一种晶圆清洗抛光装置的制作方法

本技术属于半导体制造，具体涉及一种晶圆清洗抛光装置。

背景技术：

1、在半导体制造技术领域中需要使用到一种晶圆清洗抛光装置，晶圆是指制作硅半导体电路所用的硅晶片，其原始材料是硅，高纯度的多晶硅溶解后掺入硅晶体晶种，然后慢慢拉出，形成圆柱形的单晶硅。硅晶棒在经过研磨，抛光，切片后，形成硅晶圆片，也就是晶圆。

2、清洗晶圆使用的水没有再次进行二次或多次利用，同时可对抛光装置进行调整。经检索，例如，专利申请号为202223533149.5的申请案公开了一种晶圆清洗抛光装置，包括：底座，底座的顶端固定连接有工作台，工作台的前端固定连接有伺服电机的输出端固定连接有第一螺纹杆，第一螺纹杆的表面通过螺纹连接有第一螺纹套，第一螺纹套的左端固定连接有连接块，连接块的顶端固定连接有固定块，固定块的相向处固定连接有连接板。该晶圆清洗抛光装置，通过伺服电机的转动带动第一螺纹杆从而带动第一螺纹套进行往复移动，通过第一螺纹套的移动带动连接块与固定块进行移动，从而带动连接板进行移动，通过连接板的移动带动抛光盘进行位移，从而对晶圆原料进行抛光，通过泵机的吸力，使收集箱中的水通过出水管进行排出。该申请案虽然实现了清洗废水的二次或多次利用，但没有对清洗的废水进行处理，清洗的废水内部含有较多杂质，减少了能够二次利用的去处；其次抛光盘在使用到一定期限时，抛光质量会有所下降，而抛光盘无法进行更换。

技术实现思路

1、 1.实用新型的目的

2、针对上述技术问题，本实用新型提供了一种晶圆清洗抛光装置，用以解决背景技术中提到的技术问题。

3、 2.技术方案

4、为了达到上述目的，本实用新型提供的技术方案为：一种晶圆清洗抛光装置，包括外框架，所述外框架内底壁中部固定连接有圆盘架，所述圆盘架内底壁中部固定连接有吸附盘，所述吸附盘上面可吸附固定晶圆；所述晶圆上方设有可上下移动、旋转且可拆卸的抛光盘；所述圆盘架内底壁周边开设有多个排水孔，所述外框架内底壁两侧对称开设有排出槽，所述排出槽内部设有可拆卸连接的滤网，所述排出槽底部固定连接有储水箱。

5、进一步的改进在于：所述外框架上方固定连接有u型固定架，所述u型固定架顶壁对称安装有气缸，所述气缸执行杆穿过u型固定架上壁且其末端连接有活动板，所述活动板顶壁中部安装有转动电机，所述转动电机输出端输出轴连接有内螺柱，所述抛光盘顶端固定连接有外螺套，所述内螺柱与外螺套之间螺纹固定。

6、进一步的改进在于：所述u型固定架内壁两侧均开设有滑槽，所述活动板两端滑动于滑槽内侧。

7、进一步的改进在于：所述u型固定架顶壁中部固定安装有双轴电机，所述u型固定架上方位于双轴电机上部固定连接有顶板槽，所述双轴电机输出两端均连接有螺杆，所述螺杆外部螺纹连接有螺纹块，所述螺纹块上部滑动于顶板槽内侧，所述螺纹块底端固定连接有l型连杆，所述l型连杆横向端连接有抵接板，所述抵接板抵接于抛光盘下壁。

8、进一步的改进在于：所述储水箱外部固定安装有水泵，所述水泵抽水端连接有抽水管，所述抽水管上端连接有分流管，所述分流管内侧固定连接有多个喷嘴，所述分流管位于圆盘架两侧。

9、 进一步的改进在于：所述滤网顶壁四个拐角处均连接有第一固定块，所述外框架内底壁靠近滤网四周均固定连接有第二固定块，所述第二固定块内侧开设有定向槽，所述定向槽内侧滑动连接有限位块，所述第一固定块内侧开设有限位槽，所述限位块与定向槽之间插接限位，所述限位块一端固定连接有活动杆，所述活动杆一端穿过第二固定块内侧，所述活动杆外部固定缠绕有弹簧，所述活动杆上端连接有竖杆，所述竖杆上端连接有横板，所述横板一侧固定连接有拉杆。

10、 3.有益效果

11、本实用新型提供的技术方案，与现有技术相比，具有以下有益效果：

12、本实用新型首先通过滤网的设置能够在清洗废水排出的时候对其内部杂质进行过滤净化处理，且通过第一固定块、限位槽、第二固定块、定向槽、限位块、活动杆、弹簧和竖杆之间的设置配合，能够对滤网进行拆卸和安装处理，使得滤网可以定期拆卸后对其进行清洗，使得滤网可以循环使用，经过处理的清洗废水能够应用于更多的二次利用取去处；其次通过内螺柱和外螺套之间的连接，能够实现抛光盘的可拆卸连接，便于更换，且配合双轴电机、顶板槽、螺杆、螺纹块、l型连杆和抵接板之间的设置，能够对抛光盘的底部进行支撑，避免其掉落，该装置具有良好的使用效果。

技术特征：

1.一种晶圆清洗抛光装置，其特征在于：包括外框架（1），所述外框架（1）内底壁中部固定连接有圆盘架（2），所述圆盘架（2）内底壁中部固定连接有吸附盘（3），所述吸附盘（3）上面可吸附固定晶圆；所述晶圆上方设有可上下移动、旋转且可拆卸的抛光盘（4）；所述圆盘架（2）内底壁周边开设有多个排水孔（201），所述外框架（1）内底壁两侧对称开设有排出槽（101），所述排出槽（101）内部设有可拆卸连接的滤网（5），所述排出槽（101）底部固定连接有储水箱（6）。

2.根据权利要求1所述的一种晶圆清洗抛光装置，其特征在于：所述外框架（1）上方固定连接有u型固定架（7），所述u型固定架（7）顶壁对称安装有气缸（8），所述气缸（8）执行杆穿过u型固定架（7）上壁且其末端连接有活动板（9），所述活动板（9）顶壁中部安装有转动电机（10），所述转动电机（10）输出端输出轴连接有内螺柱，所述抛光盘（4）顶端固定连接有外螺套，所述内螺柱与外螺套之间螺纹固定。

3.根据权利要求2所述的一种晶圆清洗抛光装置，其特征在于：所述u型固定架（7）内壁两侧均开设有滑槽（701），所述活动板（9）两端滑动于滑槽（701）内侧。

4.根据权利要求3所述的一种晶圆清洗抛光装置，其特征在于：所述u型固定架（7）顶壁中部固定安装有双轴电机（11），所述u型固定架（7）上方位于双轴电机（11）上部固定连接有顶板槽（12），所述双轴电机（11）输出两端均连接有螺杆（13），所述螺杆（13）外部螺纹连接有螺纹块（14），所述螺纹块（14）上部滑动于顶板槽（12）内侧，所述螺纹块（14）底端固定连接有l型连杆（15），所述l型连杆（15）横向端连接有抵接板（16），所述抵接板（16）抵接于抛光盘（4）下壁。

5.根据权利要求4所述的一种晶圆清洗抛光装置，其特征在于：所述储水箱（6）外部固定安装有水泵（17），所述水泵（17）抽水端连接有抽水管（18），所述抽水管（18）上端连接有分流管（19），所述分流管（19）内侧固定连接有多个喷嘴（20），所述分流管（19）位于圆盘架（2）两侧。

6.根据权利要求5所述的一种晶圆清洗抛光装置，其特征在于：所述滤网（5）顶壁四个拐角处均连接有第一固定块（21），所述外框架（1）内底壁靠近滤网（5）四周均固定连接有第二固定块（22），所述第二固定块（22）内侧开设有定向槽（2201），所述定向槽（2201）内侧滑动连接有限位块（23），所述第一固定块（21）内侧开设有限位槽（2101），所述限位块（23）与定向槽（2201）之间插接限位，所述限位块（23）一端固定连接有活动杆（24），所述活动杆（24）一端穿过第二固定块（22）内侧，所述活动杆（24）外部固定缠绕有弹簧（25），所述活动杆（24）上端连接有竖杆（26），所述竖杆（26）上端连接有横板（27），所述横板（27）一侧固定连接有拉杆（28）。

技术总结本技术提供了一种晶圆清洗抛光装置，包括外框架，所述外框架内底壁中部固定连接有圆盘架，所述圆盘架内底壁中部固定连接有吸附盘，所述吸附盘上面可吸附固定晶圆；所述晶圆上方设有可上下移动、旋转且可拆卸的抛光盘；所述圆盘架内底壁周边开设有多个排水孔。本技术通过滤网的设置能够在清洗废水排出的时候对其内部杂质进行过滤净化处理，且通过第一固定块、限位槽、第二固定块、定向槽、限位块、活动杆、弹簧和竖杆之间的设置配合，能够对滤网进行拆卸和安装处理，使得滤网可以定期拆卸后对其进行清洗，使得滤网可以循环使用，经过处理的清洗废水能够应用于更多的二次利用取去处。技术研发人员：杨兵兵,黄君怡,张世隆受保护的技术使用者：上海东沅集成电路有限公司技术研发日：20231123技术公布日：2024/6/11