间固定连接有弹簧(2242)。

4.根据权利要求3所述的一种离子镀陶瓷工艺品，其特征在于：所述锁止块(2241)远离弹簧(2242)一端设置有弧形滑行端面(22411)。

5.根据权利要求2所述的一种离子镀陶瓷工艺品，其特征在于：所述透明防护罩(3)采用有机玻璃定制而成，且透明防护罩(3)底端四周固定安装有锥形嵌块(31)，同时锥形嵌块(31)插接在嵌槽(223)的内部。

技术总结本技术涉及一种离子镀陶瓷工艺品，具体为一种离子镀陶瓷工艺品，包括离子镀陶瓷工艺品主体、工艺品主体支撑台和透明防护罩，所述离子镀陶瓷工艺品主体放置在工艺品主体支撑台的顶面，且工艺品主体支撑台的顶部嵌入安装有透明防护罩，在工艺品主体支撑台顶面开设有限位凹槽，且工艺品主体支撑台的底部固定安装有基座，同时基座的底部四角处均固定安装有固定吸盘，且通过设置的工艺品主体支撑台以及固定吸盘可对离子镀陶瓷工艺品主体进行支撑固定，达到稳定，避免发生倾倒，同时通过设置的透明防护罩可对离子镀陶瓷工艺品主体进行防护，抵御外力，从而大大降低了发生破碎的风险，避免造成经济损失，同时还可达到防污，避免落灰。技术研发人员：郑晟亮,郑衍彬,郑泽洽,郑圻增受保护的技术使用者：福建省太古陶瓷有限责任公司技术研发日：20230803技术公布日：2024/1/22