基于焦面拟合的成像方法及装置、电子设备和存储介质与流程

本公开涉及数据处理，尤其涉及一种基于焦面拟合的成像方法及装置、电子设备和存储介质。

背景技术：

1、在一些使用场景中，例如时空组学样本拍摄的场景，其成像要求是既要对高度起伏的组织区域清晰成像，还要对芯片上的背景纹理清晰成像。

2、相关技术中，等焦面拍摄法是预先设定焦面后，保持该焦面高度不变，进行组织扫描。该方法适用表面高度平整的样本。当拍摄区域存在较大高低落差时，起伏偏差量超过了显微成像系统的景深，便会产生虚焦问题。线性焦面拟合法可以线性拟合所选点内部区域，对外部区域的拟合偏差大，虚焦明显；近值拟合法的缺点是受选点质量影响大，拍摄焦面不平滑。

技术实现思路

1、本公开提供了一种基于焦面拟合的成像方法及装置、电子设备和存储介质。其主要目的在于实现对目标组织区域的清晰成像，同时兼顾测序载片的背景纹理的成像。

2、根据本公开的第一方面，提供了一种基于焦面拟合的成像方法，包括：

3、在待扫描测序载片中，选取预设数量的采样点；

4、对所述预设数量的采样点进行拟合处理，得到拟合焦面；

5、基于所述拟合焦面以及所述预设数量的采样点，确定每个目标视场的焦面高度信息；

6、基于所述焦面高度信息，对所述待扫描测序载片进行扫描成像。

7、可选的，所述在待扫描测序载片中，选取预设数量的采样点包括：

8、在待扫描的目标组织中，选取至少一个第一采样点，并分别记录至少一个所述第一采样点对应的平面位置信息以及高度信息；

9、根据所述目标组织在所述待扫描测序载片中的位置，分别选取至少四个第二采样点，并分别记录所述至少四个第二采样点对应的平面位置信息以及高度信息，由所述至少四个第二采样点所围成的多边形覆盖所述目标组织。

10、可选的，所述对所述预设数量的采样点进行拟合处理，得到拟合焦面包括：

11、调用预设插值算法，并对所述第一采样点对应的平面位置信息、高度信息以及所述至少四个第二采样点对应的平面位置信息、高度信息进行拟合计算，得到所述拟合焦面。

12、可选的，所述基于所述拟合焦面以及所述预设数量的采样点，确定每个目标视场的焦面高度信息包括：

13、获取所述待扫描测序载片中每个目标视场的平面位置信息；

14、将所述采样点内部区域的第一目标视场的平面位置信息，分别代入所述拟合焦面内，计算所述第一目标视场的第一焦面高度信息；其中，所述内部区域为由所述至少四个第二采样点所围成的多边形的内部区域；

15、获取在所述采样点外部区域的第二目标视场的第一高度信息；其中，所述外部区域为所述待扫描测序载片中除所述内部区域外的区域；所述第二目标视场为所述目标组织中超出所述内部区域，且位于外部区域的目标视场；

16、利用所述第一高度信息进行极近值拟合得到所述第二目标视场对应的第二焦面高度信息。

17、可选的，所述基于所述焦面高度信息，对所述待扫描测序载片进行扫描成像包括：

18、根据所述第一焦面高度信息与所述第二焦面高度信息，生成所述目标视场的焦面高度集合；

19、基于所述焦面高度集合，对所述待扫描测序载片中的每个所述目标视场进行扫描成像。

20、可选的，在在待扫描测序载片中，选取预设数量的采样点之前，所述方法还包括：

21、根据显微成像扫描的图像，确定所述测序载片中的待扫描区域。

22、根据本公开的第二方面，提供了一种基于焦面拟合的成像装置，其特征在于，包括：

23、选择单元，用于在待扫描测序载片中，选取预设数量的采样点；

24、处理单元，用于对所述预设数量的采样点进行拟合处理，得到拟合焦面；

25、确定单元，用于基于所述拟合焦面以及所述预设数量的采样点，确定每个目标视场的焦面高度信息；

26、成像单元，用于基于所述焦面高度信息，对所述待扫描测序载片进行扫描成像。

27、可选的，所述选择单元包括：

28、第一选择模块，用于在待扫描的目标组织中，选取至少一个第一采样点，并分别记录至少一个所述第一采样点对应的平面位置信息以及高度信息；

29、第二选择模块，用于根据所述目标组织在所述待扫描测序载片中的位置，分别选取至少四个第二采样点，并分别记录所述至少四个第二采样点对应的平面位置信息以及高度信息，由所述至少四个第二采样点所围成的多边形覆盖所述目标组织。

30、可选的，所述处理单元还用于：

31、调用预设插值算法，并对所述第一采样点对应的平面位置信息、高度信息以及所述至少四个第二采样点对应的平面位置信息、高度信息进行拟合计算，得到所述拟合焦面。

32、可选的，所述确定单元包括：

33、第一获取模块，用于获取所述待扫描测序载片中每个目标视场的平面位置信息；

34、第一计算模块，用于将所述采样点内部区域的第一目标视场的平面位置信息，分别代入所述拟合焦面内，计算所述第一目标视场的第一焦面高度信息；其中，所述内部区域为由所述至少四个第二采样点所围成的多边形的内部区域；

35、第二获取模块，用于获取在所述采样点外部区域的第二目标视场的第一高度信息；其中，所述外部区域为所述待扫描测序载片中除所述内部区域外的区域；所述第二目标视场为所述目标组织中超出所述内部区域，且位于外部区域的目标视场；

36、第二计算模块，用于利用所述第一高度信息进行极近值拟合得到所述第二目标视场对应的第二焦面高度信息。

37、可选的，所述成像单元包括：

38、生成模块，用于根据所述第一焦面高度信息与所述第二焦面高度信息，生成所述目标视场的焦面高度集合；

39、成像模块，用于基于所述焦面高度集合，对所述待扫描测序载片中的每个所述目标视场进行扫描成像。

40、可选的，所述装置还包括：

41、确定单元，用于在在待扫描测序载片中，选取预设数量的采样点之前，根据显微成像扫描的图像，确定所述测序载片中的待扫描区域。

42、根据本公开的第三方面，提供了一种电子设备，包括：

43、至少一个处理器；以及

44、与所述至少一个处理器通信连接的存储器；其中，

45、所述存储器存储有可被所述至少一个处理器执行的指令，所述指令被所述至少一个处理器执行，以使所述至少一个处理器能够执行前述第一方面所述的方法。

46、根据本公开的第四方面，提供了一种存储有计算机指令的非瞬时计算机可读存储介质，其中，所述计算机指令用于使所述计算机执行前述第一方面所述的方法。

47、根据本公开的第五方面，提供了一种计算机程序产品，包括计算机程序，所述计算机程序在被处理器执行时实现如前述第一方面所述的方法。

48、本公开提供了一种基于焦面拟合的成像方法及装置、电子设备和存储介质，在待扫描测序载片中，选取预设数量的采样点；对所述预设数量的采样点进行拟合处理，得到拟合焦面；基于所述拟合焦面以及所述预设数量的采样点，确定每个目标视场的焦面高度信息；基于所述焦面高度信息，对所述待扫描测序载片进行扫描成像。与相关技术相比，本公开通过选取预设数量的采样点来获得拟合焦面，选取的采样点包括目标组织及测序载片上的采样点，通过获得拟合焦面来确定每个目标视场的焦面高度信息，使得在对目标组织进行成像时，能够兼顾目标组织及测序载片的背景纹理，减少成像时产生的虚焦现象。

49、应当理解，本部分所描述的内容并非旨在标识本技术的实施例的关键或重要特征，也不用于限制本技术的范围。本技术的其它特征将通过以下的说明书而变得容易理解。