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一种透光图案盖板的制作方法与流程

  • 国知局
  • 2024-06-21 13:16:24

本发明涉及显示器,具体涉及一种透光图案盖板的制作方法。

背景技术:

1、随着信息科技的发展,高精密度半导体电子设备的应用日渐广泛,为了更加方便、快捷地传输与交换讯息,许多电子设备都设置了显示器,以使其具有显示图像与文字的功能。由于显示器是直接与外界接触,所以其外通常加设有透光盖板,以免于受灰尘或水份的污损或意外撞击而损伤内部电子组件。

2、目前,也有在显示器前方设置带有图案的透光图案盖板,使得显示器不显示时,从外面看其具有一定的图案纹理(如木纹、皮革纹、石头纹理),由此可使显示器被隐藏起来,符合某些场合的应用(如汽车内饰、家电内饰)。但是,这种透光图案盖板由于图案较细而需要将图案层做得较薄,而如果图案层做得较薄,其颜色很难显现出来,而且由于这种透光图案盖板在制作过程中容易出现金属层与图案层没有对准的情况,导致图案层的明度及显示亮度受到影响。

技术实现思路

1、本发明所要解决的技术问题是提供一种透光图案盖板的制作方法,这种制作方法制作出来的透光图案盖板能够使显示器在不显示时其屏幕呈现为带有颜色的图案,并使得其图案可以满足精细化要求,有效提高其图案层的明度及显示亮度。采用的技术方案如下:

2、一种透光图案盖板的制作方法,其特征在于包括如下步骤:

3、(1)在透明基板的内侧面设置底色层,底色层具有多个色点;

4、(2)在底色层的内侧面上沉积金属层;

5、(3)对金属层进行光刻以使金属层形成具有多条缝隙的金属图案层;

6、(4)以金属图案层作为掩膜,通过灰化工艺对底色层进行蚀刻,使底色层形成具有相应缝隙的底色图案层。

7、上述制作方法中,所述步骤(3)中,对金属层的光刻过程一般采用酸性液体进行蚀刻(涂布光刻胶-掩膜曝光-显影-酸液蚀刻-褪膜);所述步骤(4)中,灰化工艺是利用氧等离子体,通过等离子体中的氧自由基使有机的底色层被氧化反应,形成二氧化碳(可能会留下灰)的工艺;在灰化工艺中,由于氧等离子体一般难以与金属层反应生成挥发物,因而无法去掉金属层(最多将金属层表面氧化),因此金属层可以作为灰化工艺的保护层,由此可利用金属图案层作为掩膜对底色层进行蚀刻,可使底色层形成透光缝隙,可减少图案层的各色点对光线的无效遮挡,并使得金属层图案与底色层图案精确套合,保证其金属层与图案层的对准,从而满足图案层的精细化要求,而且可有效提高其图案层的明度及显示亮度。

8、由上述制作方法制作出来的透光图案盖板可安装在显示器的屏幕前方,由于底色图案层的图案是由底色层的各个色点构成,而每个色点均带有颜色,使得底色图案层的图案颜色得以显现;在显示器不显示时,外面光线照射在金属图案层形成反射光,并透过底色层的各个色点射出,可将底色图案层的图案颜色明显地显现出来,使用户从显示器的外面看其具有一定的图案纹理(如木纹、皮革纹、石头纹理)等,由此可将显示器更好地隐藏起来,符合某些场合的应用(如汽车内饰、家电内饰),由此可使透光图案盖板能够使显示器在不显示时其屏幕呈现为带有颜色的图案,更好地将显示器隐藏起来。

9、作为本发明的优选方案,所述制作方法包括步骤(5),采用氢等离子体将被氧化的金属层内侧面还原为金属,提高其反射率。由此,可使得金属层的表面反射率较高,显示器的光线可以被反射回去并重新利用,避免其光线的浪费。

10、作为本发明的优选方案,所述底色层包括第一色层和第二色层,第一色层覆盖在所述透明基板的内侧面上,第二色层覆盖在第一色层及透明基板上,第二色层为透明色层,第一色层为不透明色层。透明色层可以是彩色的光敏树脂涂层或彩色的油墨层。由此可使底色层形成对显示器各个区域的均匀遮挡,且底色层的纹理(如木纹)不会使显示画面出现显示不均的问题。

11、作为本发明进一步的优选方案,所述步骤(1)中,先在透明基板的内侧面上设置第一色层,并通过黄光工艺(即掩膜曝光、显影)在第一色层上形成多个镂空点(可按照木纹明暗进行大小设计的镂空点);再在第一色层的内侧面及其镂空点处叠加第二色层,第二色层为透明色层,以在镂空点处形成所述的色点;所述步骤(2),所述金属层沉积在第二色层的内侧面上。

12、作为本发明进一步的优选方案,所述不透明色层为深色涂层。

13、作为本发明更进一步的优选方案,所述不透明色层为混有深色染料分子的涂层(如黑色染料的光敏树脂涂层)。由此可使第一色层同样容易在灰化工艺中被灰化掉。

14、作为本发明进一步的优选方案,所述底色层的厚度为2~10μm。

15、作为本发明的优选方案,所述色点上设有透光缝隙。由此可减少底色图案层的各色点对光线的无效遮挡。

16、作为本发明进一步的优选方案,所述透光缝隙为宽度10~50μm的条形狭缝。由此可使底色图案层的图案更为精确。

17、作为本发明的优选方案,所述步骤(2)中金属层为铝钼层或钼铝钼层。金属层可以采用磁控溅射的铝钼双层或钼铝钼层,容易通过光刻形成精确的图案,且表面的钼层可以避免其在灰化过程中被氧化。金属层也可以采用多层合金薄膜。

18、本发明与现有技术相比,具有如下优点:

19、本发明的制作方法通过引进灰化工艺,并利用金属层作为掩膜对底色层进行蚀刻,可以保证其金属层图案与底色层图案的对准,使得金属层图案与底色层图案精确套合,从而满足图案层的精细化要求,而且可有效提高其图案层的明度及显示亮度。

技术特征:

1.一种透光图案盖板的制作方法,其特征在于包括如下步骤:

2.根据权利要求1所述的一种透光图案盖板的制作方法,其特征在于:所述制作方法包括步骤(5),采用氢等离子体将被氧化的金属层内侧面还原为金属,提高其反射率。

3.根据权利要求1所述的一种透光图案盖板的制作方法,其特征在于:所述底色层包括第一色层和第二色层,第一色层覆盖在所述透明基板的内侧面上,第二色层覆盖在第一色层及透明基板上,第二色层为透明色层,第一色层为不透明色层。

4.根据权利要求3所述的一种透光图案盖板的制作方法,其特征在于:所述步骤(1)中,先在透明基板的内侧面上设置第一色层,并通过黄光工艺在第一色层上形成多个镂空点;再在第一色层的内侧面及其镂空点处叠加第二色层,第二色层为透明色层;所述步骤(2),所述金属层沉积在第二色层的内侧面上。

5.根据权利要求3所述的一种透光图案盖板的制作方法,其特征在于:所述不透明色层为深色涂层。

6.根据权利要求3所述的一种透光图案盖板的制作方法,其特征在于:所述不透明色层为混有深色染料分子的涂层。

7.根据权利要求1-6任一项所述的一种透光图案盖板的制作方法,其特征在于:所述底色层的厚度为2~10μm。

8.根据权利要求1-6任一项所述的一种透光图案盖板的制作方法,其特征在于:所述色点上设有透光缝隙。

9.根据权利要求8所述的一种透光图案盖板的制作方法,其特征在于:所述透光缝隙为宽度10~50μm的条形狭缝。

10.根据权利要求1-6任一项所述的一种透光图案盖板的制作方法,其特征在于:所述步骤(2)中金属层为铝钼层或钼铝钼层。

技术总结本发明涉及一种透光图案盖板的制作方法,包括如下步骤:(1)在透明基板的内侧面设置底色层,底色层具有多个色点;(2)在底色层的内侧面上沉积金属层;(3)对金属层进行光刻以使金属层形成具有多条缝隙的金属图案层;(4)以金属图案层作为掩膜,通过灰化工艺对底色层进行蚀刻,使底色层形成具有相应缝隙的底色图案层。本发明制作出来的透光图案盖板能够使显示器在不显示时其屏幕呈现为带有颜色的图案,并使得其图案可以满足精细化要求,有效提高其图案层的明度及显示亮度。技术研发人员:沈奕,吕岳敏,高嘉桐受保护的技术使用者:汕头超声显示器技术有限公司技术研发日:技术公布日:2024/2/19

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