一种蒸发装置和真空镀膜设备的制作方法

本发明涉及真空镀膜，具体涉及一种蒸发装置和真空镀膜设备。

背景技术：

1、蒸镀是指将蒸镀材料放置在坩埚等耐高温容器里，加热使其融化，从而使得蒸镀材料气化，沉积在路过的薄膜上。

2、蒸发舟是指对材料进行蒸发的容器，是蒸发器皿的统称，主要用于真空蒸镀。但是，当前的真空蒸镀中使用的蒸发舟在蒸镀过程中容易出现蒸镀材料飞溅的现象，损伤薄膜。

技术实现思路

1、有鉴于此，本发明实施例的目的在于提供一种蒸发装置和真空镀膜设备，以解决现有技术中蒸发舟在蒸镀过程中容易出现蒸镀材料飞溅的现象，损伤薄膜的技术问题。

2、为达上述目的，本发明实施例提供了一种蒸发装置，所述蒸发装置包括：

3、底板；

4、下蒸发舟，包括融化区域和升华区域；所述融化区域底部设置有融化电极，所述升华区域的底部设置有升华电极；

5、所述下蒸发舟通过所述融化电极和所述升华电极安装在所述底板上；

6、上蒸发舟，设置在所述下蒸发舟的壁体上，且位于融化区域的上方。

7、在一些可能的实施方式中，所述下蒸发舟的内部底面为坡面，所述融化区域的坡面高度高于所述升华区域的坡面高度；

8、所述升华区域的坡面长度大于所述融化区域的坡面长度。

9、在一些可能的实施方式中，所述下蒸发舟还包括缓冲区域，所述缓冲区域位于所述融化区域和所述缓冲区域之间；

10、所述缓冲区域的底部不设置电极；

11、所述缓冲区域设置有挡板。

12、在一些可能的实施方式中，所述上蒸发舟覆盖所述融化区域和所述缓冲区域。

13、在一些可能的实施方式中，所述上蒸发舟为半封闭的拱形，在所述上蒸发舟的内部的顶面与侧壁之间设置有斜面；

14、在所述上蒸发舟的侧壁上设置有供蒸镀材料穿过的孔洞。

15、在一些可能的实施方式中，所述上蒸发舟的外部的顶部上设置有上加热电极。

16、在一些可能的实施方式中，所述上加热电极和所述融化电极与第一电源连接；所述升华电极与第二电源连接。

17、在一些可能的实施方式中，所述上蒸发舟的发热量小于所述下蒸发舟的发热量；所述上蒸发舟和所述下蒸发舟材质为氮化硼、二硼化钛、氮化铝、氧化铝、氧化锆、碳化硅和氮化硅中的任意一种。

18、在一些可能的实施方式中，所述坡面的坡度为0度至30度。

19、第二方面，本发明实施例提供了一种真空镀膜设备，所述真空镀膜设备包括：真空腔体，在所述真空腔体的内部设置有放卷辊、收卷辊、导向辊和待蒸镀的薄膜，所述薄膜通过所述放卷辊进行放卷，在所述导向辊的导向下通所述收卷辊收卷；

20、所述真空镀膜设备包括若干个如上述任意一种所述的蒸发装置，所述蒸发装置在所述薄膜从所述放卷辊到所述收卷辊的走膜路径的底部。

21、上述技术方案的有益技术效果在于：

22、本发明实施例提供的一种蒸发装置和真空镀膜设备，该蒸发装置包括：底板；下蒸发舟包括融化区域和升华区域；融化区域底部设置有融化电极，升华区域的底部设置有升华电极；下蒸发舟通过融化电极和升华电极安装在底板上；上蒸发舟设置在下蒸发舟的壁体上且位于融化区域的上方。本发明实施例通过在下蒸发舟的融化区域的上方设置上蒸发舟，可以避免蒸镀材料在融化过程中飞溅到薄膜上，造成薄膜烧孔，提薄膜真空蒸镀质量。

技术特征：

1.一种蒸发装置（10），其特征在于，所述蒸发装置（10）包括：

2.根据权利要求1所述的一种蒸发装置（10），其特征在于，所述下蒸发舟（12）的内部底面为坡面，所述融化区域（121）的坡面高度高于所述升华区域（122）的坡面高度；

3.根据权利要求1所述的一种蒸发装置（10），其特征在于，

4.根据权利要求3所述的一种蒸发装置（10），其特征在于，

5.根据权利要求1所述的一种蒸发装置（10），其特征在于，

6.根据权利要求1所述的一种蒸发装置（10），其特征在于，所述上蒸发舟（15）的外部的顶部上设置有上加热电极（16）。

7.根据权利要求6所述的一种蒸发装置（10），其特征在于，所述融化电极（13）上设置有第一电源接口（131）；所述升华电极（14）上设置有第二电源接口（141）；所述上加热电极（16）上设置有第三电源接口（161）；

8.根据权利要求7所述的一种蒸发装置（10），其特征在于，所述上蒸发舟（15）的发热量小于所述下蒸发舟（12）的发热量；所述上蒸发舟（15）和所述下蒸发舟（12）材质为氮化硼、二硼化钛、氮化铝、氧化铝、氧化锆、碳化硅和氮化硅中的任意一种。

9.根据权利要求2所述的一种蒸发装置（10），其特征在于，所述坡面的坡度为0度至30度。

10.一种真空镀膜设备（20），其特征在于，所述真空镀膜设备包括：真空腔体（21），在所述真空腔体（21）内部设置有放卷辊（22）、收卷辊（23）、导向辊（24）和待蒸镀的薄膜（25），所述薄膜（25）通过所述放卷辊（22）进行放卷，在所述导向辊（24）的导向下通所述收卷辊（23）收卷；

技术总结本发明提供一种蒸发装置和真空镀膜设备，该蒸发装置包括：底板；下蒸发舟包括融化区域和升华区域；融化区域底部设置有融化电极，升华区域的底部设置有升华电极；下蒸发舟通过融化电极和升华电极安装在底板上；上蒸发舟设置在下蒸发舟的壁体上且位于融化区域的上方。本发明通过在下蒸发舟的融化区域的上方设置上蒸发舟，可以避免蒸镀材料在融化过程中飞溅到薄膜上，造成薄膜烧孔，提薄膜真空蒸镀质量。技术研发人员：贾孟受保护的技术使用者：昆山鑫美源电子科技有限公司技术研发日：技术公布日：2024/6/11