一种特殊气体供应输送设备、系统及半导体工艺系统的制作方法

本技术涉及半导体生产，尤其涉及一种特殊气体供应输送设备、特殊气体供应输送设备系统及半导体工艺系统。

背景技术：

1、超高流量气体供应设备bsgs主要应用于半导体等产业中，为工艺机台输送工艺气体。超高流量气体供应设备bsgs的气源一般采用钢瓶存储。由于钢瓶的存储体积较小，导致在输送工艺气体时，需要经常更换钢瓶。然而，在更换钢瓶的过程中，通常需要中断工艺流程，导致生产效率低。

2、为了解决上述问题，中国实用新型专利cn214369272u公开了一种用于特殊气体超高流量输送的设备。其通过设计增设工艺气体供应单元，实现切换供应和换瓶流程，通过程式控制气动阀自己完成工作，从而避免因人为误操作引起的设备损害和人身危害。然而，该技术方案仍存在如下缺陷：

3、1)气源仍采用钢瓶提供，导致仍需要频繁更换钢瓶，即需要频繁切换深度吹扫箱；

4、2)主柜体集成有吹扫单元，吹扫单元需要对主柜体、深度吹扫箱进行吹扫工艺，导致吹扫长度较长，气体排放多，容易污染环境；

5、3)工艺气体和吹扫气体采用同一出口排放，导致尾气处理工序的压力较大；

6、4)在主柜体的管路压力较大时，无法进行主动泄压，容易产生爆炸风险；

7、5)仅对气源气体进行测试，没有对调压过滤后的工艺气体进行测试，容易出现不符合工艺要求，导致生产良率低；

8、6)仅能输出单一标准的工艺气体，无法满足不同工艺要求；

9、7)没有对吹扫气体和保压气体进行区分，导致吹扫保压效果较差。

10、目前针对相关技术中存在的需要频繁切换气源、吹扫长度长、气体排放多、尾气处理工序压力大、无法对调压过滤后的工艺气体检测、无法满足不同工艺要求、没有没有对吹扫气体和保压气体进行区分等问题，尚未提出有效的解决方案。

技术实现思路

1、本实用新型的目的是针对现有技术中的不足，提供一种特殊气体供应输送设备、特殊气体供应输送设备系统及半导体工艺系统，以解决相关技术中存在的需要频繁切换气源、吹扫长度长、气体排放多、尾气处理工序压力大、无法对调压过滤后的工艺气体检测、无法满足不同工艺要求、没有没有对吹扫气体和保压气体进行区分等问题。

2、为实现上述目的，本实用新型采取的技术方案是：

3、第一方面，提供一种特殊气体供应输送设备，用于槽车系统的特殊气体超高流量输送，包括：

4、第一气体供应模块，所述第一气体供应模块的第一端与特殊气体气源连通，所述第一气体供应模块的第二端与工艺腔室连通；

5、第一加热模块，所述第一加热模块与所述第一气体供应模块连接，用于对特殊气体进行第一加热工序；

6、第一过滤模块，所述过滤模块与所述第一气体供应模块连通，且位于所述第一加热模块的下游，用于对经第一加热工序的特殊气体进行第一过滤工序；

7、第一调压模块，所述第一调压模块与所述第一气体供应模块连通，且位于所述第一过滤模块的下游，用于对经第一过滤工序的特殊气体进行第一调压工序；

8、第二加热模块，所述第二加热模块与所述第一气体供应模块连接，且位于所述第一调压模块的下游，用于对经第一调压工序的的特殊气体进行第二加热工序；

9、第二调压模块，所述第二调压模块与所述第一气体供应模块连通，且位于所述第二加热模块的下游，用于对经第二加热工序的特殊气体进行第二调压工序；

10、过流量保护模块，所述过流量保护模块与所述第一气体供应模块连通，且位于所述第二调压模块的下游，用于对经第二调压工序的特殊气体进行过流量保护；

11、第二过滤模块，所述第二过滤模块与所述第一气体供应模块连通，且位于所述过流量保护模块的下游，用于对经第二调压工序的特殊气体进行第二过滤工序；

12、第一排放模块，所述第一排放模块与所述第一气体供应模块连通，用于排放气体；

13、检测模块，所述检测模块与所述第一气体供应模块连通，且位于所述第二过滤模块的下游，用于对经第二过滤工序的特殊气体进行检测。

14、在其中的一些实施例中，还包括：

15、第二排放模块，所述第二排放模块与所述第一排放模块连通，用于排放特殊气体；

16、其中，所述第一排放模块用于排放一般气体。

17、在其中的一些实施例中，还包括：

18、第一泄压模块，所述第一泄压模块分别与所述第一气体供应模块、所述第一排放模块连通，用于泄压。

19、在其中的一些实施例中，还包括：

20、纯化模块，所述纯化模块与所述第一气体供应模块连通，且位于所述第二过滤模块的下游，用于对经第二过滤工序的特殊气体进行纯化工序；

21、其中，所述检测模块还用于对经纯化工序的特殊气体进行检测。

22、在其中的一些实施例中，还包括：

23、吹扫模块，所述吹扫模块与所述纯化模块连通，用于吹扫。

24、第二方面，提供一种特殊气体供应输送系统，包括：

25、如第一方面所述的特殊气体供应输送设备；

26、吹扫设备，所述吹扫设备分别与所述特殊气体供应输送设备、槽车连通，用于获取槽车传输的特殊气体以及输送特殊气体至所述特殊气体供应输送设备。

27、在其中的一些实施例中，所述吹扫设备包括：

28、第二气体供应模块，所述第二气体供应模块的第一端与槽车连通，所述第二气体供应模块的的第二端与所述特殊气体供应输送设备的所述第一气体供应模块的第一端连通，用于获取槽车传输的特殊气体以及输送特殊气体至所述特殊气体供应输送设备；

29、低压吹扫模块，所述低压吹扫模块与所述第二气体供应模块连通，用于低压吹扫；

30、高压保压模块，所述高压保压模块与所述低压吹扫模块连通，用于高压保压；

31、第三排放模块，所述第三排放模块与所述所述第二气体供应模块连通，用于排放气体。

32、在其中的一些实施例中，所述吹扫设备还包括：

33、第四排放模块，所述第四排放模块与所述第三排放模块连通，用于排放特殊气体；

34、其中，所述第三排放模块用于排放一般气体。

35、在其中的一些实施例中，所述吹扫设备还包括：

36、第二泄压模块，所述第二泄压模块分别与所述第二气体供应模块、所述第三排放模块连通，用于泄压。

37、在其中的一些实施例中，还包括：

38、重量检测设备，用于对槽车的重量进行检测。

39、第三方面，提供一种半导体工艺系统，包括：

40、如第一方面所述的特殊气体供应输送设备。

41、第四方面，提供一种半导体工艺系统，包括：

42、如第二方面所述的特殊气体供应输送系统。

43、本实用新型采用以上技术方案，与现有技术相比，具有如下技术效果：

44、本实用新型的一种特殊气体供应输送设备、特殊气体供应输送设备系统及半导体工艺系统，利用第一过滤模块、第二过滤模块对特殊气体进行二次过滤以及利用第一调压模块、第二调压模块对特殊气体进行二次调压，可以将高压特殊气体转变为低压特殊气体，以满足工艺腔室的使用要求；利用检测模块对低压特殊气体进行检测，判断特殊气体的气体成分、浓度等是否满足使用需求，有效提高气体处理效率，提高后续工艺良率；利用第一排放模块对特殊气体进行排放，确保未满足检测要求的特殊气体不进入后续工艺腔室。