一种基于MEMS方法的激光雷达硅基板刻蚀处理装置与流程

一种基于mems方法的激光雷达硅基板刻蚀处理装置技术领域1.本发明涉及一种雷达领域，尤其涉及一种基于mems方法的激光雷达硅基板刻蚀处理装置。背景技术：2.雷达是一个采用无线电波来确定物体的范围、角度或速度的探测系统。它可以用来检测飞机，船只，宇宙飞船，制导导弹，汽车，天气形成，地带。雷达系统包括在微波领域产生电磁波的发射机，接收天线(通常使用相同的天线进行发送和接收)和接收器和处理器以确定对象的属性。来自发射器的无线电波通过物体反射并返回接收器，给出关于物体位置和速度的信息。3.激光雷达由发射系统、接收系统、扫描系统等部分组成，也就是说，激光雷达通过发射激光束探测目标物体的位置、速度等特征量。随着激光雷达的发展，将微机电系统振镜应用于雷达激光中，研发固态激光雷达成为近年来激光雷达的发展趋势，但是传统的激光雷达由于mems振镜比较容易发生损坏，导致整个激光雷达寿命较短，其中mems振镜中最容易损坏的则为硅基板上的驱动线圈，因此提出一种基于mems工艺的驱动线圈的生产方法，该方法采用刻蚀的方法在硅基板上形成一个凹槽，然后通过填充的办法，将驱动线圈填入，但是该过程容易对硅基板其它不需要刻蚀的部位造成损伤，从而导致后期的雷达振镜不达标，若该振镜运用于军事等方面，会对国家安全造成极大隐患，同时，刻蚀方法会产生大量的废水和残渣，如果不清理干净，严重影响驱动线圈的填充，导致该雷达振镜的使用准度降低，而且降低了该雷达的使用寿命。4.因此，急需一种能够有效对硅基板进行刻蚀，刻蚀时不会损伤硅基板其它部位，并且能够有效的将废液和残渣进行清理收集，达到保护环境，且使得后期驱动线圈的填入不存在问题，从而提高雷达使用寿命的装置来解决上述问题。技术实现要素：5.为了克服刻蚀过程中容易对硅基板其它不需要刻蚀的部位造成损伤，从而导致后期的雷达振镜不达标，若该振镜运用于军事等方面，会对国家安全造成极大隐患，同时，刻蚀方法会产生大量的废水和残渣，如果不妥善处理，不仅严重污染环境，而且严重影响驱动线圈的填充，导致该雷达振镜的使用准度降低，而且降低了该雷达的使用寿命的缺点，技术问题：提供一种基于mems方法的激光雷达硅基板刻蚀处理装置。6.本发明的技术方案是：一种基于mems方法的激光雷达硅基板刻蚀处理装置，包括有废水清理和保护机构、废渣积聚机构、废渣处理机构、模拟硅基板架、模拟反射镜、废水收集框、去离子水存放处、刻蚀液存放处、固定板、控制器和固定架；废水清理和保护机构与废渣积聚机构相连接；废水清理和保护机构与废渣处理机构相连接；废水清理和保护机构与去离子水存放处相连接；废水清理和保护机构与刻蚀液存放处相连接；废水清理和保护机构与固定架相连接；废渣积聚机构与模拟硅基板架相连接；废渣积聚机构与固定板相连接；废渣积聚机构与固定架相连接；废渣处理机构与固定架相连接；模拟硅基板架与模拟反射镜相连接；模拟硅基板架与固定板相连接；去离子水存放处与刻蚀液存放处相连接；固定架与控制器相连接。7.可选地，废水清理和保护机构包有电机、第一传动轴、第一传动轮、第二传动轮、第一锥齿轮、第一滑套、第二锥齿轮、第三锥齿轮、第一u形连接板、第一电动推杆、第四锥齿轮、第二传动轴、第一连接柱、固定框、第一竖板、第一电动滑块、导流架、防护器、废渣收集框、输送管、第二竖板、第三竖板和固定杆；电机与固定架进行固接；电机通过输出轴与第一传动轴进行固接；第一传动轴与固定架进行转动连接；第一传动轴与第一传动轮进行固接；第一传动轴与第一锥齿轮进行固接；第一传动轴与第二锥齿轮相连接；第一传动轮外环面通过皮带与第二传动轮进行传动连接；第二传动轮与废渣处理机构进行固接；第一锥齿轮与废渣积聚机构进行啮合；第一滑套同时与第二锥齿轮和第三锥齿轮进行固接；第一滑套与第一u形连接板进行转动连接；第一u形连接板与第一电动推杆进行固接；第一电动推杆与固定架进行固接；第二锥齿轮和第三锥齿轮之间设置有第四锥齿轮；第四锥齿轮与第二传动轴进行固接；第二传动轴与第一连接柱进行转动连接；第二传动轴与固定框进行固接；第二传动轴与第二竖板进行转动连接；第一连接柱与第三竖板进行固接；固定框上方放置有模拟硅基板架；固定框下方与固定板进行固接；固定框同时与两组第一竖板进行固接；固定框同时与两组固定杆进行固接；第一竖板与第一电动滑块进行固接；第一电动滑块与导流架进行固接；导流架与防护器进行固接；导流架同时与多组输送管进行固接；防护器两侧分别与两组废渣收集框进行固接；防护器上方设置有去离子水存放处和刻蚀液存放处；第一电动滑块在导流架两侧均设置有一组；多组输送管均与去离子水存放处进行固接；多组输送管均与刻蚀液存放处进行固接；第二竖板与固定架进行固接；第二竖板通过小滑块同时与两组固定杆一端进行滑动连接；第三竖板通过小滑块同时与两组固定杆一端进行滑动连接；第二竖板和第三竖板均与废渣积聚机构相连接。8.可选地，废渣积聚机构包括有第五锥齿轮、第三传动轴、第三传动轮、第四传动轮、第四传动轴、第一平齿轮、第二平齿轮、第五传动轴、f形连接板、第二滑套、第三平齿轮、第一连接板、第二电动推杆、第四平齿轮、第六传动轴、限位板、h形滑块、第二连接柱、第二连接板、u形滑块、滑板、第二电动滑块、u形电动滑块、第三电动滑块、第三连接柱、第一废渣刮除板、废渣积聚和收集器、第二废渣刮除板、第四连接柱、第一圆辊、第一清理板、第五连接柱、第二圆辊、第二清理板和限位器；第五锥齿轮与第一锥齿轮进行啮合；第五锥齿轮与第三传动轴进行固接；第三传动轴与固定架进行转动连接；第三传动轴与第三传动轮进行固接；第三传动轮外环面通过皮带与第四传动轮进行传动连接；第四传动轮与第四传动轴进行固接；第四传动轴与固定架进行转动连接；第四传动轴与第一平齿轮进行固接；第一平齿轮侧上方设置有第二平齿轮；第二平齿轮与第五传动轴进行固接；第五传动轴与f形连接板进行转动连接；第五传动轴与第二滑套相连接；f形连接板与第二电动推杆进行固接；f形连接板与第二电动滑块进行固接；第二滑套与第三平齿轮进行固接；第二滑套与第一连接板进行转动连接；第一连接板与第二电动推杆进行固接；第三平齿轮侧面设置有第四平齿轮；第四平齿轮与第六传动轴进行固接；第六传动轴与限位板进行固接；第六传动轴与第二电动滑块进行转动连接；限位板与h形滑块进行滑动连接；h形滑块与第二连接柱进行固接；第二连接柱与第二连接板进行固接；第二连接柱同时与两组u形电动滑块进行滑动连接；第二连接柱与限位器相接触；第二连接板与u形滑块进行固接；u形滑块与滑板进行滑动连接；滑板与第二电动滑块进行固接；第二电动滑块同时与第二竖板和第三竖板进行滑动连接；第二电动滑块与限位器进行固接；u形电动滑块与第三电动滑块进行滑动连接；第三电动滑块与第三连接柱进行固接；第三连接柱与废渣积聚和收集器进行固接；废渣积聚和收集器同时与第一废渣刮除板和第二废渣刮除板进行固接；第一废渣刮除板两侧同时与两组第四连接柱进行固接；第一废渣刮除板同时与两组第一清理板进行固接；两组第四连接柱上均分别与两组第一圆辊进行转动连接；两组第一圆辊分别与两组第一清理板相接触；第二废渣刮除板与第五连接柱进行固接；第二废渣刮除板与第二清理板进行固接；第五连接柱与第二圆辊进行转动连接。9.可选地，废渣处理机构包括有第三电动推杆、第二u形连接板、第七传动轴、第一齿盘、清理器、第二齿盘、第五平齿轮和第八传动轴；第三电动推杆与固定架进行固接；第三电动推杆与第二u形连接板进行固接；第二u形连接板下方两侧均设置有一组第三电动推杆；第二u形连接板同时与两组第七传动轴进行转动连接；第七传动轴与第一齿盘进行固接；第七传动轴通过连接块与清理器进行固接；第一齿盘与第二齿盘进行啮合；第二齿盘与另一组第七传动轴进行固接；两组第七传动轴上均设置有一组清理器；第二齿盘侧面设置有第五平齿轮；第五平齿轮与第八传动轴进行固接；第八传动轴与固定架进行转动连接；第八传动轴与第一传动轮进行固接。10.可选地，导流架上设置有多组导流槽，且导流架靠近防护器一端高于另一端。11.可选地，多组输送管中分别在去离子水存放处和刻蚀液存放处均设置有一组阀门。12.可选地，第一废渣刮除板和第二废渣刮除板均设置为空心。13.可选地，清理器的设置为v形。14.本发明的有益效果是：1、为了克服刻蚀过程中容易对硅基板其它不需要刻蚀的部位造成损伤，从而导致后期的雷达振镜不达标，若该振镜运用于军事等方面，会对国家安全造成极大隐患，同时，刻蚀方法会产生大量的废水和残渣，如果不妥善处理，不仅严重污染环境，而且严重影响驱动线圈的填充，导致该雷达振镜的使用准度降低，而且降低了该雷达的使用寿命的缺点。15.2、本发明由于设计了废水清理和保护机构、废渣积聚机构和废渣处理机构：开始工作前，通过固定架先将装置固定平稳，模拟硅基板架上连接有模拟反射镜，现在需要在模拟硅基板架两一侧刻蚀一个与模拟反射镜形状一致的凹槽，从而使得驱动线圈能够填入该凹槽中，从而形成雷达旋转镜，然后外接电源，通过控制器启动装置，然后人分工将模拟硅基板架和模拟反射镜放置在废水清理和保护机构上，使得模拟硅基板架与固定板接触，然后废水清理和保护机构先将模拟硅基板架需要刻蚀的地方进行围起，从而达到保护模拟硅基板架其它部位的效果，然后刻蚀液存放处通过废水清理和保护机构将刻蚀液添加到需要刻蚀的部位，静置一定时间，直至刻蚀液将模拟硅基板架需要刻蚀部位刻蚀出一定的凹槽，此时凹槽还未完全刻蚀完成，而刻蚀液在使用过后浓度降低，刻蚀效果变差，因此废水清理和保护机构使得模拟硅基板架倾斜一定角度，使得模拟硅基板架上的刻蚀液从刻蚀部位流走，然后刻蚀液存放处通过废水清理和保护机构再次将一定量的刻蚀液添加到模拟硅基板架刻蚀部位，然后再次静置一定时间，直至刻蚀完成，然后废水清理和保护机构再次使得模拟硅基板架倾斜，从而将刻蚀液从模拟硅基板架上排除，然后去离子水存放处通过废水清理和保护机构将一定量的去离子水添加到刻蚀部位，同时废水清理和保护机构使得模拟硅基板架不断左右往复倾斜一定角度，从而将刻蚀液和部分刻蚀的残渣进行排除，然后废水清理和保护机构使得模拟硅基板架倾斜一个较大的角度，确保模拟硅基板架上的废液全部排除，然后在废水清理和保护机构和废渣积聚机构一同工作下，废渣积聚机构将模拟硅基板架刻蚀部位残留的少量刻蚀残渣进行积聚，使得残渣分别转移至刻蚀部位的两端，然后通过废渣处理机构将积聚的残渣进行清理，最后通过人工将模拟硅基板架和模拟反射镜取走。16.3、本发明实现了能够有效对硅基板进行刻蚀，刻蚀时不会损伤硅基板其它部位，并且能够有效的将废液和残渣进行清理收集，达到保护环境，且使得后期驱动线圈的填入不存在问题，从而提高雷达使用寿命，并且确保了雷达准度的效果。附图说明17.图1为本发明的第一种立体结构示意图；图2为本发明的第二种立体结构示意图；图3为本发明的第三种立体结构示意图；图4为本发明的废水清理机构第一种立体结构示意图；图5为本发明的废水清理机构第二种立体结构示意图；图6为本发明的废水清理机构部分立体结构示意图；图7为本发明的废渣清理机构立体结构示意图；图8为本发明的废渣清理机构第一种部分立体结构示意图；图9为本发明的废渣清理机构第二种部分立体结构示意图；图10为本发明的废渣清理机构第三种部分立体结构示意图；图11为本发明的废渣二次处理机构立体结构示意图；图12为本发明的废渣二次处理机构部分立体结构示意图。18.附图中的标记：1：废水清理和保护机构，2：废渣积聚机构，3：废渣处理机构，4：模拟硅基板架，5：模拟反射镜，6：废水收集框，7：去离子水存放处，8：刻蚀液存放处，9：固定板，10：控制器，11：固定架，101：电机，102：第一传动轴，103：第一传动轮，104：第二传动轮，105：第一锥齿轮，106：第一滑套，107：第二锥齿轮，108：第三锥齿轮，109：第一u形连接板，1010：第一电动推杆，1011：第四锥齿轮，1012：第二传动轴，1013：第一连接柱，1014：固定框，1015：第一竖板，1016：第一电动滑块，1017：导流架，1018：防护器，1019：废渣收集框，1020：输送管，1021：第二竖板，1022：第三竖板，1023：固定杆，201：第五锥齿轮，202：第三传动轴，203：第三传动轮，204：第四传动轮，205：第四传动轴，206：第一平齿轮，207：第二平齿轮，208：第五传动轴，209：f形连接板，2010：第二滑套，2011：第三平齿轮，2012：第一连接板，2013：第二电动推杆，2014：第四平齿轮，2015：第六传动轴，2016：限位板，2017：h形滑块，2018：第二连接柱，2019：第二连接板，2020：u形滑块，2021：滑板，2022：第二电动滑块，2023：u形电动滑块，2024：第三电动滑块，2025：第三连接柱，2026：第一废渣刮除板，2027：废渣积聚和收集器，2028：第二废渣刮除板，2029：第四连接柱，2030：第一圆辊，2031：第一清理板，2032：第五连接柱，2033：第二圆辊，2034：第二清理板，2035：限位器，301：第三电动推杆，302：第二u形连接板，303：第七传动轴，304：第一齿盘，305：清理器，306：第二齿盘，307：第五平齿轮，308：第八传动轴。具体实施方式19.以下参照附图对本发明的实施方式进行说明。20.实施例1一种基于mems方法的激光雷达硅基板刻蚀处理装置，如图1‑12所示，包括有废水清理和保护机构1、废渣积聚机构2、废渣处理机构3、模拟硅基板架4、模拟反射镜5、废水收集框6、去离子水存放处7、刻蚀液存放处8、固定板9、控制器10和固定架11；废水清理和保护机构1与废渣积聚机构2相连接；废水清理和保护机构1与废渣处理机构3相连接；废水清理和保护机构1与去离子水存放处7相连接；废水清理和保护机构1与刻蚀液存放处8相连接；废水清理和保护机构1与固定架11相连接；废渣积聚机构2与模拟硅基板架4相连接；废渣积聚机构2与固定板9相连接；废渣积聚机构2与固定架11相连接；废渣处理机构3与固定架11相连接；模拟硅基板架4与模拟反射镜5相连接；模拟硅基板架4与固定板9相连接；去离子水存放处7与刻蚀液存放处8相连接；固定架11与控制器10相连接。21.工作原理：开始工作前，通过固定架11先将装置固定平稳，模拟硅基板架4上连接有模拟反射镜5，现在需要在模拟硅基板架4两一侧刻蚀一个与模拟反射镜5形状一致的凹槽，从而使得驱动线圈能够填入该凹槽中，从而形成雷达旋转镜，然后外接电源，通过控制器10启动装置，然后人分工将模拟硅基板架4和模拟反射镜5放置在废水清理和保护机构1上，使得模拟硅基板架4与固定板9接触，然后废水清理和保护机构1先将模拟硅基板架4需要刻蚀的地方进行围起，从而达到保护模拟硅基板架4其它部位的效果，然后刻蚀液存放处8通过废水清理和保护机构1将刻蚀液添加到需要刻蚀的部位，静置一定时间，直至刻蚀液将模拟硅基板架4需要刻蚀部位刻蚀出一定的凹槽，此时凹槽还未完全刻蚀完成，而刻蚀液在使用过后浓度降低，刻蚀效果变差，因此废水清理和保护机构1使得模拟硅基板架4倾斜一定角度，使得模拟硅基板架4上的刻蚀液从刻蚀部位流走，然后刻蚀液存放处8通过废水清理和保护机构1再次将一定量的刻蚀液添加到模拟硅基板架4刻蚀部位，然后再次静置一定时间，直至刻蚀完成，然后废水清理和保护机构1再次使得模拟硅基板架4倾斜，从而将刻蚀液从模拟硅基板架4上排除，然后去离子水存放处7通过废水清理和保护机构1将一定量的去离子水添加到刻蚀部位，同时废水清理和保护机构1使得模拟硅基板架4不断左右往复倾斜一定角度，从而将刻蚀液和部分刻蚀的残渣进行排除，然后废水清理和保护机构1使得模拟硅基板架4倾斜一个较大的角度，确保模拟硅基板架4上的废液全部排除，然后在废水清理和保护机构1和废渣积聚机构2一同工作下，废渣积聚机构2将模拟硅基板架4刻蚀部位残留的少量刻蚀残渣进行积聚，使得残渣分别转移至刻蚀部位的两端，然后通过废渣处理机构3将积聚的残渣进行清理，最后通过人工将模拟硅基板架4和模拟反射镜5取走；本发明实现了能够有效对硅基板进行刻蚀，刻蚀时不会损伤硅基板其它部位，并且能够有效的将废液和残渣进行清理收集，达到保护环境，且使得后期驱动线圈的填入不存在问题，从而提高雷达使用寿命，并且确保了雷达准度的效果。22.废水清理和保护机构1包有电机101、第一传动轴102、第一传动轮103、第二传动轮104、第一锥齿轮105、第一滑套106、第二锥齿轮107、第三锥齿轮108、第一u形连接板109、第一电动推杆1010、第四锥齿轮1011、第二传动轴1012、第一连接柱1013、固定框1014、第一竖板1015、第一电动滑块1016、导流架1017、防护器1018、废渣收集框1019、输送管1020、第二竖板1021、第三竖板1022和固定杆1023；电机101与固定架11进行固接；电机101通过输出轴与第一传动轴102进行固接；第一传动轴102与固定架11进行转动连接；第一传动轴102与第一传动轮103进行固接；第一传动轴102与第一锥齿轮105进行固接；第一传动轴102与第二锥齿轮107相连接；第一传动轮103外环面通过皮带与第二传动轮104进行传动连接；第二传动轮104与废渣处理机构3进行固接；第一锥齿轮105与废渣积聚机构2进行啮合；第一滑套106同时与第二锥齿轮107和第三锥齿轮108进行固接；第一滑套106与第一u形连接板109进行转动连接；第一u形连接板109与第一电动推杆1010进行固接；第一电动推杆1010与固定架11进行固接；第二锥齿轮107和第三锥齿轮108之间设置有第四锥齿轮1011；第四锥齿轮1011与第二传动轴1012进行固接；第二传动轴1012与第一连接柱1013进行转动连接；第二传动轴1012与固定框1014进行固接；第二传动轴1012与第二竖板1021进行转动连接；第一连接柱1013与第三竖板1022进行固接；固定框1014上方放置有模拟硅基板架4；固定框1014下方与固定板9进行固接；固定框1014同时与两组第一竖板1015进行固接；固定框1014同时与两组固定杆1023进行固接；第一竖板1015与第一电动滑块1016进行固接；第一电动滑块1016与导流架1017进行固接；导流架1017与防护器1018进行固接；导流架1017同时与多组输送管1020进行固接；防护器1018两侧分别与两组废渣收集框1019进行固接；防护器1018上方设置有去离子水存放处7和刻蚀液存放处8；第一电动滑块1016在导流架1017两侧均设置有一组；多组输送管1020均与去离子水存放处7进行固接；多组输送管1020均与刻蚀液存放处8进行固接；第二竖板1021与固定架11进行固接；第二竖板1021通过小滑块同时与两组固定杆1023一端进行滑动连接；第三竖板1022通过小滑块同时与两组固定杆1023一端进行滑动连接；第二竖板1021和第三竖板1022均与废渣积聚机构2相连接。23.开始工作前，人分工将模拟硅基板架4和模拟反射镜5放置在固定框1014中，且模拟硅基板架4与固定板9接触，从而确保模拟硅基板架4和模拟反射镜5固定在固定框1014中，然后两组第一电动滑块1016带动导流架1017至输送管1020、去离子水存放处7和刻蚀液存放处8在两组第一竖板1015上向下滑动，直至防护器1018底部与模拟硅基板架4上表面接触，从而通过防护器1018将模拟硅基板架4需要刻蚀的地方进行围起，从而达到保护模拟硅基板架4其它部位的效果，然后刻蚀液存放处8的泵机开始工作，同时多组输送管1020与刻蚀液存放处8的阀门打开，然后刻蚀液存放处8的泵机通过多组输送管1020将刻蚀液添加到防护器1018与，模拟硅基板架4形成的空间，然后静置一定时间，直至刻蚀液将模拟硅基板架4需要刻蚀部位刻蚀出一定的凹槽，此时凹槽还未完全刻蚀完成，刻蚀液浓度下降需要更换，然后电机101开始工作，电机101带动第一传动轴102转动，然后第一电动推杆1010带动第一u形连接板109向靠近电机101运动，即带动第二锥齿轮107和第三锥齿轮108向靠近电机101运动，使得第三锥齿轮108与第四锥齿轮1011啮合，然后第一传动轴102通过第一滑套106传动第三锥齿轮108，第三锥齿轮108带动第四锥齿轮1011转动，第四锥齿轮1011带动第二传动轴1012转动，第二传动轴1012从而绕着第一连接柱1013中心转动一定角度，即通过第二传动轴1012带动固定框1014至输送管1020、固定杆1023、模拟硅基板架4、模拟反射镜5、去离子水存放处7、刻蚀液存放处8和固定板9向靠近废水收集框6转动一定角度，从而使得防护器1018与模拟硅基板架4之间的废液通过防护器1018下方设置的开口流至导流架1017上，然后通过导流架1017流入到废水收集框6中，两组固定杆1023通过小滑块第二竖板1021和第三竖板1022上滑动，从而达到转动时也能保持稳定，然后第一电动推杆1010带动第一u形连接板109向远离电机101运动，即带动第二锥齿轮107和第三锥齿轮108向远离电机101运动，直至第二锥齿轮107与第四锥齿轮1011啮合，通过第二锥齿轮107使得第四锥齿轮1011转动与初次转动相同的角度，但是方向相反，从而使得模拟硅基板架4和相关部件恢复水平状态，然后刻蚀液存放处8中的泵机再次将一定量的刻蚀液通过多组输送管1020台添加至模拟硅基板和防护器1018形成的空间中，然后静置一定时间，使得模拟硅基板需要刻蚀部位完全刻蚀好，然后第一电动推杆1010再次使得第三锥齿轮108与第四锥齿轮1011啮合，再次重复第一次排除废液的工作，当废液基本排处后，去离子水存放处7中的泵机开始工作，同时多组输送管1020与刻蚀液存放处8的阀门关闭，并且打开与去离子水存放处7的阀门，然后去离子水存放处7中的泵机将去离子水通过多组输送管1020输送至模拟硅基板和防护器1018形成的空间，从而达到清洗刻蚀部位的作用，与此同时，第一电动推杆1010不断使得第二锥齿轮107和第三锥齿轮108啮合，从而使得模拟硅基板架4在一定角度下的不断往复运动，从而使得去离子水能够将刻蚀部位残留的刻蚀液和大量刻蚀残渣进行清理，并且使得废液和刻蚀残渣通过防护器1018下方设置的开口通过流至导流架1017上，进而通过导流架1017流至废水收集框6中，然后第一电动推杆1010使得第三锥齿轮108与第四锥齿轮1011啮合，并且通过第三锥齿轮108带动第四锥齿轮1011转动一个较大的角度，从而使得模拟硅基板架4和防护器1018之间的废液完全通过防护器1018下方设置的开口排出，然后第一电动推杆1010使得第二锥齿轮107与第四锥齿轮1011啮合，从而使得模拟硅基板架4和相关部件恢复水平状态，然后在废渣积聚机构2和废渣处理机构3的工作下，使得残渣通过防护器1018上方两侧设置的开口掉落到两组废渣收集框1019中；该机构完成了对模拟硅基板架4需要刻蚀部位进行刻蚀，有效防止模拟硅基板架4其它部位被损伤，而且将刻蚀后的废液和大部分残渣进行清理的工作。24.废渣积聚机构2包括有第五锥齿轮201、第三传动轴202、第三传动轮203、第四传动轮204、第四传动轴205、第一平齿轮206、第二平齿轮207、第五传动轴208、f形连接板209、第二滑套2010、第三平齿轮2011、第一连接板2012、第二电动推杆2013、第四平齿轮2014、第六传动轴2015、限位板2016、h形滑块2017、第二连接柱2018、第二连接板2019、u形滑块2020、滑板2021、第二电动滑块2022、u形电动滑块2023、第三电动滑块2024、第三连接柱2025、第一废渣刮除板2026、废渣积聚和收集器2027、第二废渣刮除板2028、第四连接柱2029、第一圆辊2030、第一清理板2031、第五连接柱2032、第二圆辊2033、第二清理板2034和限位器2035；第五锥齿轮201与第一锥齿轮105进行啮合；第五锥齿轮201与第三传动轴202进行固接；第三传动轴202与固定架11进行转动连接；第三传动轴202与第三传动轮203进行固接；第三传动轮203外环面通过皮带与第四传动轮204进行传动连接；第四传动轮204与第四传动轴205进行固接；第四传动轴205与固定架11进行转动连接；第四传动轴205与第一平齿轮206进行固接；第一平齿轮206侧上方设置有第二平齿轮207；第二平齿轮207与第五传动轴208进行固接；第五传动轴208与f形连接板209进行转动连接；第五传动轴208与第二滑套2010相连接；f形连接板209与第二电动推杆2013进行固接；f形连接板209与第二电动滑块2022进行固接；第二滑套2010与第三平齿轮2011进行固接；第二滑套2010与第一连接板2012进行转动连接；第一连接板2012与第二电动推杆2013进行固接；第三平齿轮2011侧面设置有第四平齿轮2014；第四平齿轮2014与第六传动轴2015进行固接；第六传动轴2015与限位板2016进行固接；第六传动轴2015与第二电动滑块2022进行转动连接；限位板2016与h形滑块2017进行滑动连接；h形滑块2017与第二连接柱2018进行固接；第二连接柱2018与第二连接板2019进行固接；第二连接柱2018同时与两组u形电动滑块2023进行滑动连接；第二连接柱2018与限位器2035相接触；第二连接板2019与u形滑块2020进行固接；u形滑块2020与滑板2021进行滑动连接；滑板2021与第二电动滑块2022进行固接；第二电动滑块2022同时与第二竖板1021和第三竖板1022进行滑动连接；第二电动滑块2022与限位器2035进行固接；u形电动滑块2023与第三电动滑块2024进行滑动连接；第三电动滑块2024与第三连接柱2025进行固接；第三连接柱2025与废渣积聚和收集器2027进行固接；废渣积聚和收集器2027同时与第一废渣刮除板2026和第二废渣刮除板2028进行固接；第一废渣刮除板2026两侧同时与两组第四连接柱2029进行固接；第一废渣刮除板2026同时与两组第一清理板2031进行固接；两组第四连接柱2029上均分别与两组第一圆辊2030进行转动连接；两组第一圆辊2030分别与两组第一清理板2031相接触；第二废渣刮除板2028与第五连接柱2032进行固接；第二废渣刮除板2028与第二清理板2034进行固接；第五连接柱2032与第二圆辊2033进行转动连接。25.当模拟硅基板架4和防护器1018之间部位刻蚀完成，废液和大部分残渣均清理完成，且模拟硅基板架4和相关部件均恢复水平状态后，第二电动滑块2022带动第二平齿轮207等相关部件向下运动，直至第二平齿轮207与第一平齿轮206啮合，然后第三电动滑块2024带动第三连接柱2025和相关部件在u形电动滑块2023上向靠近第二连接柱2018滑动，直至废渣积聚和收集器2027运动至防护器1018的中间位置，然后u形电动滑块2023带动废渣积聚和收集器2027和相关部件向下运动，直至废渣积聚和收集器2027底部与模拟硅基板架4刻蚀后的表面接触，同时，第一废渣刮除板2026和第二废渣刮除板2028分别与防护器1018两个侧面接触，然后第二电动推杆2013带动第一连接板2012向下运动，即带动第二滑套2010和第三平齿轮2011向下运动，使得第三平齿轮2011与第四平齿轮2014啮合，然后电机101开始工作，电机101带动第一传动轴102转动，第一传动轴102通过第一锥齿轮105传动第五锥齿轮201，第五锥齿轮201通过第三传动轴202传动第三传动轮203，第三传动轮203通过第四传动轮204传动第四传动轴205，第四传动轴205通过第一平齿轮206传动第二平齿轮207，第二平齿轮207通过第五传动轴208传动第二滑套2010，第二滑套2010通过第三平齿轮2011传动第四平齿轮2014，第四平齿轮2014带动限位板2016转动，从而使得h形滑块2017在限位板2016上向靠近第六传动轴2015滑动的同时，也带动第二连接柱2018和第二连接板2019在限位器2035中向靠近限位器2035一端运动，即使得第二连接板2019带动u形滑块2020在滑板2021上向靠近滑板2021另一端运动，从而使得第二连接柱2018和其下方相关部件能够沿着限位器2035的造型从中间位置向靠近其一端做弧形运动，即使得当第二连接柱2018运动至限位器2035直线运动部位时第一废渣刮除板2026、废渣积聚和收集器2027和第二废渣刮除板2028及相关部件沿着模拟硅基板架4刻蚀部位运动，从而通过第一废渣刮除板2026和第二废渣刮除板2028将模拟硅基板架4刻蚀部位和防护器1018两个侧面残留的少量残渣进行刮除，并且使其向模拟硅基板架4刻蚀部位一端积聚，当第二连接柱2018运动至限位器2035直线运动位置后，第一废渣刮除板2026中的两组第一圆辊2030刚好分别与模拟硅基板架4刻蚀区直线部位两侧接触，第二圆辊2033刚好与模拟硅基板架4刻蚀区弧线部位的一端接触，然后第四平齿轮2014继续转动，从而使得限位板2016在限位器2035中做直线运动，即通过第二连接板2019带动u形滑块2020在滑板2021上做直线运动，然后两组第一圆辊2030做直线运动时，两组第一圆辊2030通过模拟硅基板架4的压力以及自身的运动下，两组第一圆辊2030分别绕着两组第四连接柱2029的圆心转动，同时两组第一圆辊2030将模拟硅基板架4刻蚀区直线部位的残渣进行清理，大部分被积聚至模拟硅基板架4刻蚀区直线部位一端，而少部分粘附在两组第一圆辊2030上，当两组第一圆辊2030分别绕着两组第四连接柱2029的轴心转动的同时，两组第一圆辊2030表面也不断与第一清理板2031接触，两组第一清理板2031则将两组第一圆辊2030表面粘附的少量残渣进行刮除，并且使其掉落到废渣积聚和收集器2027中，与此同时，当第二圆辊2033做直线运动时，在模拟硅基板架4的压力以及自身的运动下，第二圆辊2033绕着第五连接柱2032轴心转动，从而通过第二圆辊2033将模拟硅基板架4刻蚀区直线另一部位的残渣进行清理，大部分被积聚至模拟硅基板架4刻蚀区直线部位一端，而少部分粘附在第二圆辊2033上，当第二圆辊2033绕着第五连接柱2032轴心转动时，第二圆辊2033不断与第二清理板2034接触，第二清理板2034则将第二圆辊2033表面粘附的少量残渣进行刮除，并且使其掉落到废渣积聚和收集器2027中，然后第四平齿轮2014继续转动，从而使得第二连接柱2018恢复原位，然后第二电动推杆2013使得第三平齿轮2011与第四平齿轮2014断开，然后u形电动滑块2023带动第三电动滑块2024等相关部件恢复原位，同时另一组u形电动滑块2023带动另一组第一废渣刮除板2026、废渣积聚和收集器2027和第二废渣刮除板2028等相关部件向下运动，直至废渣积聚和收集器2027也与模拟硅基板架4刻蚀后的表面接触，同时，第一废渣刮除板2026和第二废渣刮除板2028分别与防护器1018两个侧面接触，然后另一组第三电动滑块2024至第二清理板2034相关重复上述一组第三电动滑块2024至第二清理板2034的工作，从而将模拟硅基板架4刻蚀部位的残渣全部积聚到模拟硅基板架4刻蚀区直线部位的两端，然后废渣积聚机构2相关部件恢复原位；该机构完成了对模拟硅基板架4刻蚀部位残渣的积聚工作。26.废渣处理机构3包括有第三电动推杆301、第二u形连接板302、第七传动轴303、第一齿盘304、清理器305、第二齿盘306、第五平齿轮307和第八传动轴308；第三电动推杆301与固定架11进行固接；第三电动推杆301与第二u形连接板302进行固接；第二u形连接板302下方两侧均设置有一组第三电动推杆301；第二u形连接板302同时与两组第七传动轴303进行转动连接；第七传动轴303与第一齿盘304进行固接；第七传动轴303通过连接块与清理器305进行固接；第一齿盘304与第二齿盘306进行啮合；第二齿盘306与另一组第七传动轴303进行固接；两组第七传动轴303上均设置有一组清理器305；第二齿盘306侧面设置有第五平齿轮307；第五平齿轮307与第八传动轴308进行固接；第八传动轴308与固定架11进行转动连接；第八传动轴308与第一传动轮103进行固接。27.当模拟硅基板架4刻蚀部位的残渣均积聚到模拟硅基板架4刻蚀区直线部位的两端后，两组第三电动推杆301带动第二u形连接板302、第七传动轴303、第一齿盘304、清理器305和第二齿盘306向下运动，直至第二齿盘306与第五平齿轮307啮合，然后电机101带动第一传动轴102转动，第一传动轴102通过第一传动轮103传动第二传动轮104，第二传动轮104通过第八传动轴308传动第五平齿轮307，第五平齿轮307通过第二齿盘306传动第一齿盘304，即通过第一齿盘304和第二齿盘306分别带动两组第七传动轴303和清理器305转动一定角度，从而使得两组清理器305两侧均与模拟硅基板架4刻蚀区直线部位的两侧接触，从而将残渣完全积聚到模拟硅基板架4刻蚀区直线部位的角落处，然后当清理器305与模拟硅基板架4刻蚀区直线部位角落处的棱边接触后，两组第三电动推杆301带动两组清理器305和相关部件向上运动，即使得第二齿盘306与第五平齿轮307不啮合，与此同时，两组清理器305将积聚在模拟硅基板架4刻蚀区直线部位角落处的残渣带起，并且使其通过防护器1018上方两侧设置的开口掉落到两组废渣收集框1019中；该机构完成了对模拟硅基板架4刻蚀区积聚在直线部位两端残渣的清理工作。28.导流架1017上设置有多组导流槽，且导流架1017靠近防护器1018一端高于另一端。29.更好的将废液和废渣导流至废水收集框6中。30.多组输送管1020中分别在去离子水存放处7和刻蚀液存放处8均设置有一组阀门。31.确保多组输送管1020能够分开输送去离子水和刻蚀液。32.第一废渣刮除板2026和第二废渣刮除板2028均设置为空心。33.使得两组第一清理板2031、第二清理板2034清理下来的残渣能够掉落到废渣积聚和收集器2027中。34.清理器305的设置为v形。35.确保将积聚在模拟硅基板架4刻蚀区直线部位角落处的残渣带起，从而使其掉落到两组废渣收集框1019中。36.以上结合具体实施例描述了本发明实施例的技术原理。这些描述只是为了解释本发明实施例的原理，而不能以任何方式解释为对本发明实施例保护范围的限制。基于此处的解释，本领域的技术人员不需要付出创造性的劳动即可联想到本发明实施例的其它具体实施方式，这些方式都将落入本发明实施例的保护范围之内。