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处理液供应装置以及处理液供应方法与流程

2022-07-10 13:46:42 来源:中国专利 TAG:

技术特征:
1.一种处理液供应装置,其特征在于,包括:处理液供应单元,包括向基板处理装置供应处理液的主供应部以及根据基板处理条件调整处理液并向所述主供应部提供的调整供应部;处理液再循环单元,包括从所述基板处理装置回收处理液的回收部以及从所述回收部接收回收的处理液而根据再生条件调整处理液并向所述调整供应部提供的处理液再生部;以及控制单元,控制所述处理液供应单元和所述处理液再循环单元的处理液的供应、调整、回收、再生或者废弃。2.根据权利要求1所述的处理液供应装置,其特征在于,所述处理液供应单元还包括:二氧化硅供应构件,测定二氧化硅的供应量来根据基板处理条件供应二氧化硅,所述调整供应部包括:调整槽罐,调整含有二氧化硅的处理液,并将调整的处理液向所述主供应部供应;以及调整循环管线,使所述调整槽罐的处理液循环,并测定处理液的浓度且调整温度,所述控制单元根据所述调整循环管线的处理液的磷酸浓度的测定结果,控制磷酸和diw的供应或者加热温度来调整磷酸浓度。3.根据权利要求2所述的处理液供应装置,其特征在于,所述处理液供应单元还包括:混合构件,将根据基板处理条件混合了磷酸和diw的磷酸水溶液向所述调整槽罐供应,所述控制单元根据所述调整循环管线的处理液的磷酸浓度的测定结果,供应通过所述混合构件进行的磷酸水溶液来调节磷酸浓度。4.根据权利要求2或3所述的处理液供应装置,其特征在于,所述调整供应部包括:第一调整供应部和第二调整供应部,向所述主供应部供应处理液。5.根据权利要求4所述的处理液供应装置,其特征在于,所述控制单元控制成所述第一调整供应部和所述第二调整供应部中的任一个调整处理液,另一个向所述主供应部供应处理液或从所述处理液再生部接收处理液。6.根据权利要求4所述的处理液供应装置,其特征在于,所述控制单元控制成,所述第一调整供应部从所述处理液再生部接收再生的处理液,所述第二调整供应部接收新的处理液物质。7.根据权利要求2所述的处理液供应装置,其特征在于,所述主供应部还包括:主供应槽罐,向所述基板处理装置供应处理液;以及采样管线,用于对从所述主供应槽罐供应的处理液进行采样并测定,所述控制单元根据所述采样的处理液的二氧化硅浓度的测定结果来控制所述调整供应部的二氧化硅的供应,从而调整二氧化硅浓度或将向所述回收部回收的处理液向外部排放废弃。8.根据权利要求1所述的处理液供应装置,其特征在于,所述处理液再生部包括:
再生槽罐,将从所述回收部接收的处理液的水分浓度调整后向所述处理液供应单元供应;以及再生循环管线,使所述再生槽罐的处理液循环而将处理液过滤,并测定处理液的浓度且调整温度,所述控制单元根据所述再生循环管线的处理液的水分浓度的测定结果来控制diw的供应或者加热温度,从而调整水分浓度。9.根据权利要求8所述的处理液供应装置,其特征在于,所述回收部包括:回收槽罐,从所述基板处理装置回收处理液;多个分支管,配置于所述回收槽罐的排出管和所述处理液再生部的引入管之间;以及多个主过滤器,配置于各个所述分支管而过滤处理液。10.根据权利要求7所述的处理液供应装置,其特征在于,所述回收部包括:回收槽罐,从所述基板处理装置回收处理液;以及排放阀,将所述回收槽罐的处理液向外部排放,所述控制单元基于向所述基板处理装置供应的处理液的二氧化硅浓度的测定结果或者处理液的再生次数,将回收的处理液向外部排放废弃。11.根据权利要求4所述的处理液供应装置,其特征在于,所述处理液再生部包括:第一处理液再生部和第二处理液再生部,从所述回收部接收处理液并向所述调整供应部提供调整的处理液。12.根据权利要求11所述的处理液供应装置,其特征在于,所述控制单元控制成,所述第一处理液再生部和所述第二处理液再生部中的任一个再生处理液,另一个从所述回收部接收处理液或将再生的处理液向所述调整供应部提供。13.根据权利要求1所述的处理液供应装置,其特征在于,所述处理液供应单元配置于与所述基板处理装置相同的空间中,所述处理液再循环单元与所述处理液供应单元分离配置于不同的空间。14.一种处理液供应方法,其特征在于,包括:处理液供应步骤,使得提供到调整供应部中的处理液通过调整循环管线自循环的同时调整处理液的浓度和温度,并基于基板处理条件将调整的处理液向主供应部提供;处理液回收步骤,从所述基板处理装置将使用过的处理液向回收部回收;以及处理液再生步骤,使得从所述回收部提供到所述处理液再生部中的处理液通过再生循环管线自循环的同时基于再生条件进行过滤以及调整,并将再生的处理液向所述调整供应部提供。15.根据权利要求14所述的处理液供应方法,其特征在于,所述处理液供应步骤包括:二氧化硅浓度调节步骤,测定二氧化硅的供应量来根据基板处理条件供应二氧化硅;处理液物质提供步骤,向所述调整供应部的调整槽罐提供含有磷酸和diw中的一个以上的处理液物质;
磷酸浓度测定步骤,使所述调整槽罐的处理液通过所述调整循环管线自循环的同时测定磷酸浓度;以及供应处理液调整步骤,通过基于磷酸浓度测定结果向所述调整槽罐供应磷酸和diw中的任意一个以上或者进行加热,调整磷酸浓度。16.根据权利要求15所述的处理液供应方法,其特征在于,所述处理液物质提供步骤将通过混合构件混合了磷酸和diw的磷酸水溶液向所述调整槽罐供应,所述供应处理液调整步骤将通过所述混合构件混合了磷酸和diw的磷酸水溶液向所述调整槽罐供应来调整磷酸浓度。17.根据权利要求14所述的处理液供应方法,其特征在于,所述处理液物质提供步骤向第一调整供应部的第一调整槽罐供应再生的处理液,向第二调整供应部的第二调整槽罐供应新的处理液物质。18.根据权利要求14所述的处理液供应方法,其特征在于,所述处理液供应步骤还包括:采样步骤,对从所述主供应部向所述基板处理装置供应的处理液进行采样来测定二氧化硅的浓度;以及二氧化硅浓度调整步骤,根据采样的处理液的二氧化硅浓度的测定结果,调整所述调整供应部的二氧化硅的供应。19.根据权利要求14所述的处理液供应方法,其特征在于,所述处理液供应步骤包括:采样步骤,对从所述主供应部向所述基板处理装置供应的处理液进行采样来测定二氧化硅的浓度,所述处理液回收步骤包括:回收处理液废弃步骤,根据采样的处理液的二氧化硅浓度的测定结果,将从所述基板处理装置向所述回收部回收的处理液向外部排放废弃。20.根据权利要求17所述的处理液供应方法,其特征在于,所述处理液物质提供步骤包括:计数步骤,对向所述第一调整供应部的所述第一调整槽罐供应再生的处理液的供应次数进行计数,所述处理液回收步骤包括:回收处理液废弃步骤,基于再生次数,将从所述基板处理装置向所述回收部回收的处理液向外部排放废弃。21.根据权利要求14所述的处理液供应方法,其特征在于,所述处理液回收步骤包括:废处理液回收步骤,从基板处理装置向回收槽罐回收处理液;主过滤步骤,将从所述回收槽罐排出的处理液分配给多个分支管,并通过各个分支管的主过滤器过滤处理液;以及回收处理液提供步骤,将从所述多个分支管排出的处理液向所述处理液再生部提供。22.根据权利要求14所述的处理液供应方法,其特征在于,
所述处理液再生步骤包括:磷酸水分浓度测定步骤,使得向再生槽罐提供的处理液通过再生循环管线自循环的同时测定磷酸水分浓度;以及处理液再生步骤,基于磷酸水分浓度测定结果,向所述再生槽罐供应diw或通过处理液的加热调整磷酸水分浓度。23.根据权利要求14所述的处理液供应方法,其特征在于,所述处理液供应步骤在第一调整供应部和第二调整供应部中的任一个中调整处理液的温度和浓度,在另一个中向所述主供应部供应调整的处理液或从所述处理液再生部接收再生的处理液,所述处理液再生步骤在第一处理液再生部和第二处理液再生部中的任一个中基于处理液再生条件调整处理液的浓度和温度,在另一个中从所述回收部接收处理液或将再生的处理液向所述调整供应部供应。24.一种处理液供应装置,其特征在于,包括:处理液供应单元,包括:调整供应部,包括接收再生的处理液的第一调整供应部和接收新的处理液的第二调整供应部,并使处理液自循环,通过二氧化硅供应构件测定二氧化硅的供应量来选择性地进行供应,选择性地供应通过混合构件混合了磷酸和diw的磷酸水溶液,通过调整循环管线加热处理液并根据基板处理条件调整处理液而向主供应部提供调整的处理液;以及主供应部,支持向基板处理装置供应处理液的同时对供应的处理液进行采样,并根据二氧化硅浓度的测定结果来调整所述调整供应部的二氧化硅的浓度;处理液再循环单元,包括:回收部,从所述基板处理装置回收处理液,并通过配置于多个分支管的多个主过滤器对回收的处理液进行过滤后向处理液再生部提供;以及多个处理液再生部,使得回收的处理液自循环的同时供应diw或加热处理液来根据再生条件再生处理液,并向所述第一调整供应部提供再生的处理液;以及控制单元,控制所述处理液供应单元和所述处理液再循环单元的处理液的供应、调整、回收、再生或者废弃,并控制成所述第一调整供应部和所述第二调整供应部中的任一个调整处理液,另一个向所述主供应部供应处理液;并且控制成所述多个处理液再生部中的任一个再生处理液,另一个从所述回收部接收处理液或将再生的处理液向所述第一调整供应部提供,所述处理液供应单元和所述处理液再循环单元空间上分离配置。

技术总结
本发明是处理液供应装置以及处理液供应方法,涉及如下方案:为了改善通过处理液的基板处理工艺中选择比,处理液供应单元在调整二氧化硅的供应量的同时混合处理液物质并基于基板处理条件调节处理液的浓度和温度后向基板处理装置供应,通过与所述处理液供应单元空间上分离的处理液再循环单元回收处理液并调节处理液的水分浓度和温度后供应再生处理液。节处理液的水分浓度和温度后供应再生处理液。节处理液的水分浓度和温度后供应再生处理液。


技术研发人员:李茂贤
受保护的技术使用者:细美事有限公司
技术研发日:2021.07.27
技术公布日:2022/7/9
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