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清洁基站系统、清洁基站、自动上下水模块和水箱模块的制作方法

  • 国知局
  • 2024-09-05 14:20:36

本申请涉及清洁,特别涉及一种清洁基站系统、清洁基站、自动上下水模块和水箱模块。

背景技术:

1、清洁基站根据不同的供回水方式,分为水箱和自动上下水两种版本。

2、现有技术中的两种版本清洁基站的基站本体之间互不兼容,水箱版本和自动上下水版本分别要制造对应的基站本体,这也就导致了生产工序较为复杂,并且在生产时,每个版本的基站本体需要分别开模,生产成本较高。

技术实现思路

1、本申请的目的在于提供一种清洁基站系统、清洁基站、自动上下水模块和水箱模块,可以简化生产工序,降低生产成本。

2、为实现上述目的,本申请一方面提供一种清洁基站系统,其包括:基站本体和供回水单元,其中,所述基站本体的顶面形成有用于安装所述供回水单元的安装区,所述安装区具有限位件;所述供回水单元包括水箱模块或自动上下水模块,所述水箱模块具有第一配接部,所述自动上下水模块具有第二配接部,所述第一配接部与所述第二配接部具有相同的配接特征,所述配接特征与所述限位件相适配,且所述供回水单元通过所述限位件可拆卸定位于所述安装区。

3、为实现上述目的,本申请另一方面还提供一种清洁基站,其包括:基站本体和水箱模块,其中,所述基站本体的顶面形成有用于安装所述水箱模块的安装区,所述安装区具有限位件;所述水箱模块具有配接特征,所述配接特征与所述限位件相适配,且所述水箱模块通过所述限位件可拆卸定位于所述安装区。

4、为实现上述目的,本申请另一方面还提供一种清洁基站,其包括:基站本体和自动上下水模块,其中,所述基站本体的顶面形成有用于安装所述自动上下水模块的安装区,所述安装区具有限位件;所述自动上下水模块具有第二配接部,所述第二配接部具有配接特征,所述配接特征与所述限位件相适配,且所述自动上下水模块通过所述限位件可拆卸定位于所述安装区。

5、为实现上述目的,本申请另一方面还提供一种自动上下水模块,其包括:

6、第一壳体;

7、清水单元,设置于所述第一壳体内;

8、污水单元,设置于所述第一壳体内;

9、所述第一壳体具有第二配接部,所述第二配接部具有配接特征,所述配接特征与限位件相适配,且所述自动上下水模块通过限位件可拆卸定位于安装区。

10、为实现上述目的,本申请另一方面还提供一种水箱模块,其包括:清水箱和污水箱;所述清水箱和所述污水箱并列排布;所述清水箱和所述污水箱分别具有第一配接部,所述第一配接部具有配接特征,所述配接特征与限位件相适配,且所述水箱模块通过限位件可拆卸定位于安装区。

11、由此可见,本申请提供的技术方案,水箱模块具有第一配接部,自动上下水模块具有第二配接部,第一配接部和第二配接部具有相同的配接特征,基站本体的顶面安装区具有限位件,水箱模块能够通过限位件与第一配接部配合可拆卸定位于安装区,并且自动上下水模块能够通过限位件与第二配接部配合可拆卸定位于安装区。换而言之,本申请一个基站本体可以同时适配水箱模块和自动上下水模块,这样,在生产水箱版本和自动上下水版本两种清洁基站时,针对基站本体部分仅需一套模具开模,简化了生产工序,降低了生产成本。并且,在用户对两种版本清洁基站的更换版本时,用户仅需购买相对应的水箱模块或自动上下水模块,无需更换清洁基站,这也进一步的降低了用户更换清洁基站版本的成本。

技术特征:

1.一种清洁基站系统,其特征在于,其包括:基站本体和供回水单元,其中,

2.根据权利要求1所述的清洁基站系统,其特征在于,所述第一配接部和所述第二配接部为限位孔,所述限位件为用于伸入所述限位孔的凸块;

3.根据权利要求1所述的清洁基站系统,其特征在于,所述限位件为沿周向设置于所述安装区的边缘上的凸环,所述供回水单元安装于所述安装区时,所述凸环围设在所述的供回水单元的底部外侧,且所述供回水单元的底部外轮廓与所述凸环的内轮廓相适配。

4.根据权利要求1或3所述的清洁基站系统,其特征在于,所述基站本体包括基座和后盖;

5.根据权利要求4所述的清洁基站系统,其特征在于,所述水电集成组件包括支架、清水泵、热水部件、污水抽气泵、主控板和电源板;

6.根据权利要求5所述的清洁基站系统,其特征在于,所述存放腔内还连接有吹风烘干组件和回充组件;

7.根据权利要求1所述的清洁基站系统,其特征在于,所述供回水单元为自动上下水模块,所述自动上下水模块包括清水单元、污水单元和清洁液单元;

8.根据权利要求7所述的清洁基站系统,其特征在于,所述污水过渡箱具有污水过渡腔、第一插孔和进污口,所述第一插孔位于所述污水过渡箱的侧面,并且所述第一插孔与所述污水过渡腔连通;

9.根据权利要求8所述的清洁基站系统,其特征在于,所述过滤插件包括滤网和第一本体;

10.根据权利要求8所述的清洁基站系统,其特征在于,所述清水过渡箱和所述污水过渡箱沿水平方向并列设置,所述清水过渡箱具有清水过渡腔和第二插孔,所述第二插孔位于所述清水过渡腔的侧面,并且所述第二插孔与所述清水过渡腔连通;

11.根据权利要求10所述的清洁基站系统,其特征在于,所述抗菌插件包括抗菌部件和第二本体;

12.根据权利要求11所述的清洁基站系统,其特征在于,在所述抗菌插件插接在所述第二插孔上时,所述抗菌插件能够与所述第二插孔转动连接,并且所述抗菌插件具有第一旋转位和第二旋转位;

13.根据权利要求12所述的清洁基站系统,其特征在于,所述第二本体的一端与所述抗菌部件铰接,所述第二本体的一端具有端面,所述端面与所述第二本体的轴线垂直;

14.根据权利要求12所述的清洁基站系统,其特征在于,所述第二本体上形成有容纳槽,所述抗菌部件的两端与所述容纳槽的两端滑动连接;

15.根据权利要求10所述的清洁基站系统,其特征在于,所述固定座、所述清水过渡箱和所述污水过渡箱沿水平方向并列设置,所述固定座具有容置腔、第三插孔和抽液头,所述第三插孔位于所述容置腔的侧面,并且所述第三插孔与所述容置腔连通,所述抽液头位于所述容置腔内;

16.根据权利要求15所述的清洁基站系统,其特征在于,所述固定座上连接有按压式自锁反弹器;

17.根据权利要求15所述的清洁基站系统,其特征在于,所述第一插孔、所述第二插孔和所述第三插孔位于所述自动上下水模块的同一侧。

18.根据权利要求17所述的清洁基站系统,其特征在于,所述自动上下水模块还包括第一壳体和侧盖;

19.根据权利要求18所述的清洁基站系统,其特征在于,所述基站本体的顶面设有清水接头、污水接头、吸气接头和第二电子接口;

20.根据权利要求19所述的清洁基站系统,其特征在于,所述基站本体的顶面设有若干配合槽,所述配合槽的侧壁上形成有卡槽,所述第一壳体的底面设有若干环形配合柱,每个所述环形配合柱的侧壁上形成有与所述卡槽相对应的卡扣;

21.根据权利要求1所述的清洁基站系统,其特征在于,所述供回水单元为水箱模块;

22.根据权利要求21所述的清洁基站系统,其特征在于,所述污水箱内设有用于抽取所述污水箱内部空气的负压孔,所述污水箱内设有浮动密封部,所述浮动密封部被配置为随着污水浮动至第一预定位置时,将所述负压孔堵住;

23.根据权利要求22所述的清洁基站系统,其特征在于,所述清水箱内设有浮动部;

24.根据权利要求23所述的清洁基站系统,其特征在于,所述基站本体的顶面设有第二电子接口,其中,所述第二电子接口上覆盖有密封件。

25.根据权利要求24所述的清洁基站系统,其特征在于,所述基站本体的顶面设有若干配合槽,每个所述配合槽内填充有缓冲件;

26.根据权利要求21所述的清洁基站系统,其特征在于,所述清水箱体与所述污水箱体之间的最短距离为2cm以下;

27.根据权利要求26所述的清洁基站系统,其特征在于,所述清水箱还包括清水箱盖、清水箱提手中的至少一个,所述污水箱还包括污水箱盖、污水箱提手中的至少一个;

28.根据权利要求27所述的清洁基站系统,其特征在于,所述清水箱体与污水箱体、清水箱盖与污水箱盖、清水箱提手与污水箱提手的形状分别呈轴对称,且所述清水箱体与污水箱体、清水箱盖与污水箱盖、清水箱提手与污水箱提手中的任意一对的形状、尺寸相一致。

29.根据权利要求26所述的清洁基站系统,其特征在于,所述清水箱包括清水箱盖,所述污水箱包括污水箱盖;

30.根据权利要求21所述的清洁基站系统,其特征在于,所述清水箱与所述污水箱上设置有连接部,用于使清水箱与污水箱连接并共同运动。

31.一种清洁基站,其特征在于,其包括:基站本体和水箱模块,其中,

32.一种清洁基站,其特征在于,其包括:基站本体和自动上下水模块,其中,

33.一种自动上下水模块,其特征在于,其包括:

34.一种水箱模块,其特征在于,其包括:清水箱和污水箱;

技术总结本申请公开了一种清洁基站系统、清洁基站、自动上下水模块和水箱模块,所述清洁基站系统包括:基站本体和供回水单元,其中,所述基站本体的顶面形成有用于安装所述供回水单元的安装区,所述安装区具有限位件;所述供回水单元包括水箱模块或自动上下水模块,所述水箱模块具有第一配接部,所述自动上下水模块具有第二配接部,所述第一配接部与所述第二配接部具有相同的配接特征,所述配接特征与所述限位件相适配,且所述供回水单元通过所述限位件可拆卸定位于所述安装区。本申请提供的技术方案,可以简化生产工序,降低生产成本。技术研发人员:郑杰,陈艳,张迪,陈小帅,张兴振,陈超受保护的技术使用者:科沃斯机器人股份有限公司技术研发日:20240123技术公布日:2024/9/2

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