3-烷氧基苯甲酰胺衍生物及有害生物防除剂的制作方法

技术特征：
1.通式[i]所示的3-烷氧基苯甲酰胺衍生物或其农业上可接受的盐，式中，a表示氧原子或硫原子；g表示氢原子、卤素原子或c1至c6烷基；r1表示c1至c6烷基、c1至c6卤代烷基、c3至c6环烷基、c3至c6卤代环烷基、c2至c6烯基、c2至c6卤代烯基、c2至c6炔基、c2至c6卤代炔基、c1至c6烷氧基、c1至c6卤代烷氧基、c1至c6烷氧基c1至c6烷基、c3至c6环烷基c1至c6烷基、c3至c6卤代环烷基c1至c6烷基、氰基c1至c6烷基、氰基c3至c6环烷基、氰基c3至c6环烷基c1至c6烷基、氰基杂环烷基、羟基c3至c6环烷基、c1至c6烷基羰基氧基c3至c6环烷基、c1至c6烷基磺酰基氧基c3至c6环烷基、c1至c6烷氧基c3至c6环烷基、c1至c6卤代烷氧基c3至c6环烷基、c1至c6烷基硫基c3至c6环烷基、c1至c6卤代烷基硫基c3至c6环烷基、c1至c6烷基亚磺酰基c3至c6环烷基、c1至c6卤代烷基亚磺酰基c3至c6环烷基、c1至c6烷基磺酰基c3至c6环烷基、c1至c6卤代烷基磺酰基c3至c6环烷基、c2至c6炔基c3至c6环烷基、c1至c6烷氧基羰基c3至c6环烷基、羧基c3至c6环烷基、氨甲酰基c3至c6环烷基、c1至c6烷基氨基羰基c3至c6环烷基(该氨基可经r
10
取代)、c4至c8双环烷基、c1至c6烷氧基亚氨基、苯基(该基团可经r7单取代或多取代)、苯基c1至c6烷基(该苯基可经r7单取代或多取代)、杂芳基(该基团可经r7单取代或多取代)、杂芳基c1至c3烷基(该杂芳基可经r7单取代或多取代)、杂芳基c3至c6环烷基(该杂芳基可经r7单取代或多取代)、杂环烷基(该基团可经r
10
取代)、杂环烷基c1至c6烷基(该杂环烷基可经r
10
取代)或杂环烷基c3至c6环烷基(该杂环烷基可经r
10
取代)；r2表示氢原子、c1至c6烷基、c1至c6卤代烷基、c3至c6环烷基、c3至c6卤代环烷基、c2至c6烯基、c2至c6卤代烯基、c2至c6炔基、c2至c6卤代炔基、c1至c6烷氧基、c1至c6卤代烷氧基、c3至c6环烷基c1至c6烷基、c3至c6卤代环烷基c1至c6烷基、苯基(该基团可经r7单取代或多取代)、苯基c1至c6烷基(该苯基可经r7单取代或多取代)、杂芳基(该基团可经r7单取代或多取代)、杂芳基c1至c3烷基(该杂芳基可经r7单取代或多取代)、氰基、氰基c1至c6烷基、氰基c3至c6环烷基、羟基、羟基c1至c6烷基、c1至c6烷氧基c1至c6烷基、甲酰基、氨基、c1至c6烷基氨基(该氨基可经r
10
取代)、c1至c6烷基羰基、c1至c6烷氧基c1至c6烷基羰基、c3至c6环烷基羰基、c3至c6环烷基c1至c6烷基羰基、苯甲酰基(该基团可经r7单取代或多取代)、c1至c6烷氧基羰基、c1至c6卤代烷氧基羰基、c2至c6烯基氧基羰基、氨甲酰基、c1至c6烷基氨基羰基(该氨基可经r
10
取代)、c1至c6烷氧基羰基c1至c6烷基氨基(该氨基可经r
10
取代)、c1至c6烷氧基羰基氨基(该氨基可经r
10
取代)、(c1至c6烷基硫基)羰基、(c1至c6烷基)硫羰基、(c1至c6烷氧基)硫羰基、硫代氨甲酰基、c1至c6烷基氨基硫羰基(该氨基可经r
10
取代)、c1至c6烷基磺酰基、c1至c6卤代烷基磺酰基、氨磺酰基、c1至c6烷基氨基磺酰基(该氨基可经r
10
取代)、c1至c6烷氧基羰基c1至c6烷基、氨基羰基c1至c6烷基、c1至c6烷基氨基羰基c1至c6烷基(该氨基可经r
10
取代)、c3至c6环烷
基氨基羰基c1至c6烷基(该氨基可经r
10
取代)、c1至c6卤代烷基氨基羰基c1至c6烷基(该氨基可经r
10
取代)、c1至c6烷基羰基c1至c6烷基、c1至c6卤代烷基羰基c1至c6烷基、c1至c6烷基羰基氧基c1至c6烷基、c1至c6烷氧基羰基氧基c1至c6烷基、c1至c6烷氧基羰基氨基c1至c6烷基(该氨基可经c1至c6烷基取代)、羟基亚氨基、羟基亚氨基c1至c6烷基、c1至c6烷氧基亚氨基、c1至c6烷氧基亚氨基c1至c6烷基或c1至c6卤代烷氧基亚氨基c1至c6烷基，而且，r1及r2可与它们所键合的氮原子一起形成3至8元的杂环或形成具有选自氧原子、硫原子及氮原子的1至4个杂原子的3至8元的杂环，该杂环可经卤素原子、氰基、硝基、c1至c6烷基、c1至c6烷氧基、c1至c6卤代烷基或氧亚基取代；r3表示卤素原子、氰基、c1至c6烷基、c1至c6卤代烷基、c3至c6环烷基、c1至c6烷氧基或c1至c6卤代烷氧基；r4表示氢原子、卤素原子、c1至c6烷基或c1至c6卤代烷基；r5表示c1至c
12
烷基(该基团可经r6单取代或多取代)、c3至c6环烷基(该基团可经r6单取代或多取代)、c2至c6烯基(该基团可经r6单取代或多取代)或c2至c6炔基(该基团可经r6单取代或多取代)；r6表示卤素原子、c1至c6烷基、c1至c6卤代烷基、c3至c6环烷基、c3至c6卤代环烷基、羟基、c1至c6烷氧基、c1至c6卤代烷氧基、c3至c6环烷氧基、c3至c6卤代环烷氧基、c1至c6烷氧基c1至c6烷氧基、c1至c6卤代烷氧基c1至c6烷氧基、c1至c6卤代烷氧基c1至c6卤代烷氧基、硫醇基、c1至c6烷基硫基、c1至c6卤代烷基硫基、c2至c6烯基硫基、c2至c6卤代烯基硫基、c3至c6环烷基硫基、c3至c6卤代环烷基硫基、c3至c6环烷基c1至c6烷基硫基、c3至c6卤代环烷基c1至c6烷基硫基、三(c1至c6烷基)甲硅烷基c1至c6烷基硫基、c1至c6烷基硫基c1至c6烷氧基、c1至c6卤代烷基硫基c1至c6烷氧基、c1至c6烷基亚磺酰基、c1至c6卤代烷基亚磺酰基、c3至c6环烷基亚磺酰基、c3至c6卤代环烷基亚磺酰基、c1至c6烷基磺酰基、c1至c6卤代烷基磺酰基、c3至c6环烷基磺酰基、c3至c6卤代环烷基磺酰基、甲酰基、c1至c6烷基羰基、c1至c6卤代烷基羰基、苯甲酰基(该基团可经r7单取代或多取代)、c1至c6烷氧基羰基、c1至c6卤代烷氧基羰基、c1至c6烷基氨基羰基(该氨基可经r
10
取代)、c1至c6卤代烷基氨基羰基(该氨基可经r
10
取代)、c1至c6烷基氨基羰基硫基(该氨基可经r
10
取代)、c1至c6卤代烷基氨基羰基硫基(该氨基可经r
10
取代)、甲酰基氧基、c1至c6烷基羰基氧基、c1至c6卤代烷基羰基氧基、苯甲酰基氧基(该基团可经r7单取代或多取代)、c1至c6烷基亚磺酰基氧基、c1至c6卤代烷基亚磺酰基氧基、c3至c6环烷基亚磺酰基氧基、c3至c6卤代环烷基亚磺酰基氧基、苯基亚磺酰基氧基(该基团可经r7单取代或多取代)、c1至c6烷基磺酰基氧基、c1至c6卤代烷基磺酰基氧基、c3至c6环烷基磺酰基氧基、c3至c6卤代环烷基磺酰基氧基、苯基磺酰基氧基(该苯基可经r7单取代或多取代)、氨基、c1至c6烷基氨基(该氨基可经r
10
取代)、c1至c6卤代烷基氨基(该氨基可经r
10
取代)、c1至c6烷基羰基氨基(该氨基可经r
10
取代)、c1至c6卤代烷基羰基氨基(该氨基可经r
10
取代)、苯基羰基氨基(该苯基可经r7单取代或多取代，该氨基可经r
10
取代)、c1至c6烷氧基羰基氨基(该氨基可经r
10
取代)、c1至c6卤代烷氧基羰基氨基(该氨基可经r
10
取代)、c1至c6烷基氨基羰基氨基(该氨基可经r
10
取代)、c1至c6卤代烷基氨基羰基氨基(该氨基可经r
10
取代)、c1至c6烷基亚磺酰基氨基(该氨基可经r
10
取代)、c1至c6卤代烷基亚磺酰基氨基(该氨基可经r
10
取代)、苯基亚磺酰基氨基(该苯基可经r7单取代或多取代，该氨基可经r
10
取代)、c1至c6烷基磺酰基氨基(该氨基可经r
10
取代)、c1至c6卤代烷基磺酰基氨基(该氨基可经r
10
取代)、苯基磺酰基氨基
(该苯基可经r7单取代或多取代，该氨基可经r
10
取代)、c1至c6烷氧基亚氨基、三(c1至c6烷基)甲硅烷基、苯基(该基团可经r7单取代或多取代)、苯氧基(该基团可经r7单取代或多取代)、苯基c1至c6烷氧基(该苯基可经r7单取代或多取代)、苯基硫基(该基团可经r7单取代或多取代)、苯基亚磺酰基(该基团可经r7单取代或多取代)、苯基磺酰基(该基团可经r7单取代或多取代)、苯基c1至c6烷基硫基(该苯基可经r7单取代或多取代)、苯基c1至c6烷基亚磺酰基(该苯基可经r7单取代或多取代)、苯基c1至c6烷基磺酰基(该苯基可经r7单取代或多取代)、-o-n＝c(r8)(r9)基团、金刚烷基、氮杂环丁烷基(该基团的氮原子可经r
10
取代)、吡咯烷基(该基团的氮原子可经r
10
取代)、哌啶基(该基团的氮原子可经r
10
取代)、1,3-二氧杂环戊烷基、1,3-二氧杂环己烷基、吡咯基(该基团可经r7单取代或多取代)、吡唑基(该基团可经r7单取代或多取代)、咪唑基(该基团可经r7单取代或多取代)、三唑基(该基团可经r7单取代或多取代)、噁唑基(该基团可经r7单取代或多取代)、异噁唑基(该基团可经r7单取代或多取代)、噻唑基(该基团可经r7单取代或多取代)、异噻唑基(该基团可经r7单取代或多取代)、吡啶基(该基团可经r7单取代或多取代，并且该基团的氮原子可经氧化而形成n-氧化物)、嘧啶基(该基团可经r7单取代或多取代)、吡啶基氧基(该基团可经r7单取代或多取代)、四氢呋喃基(该基团可经r7单取代或多取代)、1,3-二氧代异吲哚啉基(该基团可经r7单取代或多取代)、氰基、硝基、羧基、氰硫基或氨基氧基；r7表示卤素原子、c1至c6烷基、c1至c6卤代烷基、c3至c6环烷基、c3至c6卤代环烷基、c3至c6环烷基c1至c6烷基、c3至c6卤代环烷基c1至c6烷基、c1至c6烷氧基、c1至c6卤代烷氧基、c1至c6烷基硫基、c1至c6卤代烷基硫基、c1至c6烷基亚磺酰基、c1至c6卤代烷基亚磺酰基、c1至c6烷基磺酰基、c1至c6卤代烷基磺酰基、c1至c6烷基硫基c1至c6烷基、c1至c6卤代烷基硫基c1至c6烷基、c1至c6烷基磺酰基氧基、c1至c6卤代烷基磺酰基氧基、苯基(该基团可经卤素原子、烷基、卤代烷基单取代或多取代)、苯基c1至c6烷基、苯基c1至c6烷氧基、氰基或硝基；r8、r9可相同或不同，表示氢原子、c1至c6烷基、c1至c6卤代烷基、c3至c6环烷基、c3至c6卤代环烷基或苯基(该基团可经r7单取代或多取代)，而且，r8及r9可与它们所键合的碳原子一起形成3至6元环；r
10
表示c1至c6烷基、c1至c6卤代烷基、c3至c6环烷基、c3至c6卤代环烷基、c1至c6烷氧基、c1至c6烷氧基c1至c6烷基、c1至c6卤代烷氧基c1至c6烷基、c1至c6烷氧基c1至c6烷氧基c1至c6烷基、c1至c6烷基硫基c1至c6烷基、c1至c6烷基亚磺酰基c1至c6烷基、c1至c6烷基磺酰基c1至c6烷基、c1至c6烷基硫基c1至c6烷氧基c1至c6烷基、c1至c6烷基亚磺酰基c1至c6烷氧基c1至c6烷基、c1至c6烷基磺酰基c1至c6烷氧基c1至c6烷基、氰基c1至c6烷基、氰基c1至c6烷氧基c1至c6烷基、c1至c6烷基羰基、c1至c6卤代烷基羰基、c1至c6烷氧基羰基、c1至c6卤代烷氧基羰基、c1至c6烷基氨基羰基、c1至c6卤代烷基氨基羰基、苯甲酰基(该基团可经r7单取代或多取代)、c1至c6烷基磺酰基、c1至c6卤代烷基磺酰基、c1至c6烷基羰基c1至c6烷基、c1至c6烷氧基羰基c1至c6烷基、c1至c6烷基氨基羰基c1至c6烷基、c1至c6烷基羰基氧基c1至c6烷基、c1至c6烷氧基羰基氧基c1至c6烷基、c1至c6烷氧基羰基氨基c1至c6烷基(该氨基可经c1至c6烷基取代)或5-甲基-1,3-二氧杂环戊烯-2-酮-4-基甲基。2.一种农药组合物，所述农药组合物含有如权利要求1所述的3-烷氧基苯甲酰胺衍生物或其农业上可接受的盐作为有效成分。3.如权利要求2所述的农药组合物，其中，农药组合物还含有表面活性剂。
4.一种有害生物防除剂，所述有害生物防除剂含有如权利要求1所述的3-烷氧基苯甲酰胺衍生物或其农业上可接受的盐作为活性成分。5.如权利要求4所述的有害生物防除剂，其中，有害生物防除剂是杀虫剂、杀线虫剂及杀螨剂。6.如权利要求5所述的有害生物防除剂，其中，所述有害生物防除剂对栽培农园艺用植物的水田、旱田、草坪、果园、非农耕地、温室、苗圃设施、植物工厂中的有害生物具有防除效力。7.如权利要求6所述的有害生物防除剂，其中，农园艺用植物是通过育种方法或基因重组技术赋予抗性的植物。8.一种有害生物的防除方法，所述有害生物的防除方法使用如权利要求1所述的3-烷氧基苯甲酰胺衍生物或其农业上可接受的盐的有效成分量。9.一种有害生物的防除方法，所述有害生物的防除方法使含有如权利要求1所述的3-烷氧基苯甲酰胺衍生物或其农业上可接受的盐作为有效成分的农药组合物同时或分别作用于农园艺用作物或者将要种植或正在种植农园艺用作物的场所。10.如权利要求8或9所述的有害生物的防除方法，其中，施用有害生物防除剂的场所是水田、旱田、草坪、果园、非农耕地、温室、苗圃设施、植物工厂。11.如权利要求8至10中任一项所述的有害生物的防除方法，其中，所述有害生物的防除方法使用如权利要求1所述的3-烷氧基苯甲酰胺衍生物或其农业上可接受的盐作为杀虫剂、杀线虫剂及杀螨剂。12.一种有害生物防除剂的使用方法，所述有害生物防除剂的使用方法将如权利要求4至7中任一项所述的有害生物防除剂用于防除农园艺用作物的有害生物。13.通式[ii]所示的羟基苯甲酰胺衍生物或其盐，式中，a表示氧原子或硫原子；g表示氢原子、卤素原子或c1至c6烷基；r1表示c1至c6烷基、c1至c6卤代烷基、c3至c6环烷基、c3至c6卤代环烷基、c2至c6烯基、c2至c6卤代烯基、c2至c6炔基、c2至c6卤代炔基、c1至c6烷氧基、c1至c6卤代烷氧基、c1至c6烷氧基c1至c6烷基、c3至c6环烷基c1至c6烷基、c3至c6卤代环烷基c1至c6烷基、氰基c1至c6烷基、氰基c3至c6环烷基、氰基c3至c6环烷基c1至c6烷基、氰基杂环烷基、羟基c3至c6环烷基、c1至c6烷基羰基氧基c3至c6环烷基、c1至c6烷基磺酰基氧基c3至c6环烷基、c1至c6烷氧基c3至c6环烷基、c1至c6卤代烷氧基c3至c6环烷基、c1至c6烷基硫基c3至c6环烷基、c1至c6卤代烷基硫基c3至c6环烷基、c1至c6烷基亚磺酰基c3至c6环烷基、c1至c6卤代烷基亚磺酰基c3至c6环烷基、c1至c6烷基
至c6烷氧基c1至c6烷基、c1至c6卤代烷氧基c1至c6烷基、c1至c6烷氧基c1至c6烷氧基c1至c6烷基、c1至c6烷基硫基c1至c6烷基、c1至c6烷基亚磺酰基c1至c6烷基、c1至c6烷基磺酰基c1至c6烷基、c1至c6烷基硫基c1至c6烷氧基c1至c6烷基、c1至c6烷基亚磺酰基c1至c6烷氧基c1至c6烷基、c1至c6烷基磺酰基c1至c6烷氧基c1至c6烷基、氰基c1至c6烷基、氰基c1至c6烷氧基c1至c6烷基、c1至c6烷基羰基、c1至c6卤代烷基羰基、c1至c6烷氧基羰基、c1至c6卤代烷氧基羰基、c1至c6烷基氨基羰基、c1至c6卤代烷基氨基羰基、苯甲酰基(该基团可经r7单取代或多取代)、c1至c6烷基磺酰基、c1至c6卤代烷基磺酰基、c1至c6烷基羰基c1至c6烷基、c1至c6烷氧基羰基c1至c6烷基、c1至c6烷基氨基羰基c1至c6烷基、c1至c6烷基羰基氧基c1至c6烷基、c1至c6烷氧基羰基氧基c1至c6烷基、c1至c6烷氧基羰基氨基c1至c6烷基(该氨基可经c1至c6烷基取代)或5-甲基-1,3-二氧杂环戊烯-2-酮-4-基甲基。14.通式[iii]所示的烷氧基苯甲酸衍生物或其盐，式中，g表示氢原子、卤素原子或c1至c6烷基；k表示羟基、c1至c6烷氧基或苯氧基(该基团可经r7单取代或多取代)；r3表示卤素原子、氰基、c1至c6烷基、c1至c6卤代烷基、c3至c6环烷基、c1至c6烷氧基或c1至c6卤代烷氧基；r4表示氢原子、卤素原子、c1至c6烷基或c1至c6卤代烷基；r5表示c1至c
12
烷基(该基团可经r6单取代或多取代)、c3至c6环烷基(该基团可经r6单取代或多取代)、c2至c6烯基(该基团可经r6单取代或多取代)或c2至c6炔基(该基团可经r6单取代或多取代)；r6表示卤素原子、c1至c6烷基、c1至c6卤代烷基、c3至c6环烷基、c3至c6卤代环烷基、羟基、c1至c6烷氧基、c1至c6卤代烷氧基、c3至c6环烷氧基、c3至c6卤代环烷氧基、c1至c6烷氧基c1至c6烷氧基、c1至c6卤代烷氧基c1至c6烷氧基、c1至c6卤代烷氧基c1至c6卤代烷氧基、硫醇基、c1至c6烷基硫基、c1至c6卤代烷基硫基、c2至c6烯基硫基、c2至c6卤代烯基硫基、c3至c6环烷基硫基、c3至c6卤代环烷基硫基、c3至c6环烷基c1至c6烷基硫基、c3至c6卤代环烷基c1至c6烷基硫基、三(c1至c6烷基)甲硅烷基c1至c6烷基硫基、c1至c6烷基硫基c1至c6烷氧基、c1至c6卤代烷基硫基c1至c6烷氧基、c1至c6烷基亚磺酰基、c1至c6卤代烷基亚磺酰基、c3至c6环烷基亚磺酰基、c3至c6卤代环烷基亚磺酰基、c1至c6烷基磺酰基、c1至c6卤代烷基磺酰基、c3至c6环烷基磺酰基、c3至c6卤代环烷基磺酰基、甲酰基、c1至c6烷基羰基、c1至c6卤代烷基羰基、苯甲酰基(该基团可经r7单取代或多取代)、c1至c6烷氧基羰基、c1至c6卤代烷氧基羰基、c1至c6烷基氨基羰基(该氨基可经r
10
取代)、c1至c6卤代烷基氨基羰基(该氨基可经r
10
取代)、c1至c6烷基氨基羰基硫基(该氨基可经r
10
取代)、c1至c6卤代烷基氨基羰基硫基(该氨基可经r
10
取代)、甲
至c6烷氧基c1至c6烷基、c1至c6卤代烷氧基c1至c6烷基、c1至c6烷氧基c1至c6烷氧基c1至c6烷基、c1至c6烷基硫基c1至c6烷基、c1至c6烷基亚磺酰基c1至c6烷基、c1至c6烷基磺酰基c1至c6烷基、c1至c6烷基硫基c1至c6烷氧基c1至c6烷基、c1至c6烷基亚磺酰基c1至c6烷氧基c1至c6烷基、c1至c6烷基磺酰基c1至c6烷氧基c1至c6烷基、氰基c1至c6烷基、氰基c1至c6烷氧基c1至c6烷基、c1至c6烷基羰基、c1至c6卤代烷基羰基、c1至c6烷氧基羰基、c1至c6卤代烷氧基羰基、c1至c6烷基氨基羰基、c1至c6卤代烷基氨基羰基、苯甲酰基(该基团可经r7单取代或多取代)、c1至c6烷基磺酰基、c1至c6卤代烷基磺酰基、c1至c6烷基羰基c1至c6烷基、c1至c6烷氧基羰基c1至c6烷基、c1至c6烷基氨基羰基c1至c6烷基、c1至c6烷基羰基氧基c1至c6烷基、c1至c6烷氧基羰基氧基c1至c6烷基、c1至c6烷氧基羰基氨基c1至c6烷基(该氨基可经c1至c6烷基取代)或5-甲基-1,3-二氧杂环戊烯-2-酮-4-基甲基。

技术总结
本发明提供具有优异的有害生物防除效果的3-烷氧基苯甲酰胺衍生物或其盐、含有其作为有效成分的有害生物防除剂及制造中间体。提供下述通式[I]所示的3-烷氧基苯甲酰胺衍生物或其盐；以及有害生物防除剂，其特征在于，所述有害生物防除剂含有其作为有效成分：[式中，A表示氧原子或硫原子；G表示氢原子、卤素原子或C1至C6烷基；R1表示C1至C6烷基、C3至C6环烷基等；R2表示氢原子等；R3表示卤素原子、C1至C6烷基等；R4表示卤素原子、C1至C6烷基等；R5表示C1至C


技术研发人员：田中皓祐 樱井栄 榎本幸浩 鸟谷部启二 新井宏和 中根悠辅 松田武 高根泽阳 小池周佑 北原骏介 务川重之
受保护的技术使用者：组合化学工业株式会社
技术研发日：2021.01.29
技术公布日：2022/9/13