一种清洗水槽及餐具处理系统的制作方法

本申请属于家用电器，尤其涉及一种清洗水槽及餐具处理系统。

背景技术：

1、生活中的食材往往具有细菌、病毒、农药和激素残留，如不加以处理，日积月累会影响身体健康，且影响小孩成长发育，因此食材在使用前，需进行清洗、消毒。

2、相关技术中，在水槽集成了电解装置，即通过电解水对食材进行消毒。但是，相关技术中电解水的杀菌效率较低，导致食材的处理时间较长。

技术实现思路

1、本申请旨在至少能够在一定程度上解决电解装置的电解水的杀菌效率较低，导致食材的处理时间较长的技术问题。为此，本申请提供了一种清洗水槽及餐具处理系统。

2、第一方面，本申请实施例提供的一种清洗水槽，包括：

3、水槽本体，具有电解槽、与所述电解槽连通的安装腔、与所述安装腔连通的进水口和出水口；

4、电解装置和水泵，所述电解装置设置于所述安装腔内，所述水泵分别与所述进水口和出水口连通。

5、本申请实施例提出的清洗水槽中，由于设置了水泵，且水泵分别与进水口和出水口连通，因此水泵可通过进水口和出水口在电解槽内实现水循环，而水泵的动力可促进水流循环，加快水的流动速度，使得电解产生的羟基自由基、活性自由基以及次氯酸能加快扩散，从而提高水的电解效率，加快食材的清洗速度。

6、在一些实施方式中，所述电解装置具有相对设置的正极连接端和负极连接端，所述出水口靠近所述正极连接端设置，所述进水口靠近所述负极连接端设置。

7、在一些实施方式中，所述出水口位于所述正极连接端和所述负极连接端之间。

8、在一些实施方式中，所述进水口位于所述负极连接端远离所述正极连接端的一侧。

9、在一些实施方式中，所述出水口与所述负极连接端之间的距离为50mm～90mm。

10、在一些实施方式中，所述正极连接端与所述负极连接端之间的距离为90mm～130mm。

11、在一些实施方式中，所述出水口与所述电解槽的底壁之间的距离大于所述进水口与所述电解槽的底壁之间的距离。

12、在一些实施方式中，所述出水口与所述电解槽的底壁之间的距离大于35mm。

13、在一些实施方式中，所述进水口与所述电解槽的底壁之间的距离大于25mm。

14、在一些实施方式中，所述进水口和所述出水口位于所述水泵的上方。

15、在一些实施方式中，所述进水口与所述水泵在高度方向上的距离大于或等于15mm。

16、在一些实施方式中，所述水泵位于所述电解槽外。

17、在一些实施方式中，所述安装腔凸设于所述电解槽，所述安装腔与所述水泵并排且错位设置。

18、在一些实施方式中，在所述进水口和所述出水口两个中，所述水泵靠近所述进水口设置。

19、在一些实施方式中，所述出水口设置于所述安装腔的底壁，所述进水口设置于所述安装腔的侧壁。

20、在一些实施方式中，所述清洗水槽还包括滤网，所述滤网设置在所述安装腔与所述电解槽连通的开口处。

21、在一些实施方式中，所述安装腔的深度为23mm～40mm。

22、第二方面，本申请实施例提供了一种餐具处理系统，包括餐具处理装置和以上所述的清洗水槽，所述餐具处理装置位于所述水槽本体的下方。

23、第二方面提供的餐具处理系统与第一方面提供的清洗水槽的有益效果相同，在此不再赘述。

技术特征：

1.一种清洗水槽，其特征在于，包括：

2.根据权利要求1所述的清洗水槽，其特征在于，所述电解装置具有相对设置的正极连接端和负极连接端，所述出水口靠近所述正极连接端设置，所述进水口靠近所述负极连接端设置。

3.根据权利要求2所述的清洗水槽，其特征在于，所述出水口位于所述正极连接端和所述负极连接端之间。

4.根据权利要求2所述的清洗水槽，其特征在于，所述进水口位于所述负极连接端远离所述正极连接端的一侧。

5.根据权利要求2所述的清洗水槽，其特征在于，所述出水口与所述负极连接端之间的距离为50mm～90mm。

6.根据权利要求2所述的清洗水槽，其特征在于，所述正极连接端与所述负极连接端之间的距离为90mm～130mm。

7.根据权利要求1-6任一项所述的清洗水槽，其特征在于，所述出水口与所述电解槽的底壁之间的距离大于所述进水口与所述电解槽的底壁之间的距离。

8.根据权利要求1-6任一项所述的清洗水槽，其特征在于，所述出水口与所述电解槽的底壁之间的距离大于35mm。

9.根据权利要求1-6任一项所述的清洗水槽，其特征在于，所述进水口与所述电解槽的底壁之间的距离大于25mm。

10.根据权利要求1-6任一项所述的清洗水槽，其特征在于，所述进水口和所述出水口位于所述水泵的上方。

11.根据权利要求10所述的清洗水槽，其特征在于，所述进水口与所述水泵在高度方向上的距离大于或等于15mm。

12.根据权利要求1-6任一项所述的清洗水槽，其特征在于，所述水泵位于所述电解槽外。

13.根据权利要求12所述的清洗水槽，其特征在于，所述安装腔凸设于所述电解槽，所述安装腔与所述水泵并排且错位设置。

14.根据权利要求12所述的清洗水槽，其特征在于，在所述进水口和所述出水口两个中，所述水泵靠近所述进水口设置。

15.根据权利要求12所述的清洗水槽，其特征在于，所述出水口设置于所述安装腔的底壁，所述进水口设置于所述安装腔的侧壁。

16.根据权利要求1-6任一项所述的清洗水槽，其特征在于，所述清洗水槽还包括滤网，所述滤网设置在所述安装腔与所述电解槽连通的开口处。

17.根据权利要求1-6任一项所述的清洗水槽，其特征在于，所述安装腔的深度为23mm～40mm。

18.一种餐具处理系统，其特征在于，包括餐具处理装置和如权利要求1-17任一项所述的清洗水槽，所述餐具处理装置位于所述清洗水槽的下方。

技术总结本申请实施例提供的一种清洗水槽，包括水槽本体、电解装置和水泵。水槽本体具有电解槽、与电解槽连通的安装腔以及与安装腔连通的进水口和出水口。电解装置设置于安装腔内，水泵分别与进水口和出水口连通。技术研发人员：徐前,管庆军,黄钰浩,郑育尔,唐东伟受保护的技术使用者：佛山市顺德区美的洗涤电器制造有限公司技术研发日：20240320技术公布日：2024/12/12