一种抗反射玻璃盖板及其制备方法和用途与流程
- 国知局
- 2024-06-20 13:06:33
本公开涉及电池盖板领域,具体地,涉及一种抗反射玻璃盖板及其制备方法和用途。
背景技术:
1、在手机玻璃电池盖上实现极致黑的外观效果近来备受关注,是各大手机厂商高端旗舰项目的开发热点,但常规喷涂黑色油墨的方案,成品电池盖外观往往泛白、发雾,存在诸多杂散光反射,影响整机精致度。现有的玻璃极致黑工艺包括:1)喷涂油墨,油墨中还有其他功能性填料,包括实现表面粗化消光效果,或者碳纳米管等罐子捕捉填料;2)金属吸收膜,金属对于可见光波段具有较强吸收,达到消光目的;3)玻璃内侧贴合黑色pet膜片等,该方案类似内侧喷涂油墨。
2、目前极致黑的文献专利主要集中于相机镜筒内侧处理,防止出现串光影响成像质量,实现的路径主要为喷涂黑色油墨(油墨中添加增黑填料,例如碳管,碳粉等)或者pvd沉积金属吸收膜(具有很高的消光系数,达到消除光泽目的),但是以上方案受限于可靠性或者天线净空,都无法应用于玻璃电池盖表面。
技术实现思路
1、本公开的目的是提供一种抗反射玻璃盖板及其制备方法和用途,可以实现极致黑效果,并且在手机电池玻璃壳体的应用中避免受限于天线净空的问题。
2、为了实现上述目的,本公开第一方面提供一种制备抗反射玻璃盖板的方法,包括以下步骤:
3、s1、对玻璃基板的外表面进行粗化处理,得到外表面具有粗化层的玻璃基板;
4、s2、在所述粗化层的表面交替地形成低折膜层和高折膜层,所述低折膜层和高折膜层构成减反增透膜层;并且所述粗化层的表面直接与低折膜层接触。
5、可选地,所述低折膜层包括低折材料,所述低折材料选自sio2、mgf2和tiox中的一种或几种,0<x<1.52;所述高折膜层包括高折材料,所述高折材料选自si3n4、zro2、nb2o5、sion和ta2o5中的一种或几种;
6、优选地,所述低折材料为sio2,所述高折材料为si3n4。
7、可选地,步骤s2包括:
8、s201、在第一涂覆条件下,向所述粗化层的表面涂覆第一低折材料,形成第一低折膜层;
9、s202、在第二涂覆条件下,向所述第一低折膜层上涂覆第一高折材料,形成第一高折膜层;
10、s203、在第三涂覆条件下,向所述第一高折膜层上涂覆第二低折材料,形成第二低折膜层;
11、s204、在第四涂覆条件下,向所述第二低折膜层上涂覆第二高折材料,形成第二高折膜层;
12、s205、在第五涂覆条件下,向所述第二高折膜层上涂覆第三低折材料,形成第三低折膜层。
13、可选地,步骤s201~s205的涂覆工艺为物理气相沉积或者化学物理气相沉积;优选为物理气相沉积;
14、优选地,步骤s201~s205的涂覆工艺包括:在同一真空腔室内,利用溅射工艺将所述低折材料或高折材料依次溅射到玻璃基板的粗化层表面成膜,得到所述减反增透膜层;
15、进一步优选地,所述第一涂覆条件包括:真空度为1.0~3.0×10-4pa,工作真空度为1.3~2.3×10-3pa,靶基距为20~30cm,工作功率为250~310w,ar气通入量为25~45sccm,n2通入流量为15~35sccm;优选地,真空度为1.5~2.5×10-4pa,工作真空度为1.55~2.05×10-3pa,靶基距为22.5~27.5cm,工作功率为265~295w,ar气通入量为30~40sccm,n2通入流量为20~30sccm;
16、所述第二涂覆条件包括:真空度为1.0~3.0×10-4pa,工作真空度为1.3~2.3×10-3pa,靶基距为20~30cm,工作功率为250~310w,ar气通入量为25~45sccm,n2通入流量为15~35sccm;优选地,真空度为1.5~2.5×10-4pa,工作真空度为1.55~2.05×10-3pa,靶基距为22.5~27.5cm,工作功率为265~295w,ar气通入量为30~40sccm,n2通入流量为20~30sccm;
17、所述第三涂覆条件包括:真空度为1.0~3.0×10-4pa,工作真空度为1.3~2.3×10-3pa,靶基距为20~30cm,工作功率为250~310w,ar气通入量为25~45sccm,n2通入流量为15~35sccm;优选地,真空度为1.5~2.5×10-4pa,工作真空度为1.55~2.05×10-3pa,靶基距为22.5~27.5cm,工作功率为265~295w,ar气通入量为30~40sccm,n2通入流量为20~30sccm;
18、所述第四涂覆条件包括:真空度为1.0~3.0×10-4pa,工作真空度为1.3~2.3×10-3pa,靶基距为20~30cm,工作功率为250~310w,ar气通入量为25~45sccm,n2通入流量为15~35sccm;优选地,真空度为1.5~2.5×10-4pa,工作真空度为1.55~2.05×10-3pa,靶基距为22.5~27.5cm,工作功率为265~295w,ar气通入量为30~40sccm,n2通入流量为20~30sccm;
19、所述第五涂覆条件包括:真空度为1.0~3.0×10-4pa,工作真空度为1.3~2.3×10-3pa,靶基距为20~30cm,工作功率为250~310w,ar气通入量为25~45sccm,n2通入流量为15~35sccm;优选地,真空度为1.5~2.5×10-4pa,工作真空度为1.55~2.05×10-3pa,靶基距为22.5~27.5cm,工作功率为265~295w,ar气通入量为30~40sccm,n2通入流量为20~30sccm;
20、可选地,在进行步骤s2之前,将步骤s1所得产物进行预热处理,优选地,预热至100~140℃,优选为110~130℃。
21、可选地,步骤s1中所述粗化处理包括:将所述玻璃基板的内表面喷涂抗酸油墨,然后将玻璃基板的外表面与蚀刻试剂接触以对外表面进行刻蚀处理;可选地,所述蚀刻试剂包括体积浓度为20~40体积%的硝酸和/或体积浓度为20~40体积%的硫酸;可选地,所述蚀刻试剂还包括氢氟酸和金属盐中的一种或几种以及任选的增稠剂;所述金属盐选自ceo2和/或la2o3;所述增稠剂包括环氧乙烷;或者
22、步骤s1中所述粗化处理包括:向所述玻璃基板的外表面喷涂涂层材料,以形成包含所述涂层材料的粗化层;
23、优选地,所述涂层材料包括含有氧化硅颗粒的聚丙烯酸酯。
24、可选地,步骤s1得到的外表面具有粗化层的玻璃基板的粗化层表面的粗糙度为0.5~1.5。
25、可选地,该方法还包括:
26、向所述玻璃基板的内表面涂覆油墨,在所述玻璃基板的内表面上形成黑色油墨层。
27、可选地,涂覆油墨的工艺包括:
28、采用喷涂工艺或者印刷工艺将所述油墨涂覆在所述玻璃基板的内表面;然后进行加热固化处理;可选地,所述加热固化处理为平板烘烤加热;
29、优选地,进行多次涂覆和加热固化处理,以形成多层黑色油墨层;
30、可选地,所述油墨的la*b*结果包括:l值为30以下,a*为-1至1范围内任意数值,b*为-1至1范围内任意数值。
31、本公开第二方面提供一种根据本公开第一方面所述的方法制备得到反射玻璃盖板。
32、本公开第三方面提供一种抗反射玻璃盖板,该抗反射玻璃盖板包括玻璃基板、粗化层和减反增透膜层;所述玻璃基板包括内表面和外表面;所述粗化层一体地形成于所述玻璃基板的外表面上;所述减反增透膜层覆于所述粗化层的表面;所述减反增透膜层包括沿所述玻璃基板厚度方向交替堆叠的低折膜层和高折膜层;所述粗化层的表面与所述低折膜层接触。
33、可选地,由所述粗化层的表面起,所述减反增透膜层沿所述玻璃基板的厚度方向依次包括第一低折膜层、第一高折膜层、第二低折膜层、第二高折膜层和第三低折膜层;
34、优选地,所述第一低折膜层、第二低折膜层和第三低折膜层的中低折膜材料各自独立地选自sio2、mgf2和tiox中的一种或几种,其中0<x<1.52中的一种或几种;所述第一高折膜层和第二高折膜层中的高折膜材料各自独立地选自si3n4、zro2、nb2o5、sion和ta2o5中的一种或几种;
35、优选地,所述减反增透膜层表面对于420~680nm波长范围内的光线的反射率为5%以下,优选为1%以下。
36、可选地,所述粗化层具有纹理结构;所述纹理结构的粗糙度为0.5~1.5;所述纹理结构的高度为10~40μm;
37、优选地,所述纹理结构具有多个凸部和多个凹部;其中任意两个所述凸部之间形成一个所述凹部;所述第一低折膜层与所述凹部直接接触。
38、可选地,所述玻璃基板的内表面覆有黑色油墨层;
39、所述玻璃基板的内表面覆有多层黑色油墨层,黑色油墨层的单层厚度为10~20μm;
40、所述玻璃基板的内表面的黑色油墨层总厚度为50~70μm;
41、可选地,所述黑色油墨层的油墨的la*b*结果包括:l值为30以下,a*为-1~1范围内任意数值,b*为-1~1范围内任意数值;
42、所述黑色油墨层的对于420~680nm波长范围内的光线的反射率为5%以下。
43、可选地,所述抗反射玻璃盖板整体的la*b*结果中:l值为15以下;所述抗反射玻璃盖板对于420~680nm波长范围内的光线的反射率为5%以下,优选为1%以下。
44、本公开第四方面提供本公开第二方面和第三方面所述的抗反射玻璃盖板在手机电池壳体中的用途。
45、通过上述技术方案,本公开提供了一种抗反射玻璃盖板及其制备方法和用途,其中,首先通过对玻璃表面进行粗化处理得到粗糙的粗化层表面,能够增加漫反射,减少人眼入射光线强度;然后在粗化层表面交替地形成低折膜层和高折膜层,通过“粗化层+减反增透膜层”的结构可以实现极致黑效果,成品的可见光波段平均反射率低;还能够满足在手机电池盖板应用中对于整机可靠性的要求;并且减反增透膜层作为介质膜,不含金属,还能够避免对天线、无线充、nfc等功能产生负向影响。
46、本公开的其他特征和优点将在随后的具体实施方式部分予以详细说明。
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