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防污性物品的制作方法

  • 国知局
  • 2024-08-02 13:38:23

本发明涉及防污性物品。

背景技术:

1、已知将某些种类的含氟硅烷化合物用于基材的表面处理时,能够提供优异的拨水性、拨油性、防污性等。由含有含氟硅烷化合物的表面处理剂得到的层(以下又称“表面处理层”)作为所谓功能性薄膜设置于例如玻璃、塑料、纤维、卫生用品、建筑材料等各种基材上(专利文献1和2)。

2、现有技术文献

3、专利文献

4、专利文献1:日本特开2014-218639号公报

5、专利文献2:日本特开2017-082194号公报

技术实现思路

1、发明要解决的技术问题

2、专利文献1或专利文献2所记载的含氟硅烷化合物虽然能够带来具有优异功能的表面处理层,但是追求具有更高摩擦耐久性的表面处理层的物品。

3、本发明的目的在于提供一种具有摩擦耐久性更高的表面处理层的物品。

4、用于解决技术问题的技术方案

5、本发明包括以下方式。

6、[1]一种具有基材、中间层和表面处理层的物品,其中,上述中间层位于上述基材上,上述表面处理层位于上述中间层上,且由含有含氟硅烷化合物的表面处理剂形成,上述中间层包含含ce层。

7、[2]如上述[1]所述的物品,其中,上述含ce层还含有si。

8、[3]如上述[1]或[2]所述的物品,其中,上述含ce层包含含有si和ce的复合氧化物。

9、[4]如上述[2]或[3]所述的物品,其中,在上述含ce层中,si与ce的摩尔比为10:90~99.99:0.01。

10、[5]如上述[1]~[4]中任一项所述的物品,其中,上述中间层还含有碱金属或碱土金属。

11、[6]如上述[5]所述的物品,其中,上述中间层中的上述碱金属和碱土金属的浓度为0.1~30摩尔%。

12、[7]如上述[1]~[6]中任一项所述的物品,其中,上述含ce层的厚度为0.1~100nm。

13、[8]如上述[1]~[7]中任一项所述的物品,其中,上述中间层由含ce层构成。

14、[9]如上述[1]~[7]中任一项所述的物品,其中,上述中间层中,在含ce层上还包含硅氧化物层。

15、[10]如上述[9]所述的物品,其中,上述硅氧化物层的厚度为0.1nm~100nm。

16、[11]如上述[1]~[10]中任一项所述的物品,其中,上述含氟硅烷化合物为以下式(1)或(2)所示的至少1种含有氟聚醚基的化合物。

17、rf1α-xa-rsiβ          (1)

18、rsiγ-xa-rf2-xa-rsiγ       (2)

19、[式(1)、(2)中:

20、rf1分别独立地为rf1-rf-oq-;

21、rf2为-rf2p-rf-oq-;

22、rf1分别独立地为可以被1个或1个以上氟原子取代的c1-16烷基;

23、rf2为可以被1个或1个以上氟原子取代的c1-6亚烷基;

24、rf分别独立地为2价的氟聚醚基;

25、p为0或1;

26、q分别独立地为0或1;

27、rsi分别独立地为含有键合有羟基、能够水解的基团、氢原子或1价有机基团的si原子的1价基团;

28、至少1个rsi为含有键合有羟基或能够水解的基团的si原子的1价基团;

29、xa分别独立地为单键或2~10价的有机基团;

30、α为1~9的整数;

31、β为1~9的整数;

32、γ分别独立地为1~9的整数。]

33、[12]如上述[11]所述的物品,其中,rf分别独立地为以下式:

34、-(oc6f12)a-(oc5f10)b-(oc4f8)c-(oc3rfa6)d-(oc2f4)e-(ocf2)f-所示的基团。

35、[式中,rfa分别独立地为氢原子、氟原子或氯原子,

36、a、b、c、d、e和f分别独立地为0~200的整数,并且a、b、c、d、e和f之和为1以上,标注a、b、c、d、e或f并以括号括起的各重复单元的存在顺序在式中是任意的。]

37、[13]如上述[12]所述的物品,其中,rf1分别独立地为c1-16全氟烷基,rf2分别独立地为c1-6全氟亚烷基,rfa为氟原子。

38、[14]如上述[11]~[13]中任一项所述的物品,其中,rf在各出现处分别独立地为以下式(f1)、(f2)、(f3)、(f4)、(f5)或(f6)所示的基团。

39、-(oc3f6)d-(oc2f4)e-(f1)

40、[式(f1)中,d为1~200的整数,e为0或1。]

41、-(oc4f8)c-(oc3f6)d-(oc2f4)e-(ocf2)f-(f2)

42、[式(f2)中,c和d分别独立地为0~30的整数;

43、e和f分别独立地为1~200的整数;

44、c、d、e和f之和为10~200的整数;

45、标注角标c、d、e或f并以括号括起的各重复单元的存在顺序在式中是任意的。]

46、-(r6-r7)g-(f3)

47、[式(f3)中,r6为ocf2或oc2f4;

48、r7为选自oc2f4、oc3f6、oc4f8、oc5f10和oc6f12中的基团,或者为选自这些基团中的2个或3个基团的组合;

49、g为2~100的整数。]

50、-(r6-r7)g-rr-(r7’-r6’)g’-(f4)

51、[式(f4)中,r6为ocf2或oc2f4,

52、r7为选自oc2f4、oc3f6、oc4f8、oc5f10和oc6f12中的基团,或者为独立选自这些基团中的2个或3个基团的组合,

53、r6’为ocf2或oc2f4,

54、r7’为选自oc2f4、oc3f6、oc4f8、oc5f10和oc6f12中的基团,或者为独立选自这些基团中的2个或3个基团的组合,

55、g为2~100的整数,

56、g’为2~100的整数,

57、rr为:

58、

59、(式中,*表示键合位置。)]

60、-(oc6f12)a-(oc5f10)b-(oc4f8)c-(oc3f6)d-(oc2f4)e-(ocf2)f-(f5)

61、[式(f5)中,e为1以上200以下的整数,a、b、c、d和f分别独立地为0以上200以下的整数,并且,标注a、b、c、d、e或f并以括号括起的各重复单元的存在顺序在式中是任意的。]

62、-(oc6f12)a-(oc5f10)b-(oc4f8)c-(oc3f6)d-(oc2f4)e-(ocf2)f-(f6)

63、[式(f6)中,f为1以上200以下的整数,a、b、c、d和e分别独立地为0以上200以下的整数,并且,标注a、b、c、d、e或f并以括号括起的各重复单元的存在顺序在式中是任意的。]

64、[15]如上述[11]~[14]中任一项所述的物品,其中,rsi为以下式(s1)、(s2)、(s3)、(s4)或(s5)所示的基团。

65、

66、-sir11n1r123-n1               (s2)

67、-sira1k1rb1l1rc1m1            (s3)

68、-crd1k2re1l2rf1m2            (s4)

69、-nrg1rh1                    (s5)

70、[式(s1)、(s2)、(s3)、(s4)、(s5)中:

71、r11在各出现处分别独立地为羟基或水解性基团;

72、r12在各出现处分别独立地为氢原子或1价有机基团;

73、n1在每个(sir11n1r123-n1)单元中分别独立地为0~3的整数;

74、x11在各出现处分别独立地为单键或2价有机基团;

75、r13在各出现处分别独立地为氢原子或1价有机基团;

76、t在各出现处分别独立地为2以上的整数;

77、r14在各出现处分别独立地为氢原子、卤素原子或-x11-sir11n1r123-n1;

78、r15在各出现处分别独立地为单键、氧原子、碳原子数1~6的亚烷基或碳原子数1~6的亚烷基氧基;

79、ra1在各出现处分别独立地为-z1-sir21p1r22q1r23r1;

80、z1在各出现处分别独立地为氧原子或2价有机基团;

81、r21在各出现处分别独立地为-z1’-sir21’p1’r22’q1’r23’r1’;

82、r22在各出现处分别独立地为羟基或水解性基团;

83、r23在各出现处分别独立地为氢原子或1价有机基团;

84、p1在各出现处分别独立地为0~3的整数;

85、q1在各出现处分别独立地为0~3的整数;

86、r1在各出现处分别独立地为0~3的整数;

87、p1、q1和r1的合计在sir21p1r22q1r23r1单元中为3;

88、p1、q1和r1之和为3;

89、z1’在各出现处分别独立地为氧原子或2价有机基团;

90、r21’在各出现处分别独立地为-z1”-sir22”q1”r23”r1”;

91、r22’在各出现处分别独立地为羟基或水解性基团;

92、r23’在各出现处分别独立地为氢原子或1价有机基团;

93、p1’在各出现处分别独立地为0~3的整数;

94、q1’在各出现处分别独立地为0~3的整数;

95、r1’在各出现处分别独立地为0~3的整数;

96、p1’、q1’和r1’的合计在sir21’p1’r22’q1’r23’r1’单元中为3;

97、z1”在各出现处分别独立地为氧原子或2价有机基团;

98、r22”在各出现处分别独立地为羟基或水解性基团;

99、r23”在各出现处分别独立地为氢原子或1价有机基团;

100、q1”在各出现处分别独立地为0~3的整数;

101、r1”在各出现处分别独立地为0~3的整数;

102、q1”和r1”的合计在sir22”q1”r23”r1”单元中为3;

103、rb1在各出现处分别独立地为羟基或水解性基团;

104、rc1在各出现处分别独立地为氢原子或1价有机基团;

105、k1在各出现处分别独立地为0~3的整数;

106、l1在各出现处分别独立地为0~3的整数;

107、m1在各出现处分别独立地为0~3的整数;

108、k1、l1和m1的合计在sira1k1rb1l1rc1m1单元中为3;

109、rd1在各出现处分别独立地为-z2-cr31p2r32q2r33r2;

110、z2在各出现处分别独立地为单键、氧原子或2价有机基团;

111、r31在各出现处分别独立地为-z2’-cr32’q2’r33’r2’;

112、r32在各出现处分别独立地为-z3-sir34n2r353-n2;

113、r33在各出现处分别独立地为氢原子、羟基或1价有机基团;

114、p2在各出现处分别独立地为0~3的整数;

115、q2在各出现处分别独立地为0~3的整数;

116、r2在各出现处分别独立地为0~3的整数;

117、p2、q2和r2的合计在sir31p2r32q2r33r2单元中为3;

118、z2’在各出现处分别独立地为单键、氧原子或2价有机基团;

119、r32’在各出现处分别独立地为-z3-sir34n2r353-n2;

120、r33’在各出现处分别独立地为氢原子、羟基或1价有机基团;

121、q2’在各出现处分别独立地为0~3的整数;

122、r2’在各出现处分别独立地为0~3的整数;

123、q2’和r2’的合计在sir32’q2’r33’r2’单元中为3;

124、z3在各出现处分别独立地为单键、氧原子或2价有机基团;

125、r34在各出现处分别独立地为羟基或水解性基团;

126、r35在各出现处分别独立地为氢原子或1价有机基团;

127、n2在各出现处分别独立地为0~3的整数;

128、re1在各出现处分别独立地为-z3-sir34n2r353-n2;

129、rf1在各出现处分别独立地为氢原子、羟基或1价有机基团;

130、k2在各出现处分别独立地为0~3的整数;

131、l2在各出现处分别独立地为0~3的整数;

132、m2在各出现处分别独立地为0~3的整数;

133、k2、l2和m2的合计在crd1k2re1l2rf1m2单元中为3;

134、rg1和rh1在各出现处分别独立地为-z4-sir11n1r123-n1、-z4-sira1k1rb1l1rc1m1、-z4-crd1k2re1l2rf1m2;

135、z4在各出现处分别独立地为单键、氧原子或2价有机基团;

136、其中,式(s1)、(s2)、(s3)、(s4)和(s5)中,存在至少1个键合有羟基或水解性基团的si原子。]

137、[16]如上述[11]~[15]中任一项所述的物品,其中,xa分别独立地为单键或2价有机基团,α、β和γ为1。

138、[17]如上述[11]~[15]中任一项所述的物品,其中,

139、xa分别独立地为3价有机基团,

140、α为1并且β为2,或者α为2并且β为1,

141、γ为2。

142、[18]如上述[1]~[17]中任一项所述的物品,其中,上述基材为玻璃基材。

143、[19]一种成膜材料,其中,包含硅氧化物和铈氧化物,硅原子与铈原子的摩尔比为10﹕90~99.99﹕0.01。

144、[20]如上述[19]所述的成膜材料,其中,还含有碱金属或碱土金属,相对于硅原子、铈原子以及碱金属和碱土金属的合计量,碱金属或碱土金属为0.1~30摩尔%。

145、发明效果

146、根据本发明,能够提供具有摩擦耐久性更高的表面处理层的物品。

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