显示装置及其制造方法与流程

本发明的实施方式的方面涉及显示装置和显示装置的制造方法。

背景技术：

1、随着信息技术发展，作为用户和信息之间的连接介质的显示装置的重要性得到了强调。显示装置可以使用通过从阴极电极发射的电子与从阳极电极发射的空穴的复合来产生光的发光元件来显示图像。

技术实现思路

1、根据本发明的实施方式的方面，提供了能够改善发光元件的n型半导体层和阴极电极之间的接触电阻的显示装置。

2、根据本发明的一个或多个实施方式，显示装置的制造方法包括：将发光元件转移到布置在像素电路层上的第一电极上，发光元件中的每一个包括与像素电路层间隔开的未掺杂半导体层；在第一电极上使覆盖发光元件的无机层图案化；在无机层上形成光敏材料层；以及使光敏材料层图案化以暴露无机层的覆盖未掺杂半导体层的部分。

3、无机层可以包括硅氧化物和硅氮化物中的至少一种。

4、使光敏材料层图案化可以包括使用半色调掩模曝光和显影光敏材料层。

5、显示装置的制造方法还可以包括使用第一蚀刻气体蚀刻无机层的暴露部分。

6、第一蚀刻气体可以至少包括四氟甲烷。

7、显示装置的制造方法还可以包括使用第二蚀刻气体蚀刻未掺杂半导体层的至少一部分。

8、第二蚀刻气体可以至少包括三氯化硼。

9、在蚀刻未掺杂半导体层的至少一部分时，可以蚀刻图案化的光敏材料层的至少一部分。

10、显示装置的制造方法还可以包括去除剩余未蚀刻的图案化的光敏材料层。

11、显示装置的制造方法还可以包括在发光元件之间形成与无机层接触的有机层。

12、显示装置的制造方法还可以包括在发光元件、无机层和有机层上形成第二电极。

13、根据本发明的一个或多个实施方式，显示装置包括：像素电路层，包括基础层和像素电路；第一电极，设置在像素电路层上；发光元件，设置在第一电极上并且各自包括包含第一类型半导体的第一半导体层；无机层，设置在第一电极上并且覆盖发光元件；以及第二电极，设置在发光元件上。第一半导体层和无机层可以接触第二电极。

14、发光元件中的每一个还可以包括：第二半导体层，包括与第一类型半导体不同的第二类型半导体；有源层，设置在第一半导体层和第二半导体层之间；以及电极层，设置在第二半导体层上。第二半导体层、有源层和电极层可以设置在第一电极和第一半导体层之间。

15、发光元件中的每一个还可以包括围绕第一半导体层、第二半导体层、有源层和电极层中的每一个的至少一部分的绝缘层。

16、无机层可以包括硅氧化物和硅氮化物中的至少一种。

17、显示装置还可以包括在发光元件之间并且接触无机层和第二电极的有机层。

技术特征：

1.显示装置的制造方法，所述制造方法包括：

2.根据权利要求1所述的制造方法，其中，所述无机层包括硅氧化物和硅氮化物中的至少一种。

3.根据权利要求1所述的制造方法，其中，使所述光敏材料层图案化包括：

4.根据权利要求1所述的制造方法，还包括：

5.根据权利要求4所述的制造方法，其中，所述第一蚀刻气体至少包括四氟甲烷。

6.根据权利要求4所述的制造方法，还包括：

7.根据权利要求6所述的制造方法，其中，所述第二蚀刻气体至少包括三氯化硼。

8.根据权利要求6所述的制造方法，其中，在蚀刻所述未掺杂半导体层的所述至少一部分时，蚀刻所图案化的光敏材料层的至少一部分。

9.根据权利要求8所述的制造方法，还包括：

10.根据权利要求9所述的制造方法，还包括：

11.根据权利要求10所述的制造方法，还包括：

技术总结提供了显示装置和显示装置的制造方法。显示装置的制造方法包括：将发光元件转移到布置在像素电路层上的第一电极上，发光元件中的每一个包括与像素电路层间隔开的未掺杂半导体层；在第一电极上使覆盖发光元件的无机层图案化；在无机层上形成光敏材料层；以及使光敏材料层图案化以暴露无机层的覆盖未掺杂半导体层的部分。技术研发人员：全保建受保护的技术使用者：三星显示有限公司技术研发日：技术公布日：2024/8/1