显示面板的制作方法

本申请属于显示，具体涉及显示面板。

背景技术：

1、应用于电子纸的反射式液晶显示面板通过液晶与反射层的搭配实现反射、出光。现有的反射层通常为银等贵重金属，价格昂贵，并且易于氧化失效。再者，像素电极通常制备于金属反射层上，如果对像素电极进行图形化会使得位于像素电极之下的金属反射层也随之被刻蚀、损耗，从而导致金属反射层的面积减小而反射率下降。如果不对像素电极进行图形化制备，则像素电极无法形成多畴结构，从而不便于采用光配向的方式对液晶进行垂直配向。

2、因此，亟需一种新的显示面板，在实现显示面板反射率大以用于显示的同时，像素电极层可以图形化为多畴结构。

技术实现思路

1、本申请的目的在于提供一种新的显示面板，在实现显示面板反射率大以用于显示的同时，像素电极层可以图形化为多畴结构。

2、为解决上述技术问题，本申请提供了显示面板，所述显示面板包括阵列基板，所述阵列基板包括第一基板、布拉格反射层和像素电极层，所述布拉格反射层覆盖于所述第一基板上，所述像素电极层设置在所述布拉格反射层上。

3、在一实施例中，所述布拉格反射层包括交替层叠设置的第一子层和第二子层，其中所述第二子层的折射率小于所述第一子层的折射率。

4、在一实施例中，所述阵列基板还包括阵列层和绝缘层，所述阵列层和所述绝缘层依次层叠于所述第一基板上，所述布拉格反射层设置于所述绝缘层之上。

5、所述绝缘层包括钝化层，所述钝化层复用为所述布拉格反射层的第三子层，所述第三子层与一所述第一子层贴合，所述第三子层的折射率小于所述第一子层的折射率。

6、在一实施例中，所述绝缘层还包括平坦层，所述平坦层设置在所述阵列层和所述钝化层之间，所述平坦层复用为所述布拉格反射层的第四子层，所述第四子层与所述第三子层贴合，所述第四子层的折射率大于所述第三子层的折射率。

7、在一实施例中，所述阵列基板还包括阵列层、绝缘层和金属反射层，所述阵列层、所述绝缘层和所述金属反射层依次层叠于所述第一基板上，所述布拉格反射层设置于所述金属反射层之上。

8、所述绝缘层上开设有过孔，所述金属反射层通过所述过孔与所述阵列层中的驱动器件连接，所述像素电极层在所述过孔中与所述金属反射层连接。

9、在一实施例中，所述阵列基板包括阵列层和钝化层，所述阵列层设置在所述第一基板上，所述布拉格反射层和所述像素电极层依次设置在所述阵列层上，所述布拉格反射层复用为所述钝化层。

10、在一实施例中，所述像素电极层复用为所述布拉格反射层的像素电极层，所述像素电极层与一所述第二子层贴合，所述像素电极层的折射率大于所述第二子层的折射率。

11、在一实施例中，所述第一子层的数量为2～4层，所述第二子层的数量为2～4层。

12、所述第一子层为氮氧化硅层，所述第二子层为二氧化硅层；或者，所述第一子层为二氧化钛层，所述第二子层为二氧化硅层。

13、在一实施例中，所述显示面板还包括液晶层和对向基板，所述阵列基板与所述对向基板相对设置，所述液晶层设置在所述阵列基板与所述对向基板之间。

14、所述液晶层包括液晶分子和二色性染料分子，其中所述液晶分子具有预倾角，所述预倾角为所述液晶分子的长度方向与所述像素电极层所处平面夹角，所述预倾角的大小为80～89度。

15、在一实施例中，所述对向基板包括第二基板和设置在所述第二基板靠近所述阵列基板的一侧的色阻层，所述色阻层开设有透光孔。

16、本申请实施例所提供的显示面板包括阵列基板，阵列基板包括第一基板、布拉格反射层和像素电极层，布拉格反射层覆盖于第一基板上，像素电极层设置在布拉格反射层上。布拉格反射层可以大面积设置在所述第一基板上，从而保证显示面板的反射率。设置在布拉格反射层上的像素电极层可以进行图形化，并且图形化对布拉格反射层的影响较小，从而保证布拉格反射层的反射面积和反射率。

技术特征：

1.一种显示面板，其特征在于，所述显示面板包括阵列基板，所述阵列基板包括第一基板、布拉格反射层和像素电极层，所述布拉格反射层覆盖于所述第一基板上，所述像素电极层设置在所述布拉格反射层上。

2.根据权利要求1所述的显示面板，其特征在于，所述布拉格反射层包括交替层叠设置的第一子层和第二子层，其中所述第二子层的折射率小于所述第一子层的折射率。

3.根据权利要求2所述的显示面板，其特征在于，所述阵列基板还包括阵列层和绝缘层，所述阵列层和所述绝缘层依次层叠于所述第一基板上，所述布拉格反射层设置于所述绝缘层之上；

4.根据权利要求3所述的显示面板，其特征在于，所述绝缘层还包括平坦层，所述平坦层设置在所述阵列层和所述钝化层之间，所述平坦层复用为所述布拉格反射层的第四子层，所述第四子层与所述第三子层贴合，所述第四子层的折射率大于所述第三子层的折射率。

5.根据权利要求2所述的显示面板，其特征在于，所述阵列基板还包括阵列层、绝缘层和金属反射层，所述阵列层、所述绝缘层和所述金属反射层依次层叠于所述第一基板上，所述布拉格反射层设置于所述金属反射层之上；

6.根据权利要求2所述的显示面板，其特征在于，所述阵列基板包括阵列层和钝化层，所述阵列层设置在所述第一基板上，所述布拉格反射层和所述像素电极层依次设置在所述阵列层上，所述布拉格反射层复用为所述钝化层。

7.根据权利要求2～6任一所述的显示面板，其特征在于，所述像素电极层复用为所述布拉格反射层的另一子层，所述像素电极层与一所述第二子层贴合，所述像素电极层的折射率大于所述第二子层的折射率。

8.根据权利要求2～6任一所述的显示面板，其特征在于，所述第一子层的数量为2～4层，所述第二子层的数量为2～4层；

9.根据权利要求1所述的显示面板，其特征在于，所述显示面板还包括液晶层和对向基板，所述阵列基板与所述对向基板相对设置，所述液晶层设置在所述阵列基板与所述对向基板之间；

10.根据权利要求9所述的显示面板，其特征在于，所述对向基板包括第二基板和设置在所述第二基板靠近所述阵列基板的一侧的色阻层，所述色阻层开设有透光孔。

技术总结本申请公开了显示面板包括阵列基板，阵列基板包括第一基板、布拉格反射层和像素电极层，布拉格反射层覆盖于第一基板上，像素电极层设置在布拉格反射层上。布拉格反射层可以大面积设置在所述第一基板上，从而保证显示面板的反射率。设置在布拉格反射层上的像素电极层可以进行图形化，并且图形化对布拉格反射层的影响较小，从而保证布拉格反射层的反射面积和反射率。技术研发人员：赵永超受保护的技术使用者：TCL华星光电技术有限公司技术研发日：20231205技术公布日：2024/7/11